ST11220 Cible rotative en zinc, cible en zinc

Cible rotative en zinc, cible en zinc Description

La cible rotative en zinc, cible en zinc, est une cible de pulvérisation fabriquée à partir de zinc de haute pureté (Zn) d'un poids atomique de 65,38 g/mol. Sa conception rotative permet une érosion régulière pendant la pulvérisation, ce qui conduit à un dépôt uniforme de couches minces. Les dimensions personnalisables de la cible lui permettent d'être intégrée à divers systèmes de pulvérisation, ce qui la rend adaptée aux applications de matériaux précis dans la fabrication de semi-conducteurs et les domaines connexes.

Cible rotative en zinc, caractéristiques de la cible en zinc

*Les informations ci-dessus sont basées sur des données théoriques et ne sont données qu'à titre indicatif. Les spécifications réelles peuvent varier.

Cible rotative en zinc, cible en zinc Applications

Électronique
- Utilisée comme source de pulvérisation dans la fabrication de semi-conducteurs pour obtenir un dépôt uniforme de couches minces en tirant parti de son mécanisme de rotation pour une érosion régulière du matériau.

Industrie
- Appliquée dans les systèmes de revêtement de surface pour atténuer la corrosion en utilisant sa couche de zinc de haute pureté, ce qui permet d'améliorer l'uniformité du film sur les composants de grande surface.

Cible rotative en zinc, emballage de cible en zinc

La cible rotative en zinc, cible en zinc est emballée dans un conteneur résistant à l'humidité avec un revêtement intérieur absorbant les chocs pour éviter les dommages mécaniques. La cible est enveloppée dans un matériau de qualité salle blanche pour minimiser la contamination et stockée dans un environnement contrôlé et sec. Des options d'emballage personnalisées, y compris le scellement sous vide et des tailles de caisses sur mesure, sont disponibles sur demande.

Informations complémentaires

Les cibles de pulvérisation jouent un rôle essentiel dans les processus de dépôt de couches minces utilisés dans les applications semi-conductrices, photovoltaïques et d'affichage. Il est essentiel de comprendre le comportement du matériau pendant la pulvérisation pour contrôler les taux de dépôt et obtenir des films uniformes.

Les progrès réalisés dans la fabrication des cibles, tels que la technique de traitement rotatif, permettent de maintenir la pureté des matériaux et la précision des dimensions. Ces développements contribuent à rendre les processus de dépôt plus efficaces et à améliorer les performances dans divers contextes de fabrication industrielle.