ST11218 Cible rotative au vanadium, V Target

Cible rotative au vanadium, cible V Description

La cible rotative au vanadium, cible V, est une cible de pulvérisation fabriquée à partir de vanadium de haute pureté (poids atomique de 50,94 g/mol) qui utilise un mécanisme rotatif pour obtenir une érosion uniforme pendant le dépôt. La conception permet un contrôle précis de l'épaisseur du film et réduit l'usure localisée. Ses dimensions personnalisables garantissent l'intégration dans les systèmes de pulvérisation standard, ce qui constitue une solution efficace pour le traitement cohérent des couches minces.

Cible rotative au vanadium, V Caractéristiques de la cible

*Les informations ci-dessus sont basées sur des données théoriques et ne sont données qu'à titre indicatif. Les spécifications réelles peuvent varier.

Cible rotative au vanadium, cible V Applications

Applications industrielles de pulvérisation
- Utilisée comme cible de pulvérisation dans les systèmes de dépôt de couches minces pour obtenir une couverture uniforme du film en tirant parti de sa conception rotative, qui répartit uniformément l'érosion et améliore la stabilité du processus.
- Utilisée dans les équipements de traitement des semi-conducteurs pour minimiser les dommages localisés dus à la pulvérisation et améliorer l'uniformité globale du dépôt.

Recherche et développement
- Utilisé comme échantillon de test dans les expériences de pulvérisation pour étudier la dynamique de l'érosion des matériaux, ses dimensions personnalisables facilitant l'expérimentation sur mesure.
- Utilisé comme matériau de référence dans les études d'optimisation des processus en raison de ses caractéristiques prévisibles d'érosion et de dépôt.

Cible rotative au vanadium, cible V Emballage

La cible rotative au vanadium, cible V, est emballée dans un conteneur antistatique scellé avec un rembourrage en mousse intégré pour réduire les chocs mécaniques et prévenir la contamination de la surface. L'emballage est conçu pour un stockage contrôlé dans un environnement sec et à température régulée afin de minimiser les risques d'oxydation. Des options d'emballage personnalisées, y compris le remplissage de gaz inerte et l'étiquetage spécial, sont disponibles pour répondre à des exigences de manipulation spécifiques.

Informations complémentaires

Le vanadium, avec son point de fusion élevé et ses propriétés mécaniques distinctes, est largement utilisé dans les applications qui exigent des processus de pulvérisation stables. Sa résistance à la dégradation thermique et sa compatibilité avec les environnements à vide poussé en font un matériau privilégié dans les techniques avancées de dépôt de couches minces.

Au-delà des cibles de pulvérisation, le vanadium est également incorporé dans les formulations d'alliages et les composants structurels où la durabilité et la microstructure contrôlée sont essentielles. Les chercheurs et les ingénieurs continuent d'explorer son utilité dans divers environnements corrosifs et à haute température.