ST11216 Cible planaire en siliciure de tantale, cible TaSi2

Cible planaire au siliciure de tantale, cible TaSi2 Description

La cible planaire de siliciure de tantale, cible TaSi2, est fabriquée à partir d'un composé TaSi2 par un processus de planarisation contrôlé. La cible est conçue pour présenter une microstructure uniforme avec des dimensions personnalisables qui permettent le dépôt reproductible de couches minces. Cette uniformité de la structure et de la composition des grains joue un rôle essentiel dans l'obtention d'une épaisseur de film uniforme et d'une reproductibilité élevée du dépôt dans le traitement des semi-conducteurs et d'autres applications de revêtement avancées.

Cible planaire en siliciure de tantale, TaSi2 Caractéristiques de la cible

Les informations ci-dessus sont basées sur des données théoriques et ne sont données qu'à titre indicatif. Les spécificationsréelles peuvent varier.

Cible planaire en siliciure de tantale, cible TaSi2 Applications

1.électronique et semi-conducteurs
- Utilisée comme source de pulvérisation dans les systèmes de dépôt de semi-conducteurs pour obtenir des couches de film uniformes en tirant parti de sa microstructure contrôlée. Cette application minimise la contamination par les particules et améliore l'uniformité des couches.

2.traitement industriel
- Appliqué comme cible dans les systèmes de revêtement pour améliorer la durabilité de la surface des composants industriels. Sa composition adaptée et sa structure de grain planaire favorisent un transfert d'énergie efficace pendant la pulvérisation, réduisant ainsi la variabilité du processus.

3)Recherche et développement
- Sert d'échantillon dans les études avancées sur les couches minces afin d'analyser le comportement du dépôt. Les dimensions personnalisables permettent une optimisation précise des montages expérimentaux, ce qui facilite l'évaluation détaillée des performances des matériaux.

Cible planaire de siliciure de tantale, TaSi2 Emballage de la cible

La cible est emballée dans un conteneur antistatique protecteur avec un rembourrage en mousse pour éviter les dommages mécaniques pendant le transport. Elle est scellée dans des sacs de protection contre l'humidité et fixée dans une boîte extérieure rigide pour minimiser la contamination. Il est recommandé de stocker la cible dans un environnement frais et sec. Des options d'emballage personnalisées, telles que des conteneurs scellés sous vide ou climatisés, sont disponibles sur demande.

Informations complémentaires

Le développement de cibles de pulvérisation comme la cible planaire de siliciure de tantale, cible TaSi2, implique une compréhension approfondie des propriétés des matériaux et des techniques de traitement. Le contrôle de paramètres tels que la structure et la composition des grains influence directement les performances de dépôt et l'uniformité du film dans les applications industrielles et de recherche.

Les principes de la science des matériaux sont à la base de la production et de l'utilisation des cibles TaSi2. Des études détaillées sur les propriétés thermiques et électriques, ainsi que sur l'intégrité de la microstructure, guident les progrès en matière de dépôt de couches minces. Cette compréhension soutient l'amélioration continue des processus de fabrication des cibles, garantissant la compatibilité avec les applications exigeantes des semi-conducteurs et des revêtements.