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Stanford Advanced Materials
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ST11215 Cible planaire en carbure de tantale, cible TaC

Catalogue No. ST11215
Composition TaC
Pureté ≥99,9%, ou personnalisé
Formulaire Cible
Forme Rectangulaire
Dimensions Sur mesure

La cible planaire en carbure de tantale, TaC Target, est fabriquée par frittage réactif contrôlé afin de produire une microstructure uniforme adaptée aux applications de pulvérisation. Stanford Advanced Materials (SAM) utilise la microscopie électronique et la diffraction des rayons X dans son processus de contrôle de la qualité pour vérifier les tolérances de composition et la structure des grains. Cette méthodologie permet d'obtenir l'uniformité microstructurale nécessaire pour un dépôt de film reproductible.

ENQUÊTE
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Description
Spécifications
Avis

FAQ

Comment la microstructure de la cible TaC influence-t-elle ses performances de pulvérisation ?

La microstructure affecte directement le rendement de la pulvérisation et l'uniformité du dépôt du film. Une distribution bien contrôlée des grains permet une érosion stable pendant la pulvérisation, minimisant ainsi la production de particules et garantissant des caractéristiques prévisibles pour les films minces. Pour plus de détails, contactez-nous.

Quelles sont les méthodes de contrôle de la qualité mises en œuvre lors de la fabrication de la cible TaC ?

Le contrôle de la qualité comprend l'analyse par microscopie électronique et par diffraction des rayons X pour vérifier l'intégrité de la microstructure et la tolérance de la composition. Ces évaluations permettent de détecter les variations de taille et de densité des grains et de s'assurer que la cible répond aux exigences rigoureuses des processus de pulvérisation. Pour plus d'informations, contactez-nous.

Quel est l'impact de l'option de dimensions personnalisables sur la compatibilité avec les systèmes de pulvérisation ?

Les dimensions personnalisables permettent d'adapter la cible à des géométries de chambre spécifiques. Cette flexibilité garantit un alignement correct avec l'équipement de dépôt, facilitant une érosion uniforme sur la surface de la cible pendant la pulvérisation. Pour des spécifications techniques supplémentaires, contactez-nous.

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