ST11214 Cible planaire en tantale, cible Ta

Cible planaire en tantale, description de la cible Ta

La cible planaire de tantale, cible Ta, est fabriquée à partir de tantale de haute pureté avec une finition de surface planaire soigneusement contrôlée et optimisée pour la pulvérisation cathodique. Les dimensions adaptées du produit garantissent sa compatibilité avec les systèmes de dépôt standard, tandis que sa microstructure contrôlée minimise la contamination particulaire pendant les processus de revêtement, ce qui facilite la formation efficace de couches dans la fabrication de semi-conducteurs et d'autres applications industrielles où le dépôt uniforme de films est essentiel.

Cible planaire en tantale, Ta Caractéristiques de la cible

*Les informations ci-dessus sont basées sur des données théoriques et ne sont données qu'à titre indicatif. Les spécifications réelles peuvent varier.

Cible planaire en tantale, cible Ta Applications

1.électronique
- Utilisée comme cible de pulvérisation dans les systèmes de dépôt de semi-conducteurs pour obtenir des couches minces uniformes en tirant parti de la microstructure contrôlée du matériau. Cette approche minimise les défauts de surface et améliore l'homogénéité du revêtement.

2)Revêtements industriels
- Appliqué comme cible principale dans les systèmes de dépôt physique en phase vapeur pour produire des revêtements décoratifs ou fonctionnels durables. Sa grande pureté et son point de fusion stable facilitent la formation d'un film homogène, ce qui est essentiel pour les performances dans les environnements industriels.

Cible planaire en tantale, emballage de la cible Ta

Cette cible planaire de tantale est emballée dans des conteneurs antistatiques conçus sur mesure et dotés d'un rembourrage en mousse afin d'atténuer les chocs mécaniques et les risques de contamination. Chaque cible est scellée dans un sac de protection contre l'humidité avec des déshydratants pour contrôler l'humidité. Des options d'emballage personnalisées, y compris des inserts en mousse compartimentés et des boîtes étiquetées, sont disponibles. Pour une conservation optimale, les cibles doivent être stockées dans un environnement à température contrôlée et à l'abri de la poussière.

Informations complémentaires

Le tantale est un métal réfractaire connu pour sa résistance à la corrosion et son point de fusion élevé. Comprendre la relation entre le contrôle de la microstructure et la pureté du matériau est essentiel pour obtenir une croissance uniforme du film dans les semi-conducteurs et les applications industrielles.

Les progrès des techniques de traitement des matériaux continuent d'améliorer les performances des cibles de pulvérisation. Les chercheurs et les ingénieurs se concentrent sur l'optimisation de paramètres tels que la taille des grains et l'état de surface afin d'améliorer l'efficacité du dépôt et la qualité du film. Ces efforts contribuent au domaine plus large des applications des métaux non ferreux, où la précision des caractéristiques des matériaux est primordiale.