ST11212 Cible rotative en étain, cible Sn

Cible rotative en étain, cible Sn Description

La cible rotative en étain, Sn Target, est fabriquée à partir d'étain de haute pureté traité selon des techniques métallurgiques contrôlées afin d'obtenir une composition uniforme et des caractéristiques dimensionnelles sur mesure. Les propriétés intrinsèques du matériau facilitent le dépôt d'un film stable tout en minimisant la contamination particulaire. Une évaluation détaillée de la qualité, comprenant une vérification de la surface et une analyse métallographique, assure la cohérence des applications de pulvérisation. Ses dimensions personnalisées garantissent la compatibilité avec les systèmes de pulvérisation standard dans les environnements industriels.

Cible rotative en étain, Sn Caractéristiques de la cible

Les informations ci-dessus sont basées sur des données théoriques et ne sont données qu'à titre indicatif. Les spécifications réelles peuvent varier.

Cible rotative en étain, cible Sn Applications

1.électronique
- Utilisée comme cible de pulvérisation dans la fabrication de semi-conducteurs pour obtenir un dépôt uniforme de film d'étain en tirant parti de sa microstructure contrôlée.

2)Revêtements industriels
- Appliquée comme matériau de revêtement dans les finitions décoratives pour l'électronique grand public afin de garantir une épaisseur de film uniforme grâce à un contrôle dimensionnel personnalisé.

3)Composants automobiles
- Sert de cible dans les systèmes de pulvérisation pour le dépôt de fines couches protectrices d'étain sur les composants, atténuant la corrosion grâce à sa composition raffinée.

Cible rotative en étain, cible Sn Emballage

La cible rotative en étain, Sn Target est emballée dans des supports protecteurs dotés d'un scellement anti-contamination et d'un emballage sous gaz inerte pour prévenir l'oxydation. Le produit est stocké dans un emballage résistant à l'humidité et à température contrôlée qui minimise les dommages mécaniques. Des options d'emballage personnalisables, comprenant un étiquetage clair des lots et des informations sur les dangers, sont disponibles pour répondre aux exigences spécifiques en matière d'expédition et de manutention.

Informations complémentaires

Les cibles de pulvérisation d'étain jouent un rôle crucial dans les processus de dépôt de film, où la pureté et l'uniformité du matériau influencent directement les performances du revêtement. Le processus de production implique généralement des techniques métallurgiques avancées et des évaluations rigoureuses de la qualité afin de minimiser les impuretés et de garantir l'homogénéité.

Il est essentiel de comprendre le comportement de l'étain dans les conditions de pulvérisation pour optimiser les paramètres de dépôt. La recherche industrielle continue d'affiner ces processus, améliorant ainsi les performances des applications de couches minces dans divers secteurs industriels.