ST11206 Cible planaire en plomb, cible en plomb

Cible planaire en plomb, cible en Pb Description

La cible planaire en plomb, cible en Pb, est une cible de pulvérisation composée principalement de plomb (Pb) dont les dimensions peuvent être personnalisées pour répondre à des exigences de dépôt spécifiques. Sa géométrie planaire permet une pulvérisation uniforme et cruciale pour une production constante de films minces. Fabriquée par des procédés métallurgiques contrôlés et des inspections de surface, cette cible permet d'optimiser l'épaisseur et l'homogénéité du dépôt, ce qui convient à la recherche avancée et aux applications industrielles de pulvérisation.

Cible planaire en plomb, Pb Caractéristiques de la cible

*Les informations ci-dessus sont basées sur des données théoriques et ne sont données qu'à titre indicatif. Les spécifications réelles peuvent varier.

Cible planaire en plomb, cible en plomb Applications

Électronique
- Utilisée comme source de pulvérisation dans la fabrication d'interconnexions de semi-conducteurs pour obtenir un dépôt uniforme de films de plomb en tirant parti de sa géométrie plane.
- Utilisée dans la fabrication de capteurs pour déposer des films de plomb d'épaisseur contrôlée, ce qui améliore la sensibilité des dispositifs.

Industrie
- Utilisée comme source de revêtement dans la production de couches résistantes à la corrosion sur des composants industriels, optimisant l'uniformité du film grâce à une pulvérisation contrôlée.

Recherche
- Fréquemment utilisée en R&D pour des études expérimentales sur les couches minces afin d'évaluer l'impact des dimensions personnalisées de la cible sur le comportement du dépôt, ce qui permet d'affiner les paramètres du processus.

Cible planaire en plomb, emballage de cible en plomb

Les cibles planaires en plomb et les cibles en plomb sont emballées dans des conteneurs antistatiques et résistants à l'humidité avec des inserts en mousse moulée pour la protection mécanique. L'emballage minimise les risques de contamination grâce à des sacs en polyéthylène scellés et des boîtes extérieures rigides. Des options d'étiquetage personnalisé et de traçabilité des lots sont disponibles. Le produit doit être stocké dans un environnement propre et sec, à des conditions ambiantes contrôlées, afin de préserver l'intégrité de sa surface pendant le transport et le stockage.

Informations complémentaires

Les cibles de pulvérisation jouent un rôle essentiel dans les techniques de dépôt de couches minces, les cibles planes assurant une distribution uniforme du plasma et des qualités de film constantes. Il est essentiel de comprendre l'interaction entre les propriétés du matériau de la cible et la dynamique du plasma pour optimiser les paramètres de dépôt dans diverses applications industrielles, électroniques et de recherche.

Les progrès de la science des matériaux ont permis d'affiner la production des cibles de pulvérisation, en mettant l'accent sur la planéité de la surface, la pureté et la précision des dimensions. Ces facteurs contribuent de manière significative à la stabilité du processus et à l'uniformité du film, qui sont vitales pour les applications nécessitant un dépôt de couche précis dans les technologies de la microélectronique et des capteurs.