ST11201 Cible rotative en nickel, cible en nickel

Cible rotative en nickel, cible en nickel Description

La cible rotative en nickel, cible Ni, est une cible de pulvérisation fabriquée à partir de nickel élémentaire de haute pureté (Ni). La configuration rotative de la cible assure une érosion régulière du matériau et une dissipation efficace de la chaleur pendant le processus de pulvérisation. Des spécifications dimensionnelles personnalisées assurent la compatibilité avec divers systèmes de dépôt, favorisant une épaisseur de film constante et un dépôt uniforme. Ces caractéristiques techniques contribuent directement à la stabilité du processus et à l'intégration de l'équipement.

Cible rotative en nickel, caractéristiques de la cible en nickel

*Les informations ci-dessus sont basées sur des données théoriques et ne sont données qu'à titre indicatif. Les spécifications réelles peuvent varier.

Cible rotative en nickel, cible en nickel Applications

1.électronique
- Utilisée comme source de pulvérisation dans le dépôt de couches minces de semi-conducteurs pour obtenir une croissance uniforme du film en tirant parti du mouvement rotatif de la cible.
- Utilisée comme élément de revêtement dans la fabrication de panneaux d'affichage pour assurer une couverture uniforme grâce à une érosion constante.

2.traitement industriel
- Utilisé comme cible de revêtement dans les systèmes de modification de surface pour améliorer la résistance à la corrosion en utilisant le dépôt uniforme fourni par l'action rotative.
- Utilisé dans les systèmes de dépôt sous vide pour la fabrication de composants résistants à la corrosion, pour obtenir une épaisseur de film uniforme et un meilleur contrôle du processus.

3.recherche et développement
- Mis en œuvre dans des expériences de pulvérisation analytique pour étudier la dynamique du dépôt en appliquant des caractéristiques d'érosion contrôlées.
- Utilisé dans des projets à l'échelle du laboratoire pour étudier les effets de la conception de la cible sur la morphologie du film, en bénéficiant des dimensions personnalisables.

Cible rotative en nickel, cible en nickel Emballage

Les cibles rotatives en nickel, les cibles en nickel sont emballées dans un emballage protecteur antistatique et placées dans des conteneurs doublés de mousse afin d'éviter les dommages mécaniques et la contamination de la surface. L'emballage est conçu pour minimiser l'exposition à l'humidité et aux particules en suspension dans l'air. Le stockage recommandé est dans un environnement contrôlé et sec. Des options d'emballage personnalisé, y compris le scellement sous vide et l'étiquetage spécifique, sont disponibles sur demande.

Informations complémentaires

Le nickel reste un matériau essentiel dans le domaine du dépôt par pulvérisation cathodique en raison de ses excellentes propriétés électriques et thermiques. La compréhension du comportement du nickel au cours des processus à haute énergie permet d'optimiser l'uniformité et l'adhérence des films dans diverses applications industrielles.

En outre, la conception des cibles de pulvérisation joue un rôle important dans l'adaptation des caractéristiques de dépôt. Les progrès réalisés dans les configurations de cibles rotatives permettent une érosion cohérente et un transfert contrôlé des matériaux, ce qui favorise la fabrication de films de haute précision dans les domaines de l'électronique, de l'ingénierie des surfaces et de la recherche.