ST11194 Manganese Rotary Target, Mn Target

Cible rotative en manganèse, cible Mn Description

La cible rotative au manganèse, cible Mn, est conçue pour les applications de pulvérisation, utilisant du manganèse de haute pureté pour produire des films minces uniformes. La composition chimique contrôlée de la cible et sa conception personnalisée permettent une érosion stable pendant la pulvérisation, ce qui se traduit par une épaisseur de film précise et une émission minimale de particules. Sa construction est optimisée pour s'intégrer aux systèmes de pulvérisation standard, répondant ainsi aux exigences techniques des processus de dépôt avancés.

Cible rotative en manganèse, cible Mn Caractéristiques

*Les informations ci-dessus sont basées sur des données théoriques et ne sont données qu'à titre indicatif. Les spécifications réelles peuvent varier.

Cible rotative en manganèse, Cible Mn Applications

Traitement de l'électronique et des semi-conducteurs
- Utilisée comme source de pulvérisation dans les systèmes de dépôt de semi-conducteurs pour obtenir une couverture uniforme du film de manganèse en utilisant sa composition contrôlée et ses dimensions adaptées.

Revêtements industriels
- Appliqué comme cible de dépôt dans les processus de revêtement pour produire des couches résistantes à l'usure, traitant les problèmes de friction de surface en utilisant ses caractéristiques d'érosion stables.

Cible rotative en manganèse, Mn Target Packing

La cible rotative en manganèse, cible Mn, est emballée dans des conteneurs scellés et antistatiques avec un rembourrage en mousse pour minimiser les chocs mécaniques et prévenir la contamination. L'emballage comprend une pellicule protectrice inerte sur la surface de la cible et est étiqueté avec des instructions de stockage. Les produits sont maintenus à une température et une humidité contrôlées afin de préserver les propriétés des matériaux. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre à des exigences logistiques spécifiques.

Informations complémentaires

Le manganèse reste un matériau important dans les processus de dépôt en raison de ses caractéristiques chimiques uniques et de son comportement dans la formation de couches minces. La pureté contrôlée du manganèse est essentielle dans les applications qui exigent une minimisation des impuretés et une meilleure uniformité du film.

Dans les applications de pulvérisation, les propriétés matérielles du manganèse, telles que son point de fusion et sa densité, influencent la dynamique du dépôt et les taux d'érosion. La compréhension de ces propriétés aide les ingénieurs à optimiser les paramètres du processus, à garantir la compatibilité avec divers substrats et équipements de traitement, tout en répondant aux besoins de la recherche et de la fabrication industrielle.