ST11191 Cible rotative à l'indium, en cible

Cible rotative pour l'indium, dans la cible Description

La cible rotative en indium est utilisée dans les systèmes de dépôt physique en phase vapeur pour la formation de films d'indium. Fabriquée à partir d'indium (In) de haute pureté, sa configuration rotative assure une érosion régulière et un rendement constant du matériau. Les dimensions personnalisées s'adaptent aux exigences spécifiques de l'équipement, et le produit est traité par fusion à l'arc sous vide contrôlée et profilage de la surface pour réduire la contamination particulaire, ce qui favorise une production fiable de couches minces.

Cible rotative en indium, caractéristiques de la cible

*Les informations ci-dessus sont basées sur des données théoriques et ne sont données qu'à titre indicatif. Les spécifications réelles peuvent varier.

Cible rotative en indium, dans les applications de cible

Électronique et semi-conducteurs
- Utilisée comme cible de pulvérisation dans la fabrication d'écrans plats pour obtenir un dépôt uniforme de film d'indium en tirant parti de sa configuration rotative.

Photovoltaïque
- Utilisée comme cible dans la fabrication de cellules solaires à couche mince pour maintenir une épaisseur de couche d'indium constante grâce à une conception dimensionnelle personnalisée.

Revêtements industriels
- Sert de support de dépôt dans les processus de revêtement pour améliorer l'uniformité du film en utilisant son profil d'érosion contrôlé.

Cible rotative en indium, emballage en cible

La cible rotative à l'indium, dans la cible, est emballée dans un conteneur scellé et rembourré avec un revêtement antistatique et une protection contre l'humidité. L'emballage est conçu pour éviter les dommages mécaniques et la contamination par les particules pendant le transport et le stockage. Les conditions de stockage recommandées sont un environnement frais et sec afin de préserver l'intégrité du matériau. Des options d'étiquetage personnalisé et de manutention spécialisée sont disponibles pour répondre à des besoins logistiques spécifiques.

Informations complémentaires

L'indium, un métal de post-transition à bas point de fusion, est largement utilisé dans les applications de pulvérisation cathodique en raison de sa malléabilité et de ses propriétés électriques favorables. Son application dans le dépôt de couches minces nécessite un contrôle minutieux des paramètres du processus afin de garantir l'uniformité et l'adhérence, en particulier dans la fabrication de semi-conducteurs et d'appareils optiques.

Il est essentiel de comprendre le rôle de la conception des cibles dans les processus de dépôt physique en phase vapeur pour optimiser les caractéristiques des films. Les méthodes d'analyse avancées telles que le MEB et la profilométrie de surface font partie intégrante de l'évaluation de la qualité de la surface de la cible, garantissant que le matériau répond aux exigences précises des techniques de fabrication modernes.