ST11188 Cible rotative en fer, Fe Target

Cible rotative en fer, cible Fe Description

La cible rotative en fer, cible Fe, est une cible de pulvérisation composée de fer de haute pureté (Fe) et fabriquée selon des spécifications dimensionnelles strictes. Sa conception personnalisable garantit sa compatibilité avec les divers systèmes de pulvérisation utilisés dans les industries des semi-conducteurs et des revêtements. SAM utilise un contrôle de qualité spectrométrique rigoureux pour surveiller l'uniformité du matériau, ce qui est essentiel pour les applications qui exigent une épaisseur de couche précise et une densité de défauts minimale.

Cible rotative en fer, caractéristiques de la cible en fer

*Les informations ci-dessus sont basées sur des données théoriques et ne sont données qu'à titre indicatif. Les spécifications réelles peuvent varier.

Cible rotative en fer, cible en fer Applications

Électronique
- Utilisée comme cible de dépôt dans les systèmes de pulvérisation pour la fabrication de dispositifs à semi-conducteurs afin d'obtenir une épaisseur de film constante en tirant parti de la pureté contrôlée du matériau.

Industrie
- Utilisée comme matériau de base pour les revêtements protecteurs sur les composants structurels afin d'améliorer la résistance à la corrosion en utilisant des dimensions personnalisables et une composition uniforme.

Énergie
- Sert de cible pour la fabrication de noyaux magnétiques dans les dispositifs de conversion d'énergie afin d'améliorer les performances magnétiques en capitalisant sur les caractéristiques de dépôt stable du fer.

Cible rotative en fer, cible en fer Emballage

La cible rotative en fer, cible Fe, est emballée dans des conteneurs antistatiques et résistants à l'humidité, avec des inserts doublés de mousse pour éviter les dommages pendant le transport et le stockage. Un emballage protecteur en polyéthylène minimise l'oxydation et la contamination particulaire. L'emballage garantit que la cible reste dans un environnement contrôlé, et des options d'emballage personnalisé, y compris l'étiquetage et les arrangements compartimentés, sont disponibles pour répondre à des exigences de manipulation spécifiques.

Informations complémentaires

Les cibles en fer sont des composants essentiels des systèmes de dépôt par pulvérisation cathodique, où la pureté du matériau et la précision des dimensions ont un impact direct sur les propriétés du film. La libération contrôlée d'atomes à partir d'une cible de fer permet d'obtenir des couches de revêtement régulières et de réduire la formation de défauts dans les films minces.

Les progrès des techniques de production permettent un contrôle précis des propriétés des cibles, ce qui favorise l'amélioration des performances dans la fabrication des semi-conducteurs et les applications de revêtement industriel.