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Stanford Advanced Materials
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ST11186 Cible rotative cuivre nickel titane, cible CuNiTi

Catalogue No. ST11186
Composition Cu, Ni, Ti
Pureté ≥99,9%, ou personnalisé
Formulaire Cible
Forme Tubulaire
Dimensions Sur mesure

La cible rotative cuivre-nickel-titane (CuNiTi Target) est une cible de pulvérisation à éléments multiples conçue pour les processus de dépôt de couches minces. Le produit est fabriqué par Stanford Advanced Materials (SAM), qui utilise un contrôle systématique de la composition des alliages et une analyse détaillée de la microstructure au moyen de la microscopie électronique. Le contrôle de la qualité comprend des essais de composition rigoureux et une inspection des défauts en ligne afin de réduire la variabilité. Les étapes précises du traitement améliorent l'uniformité du film et contribuent à des taux de dépôt constants pour les installations industrielles de pulvérisation cathodique.

ENQUÊTE
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Description
Spécifications
Avis

FAQ

Comment la microstructure de la cible CuNiTi influence-t-elle le processus de pulvérisation ?

La microstructure affecte directement l'uniformité du film et les taux de dépôt. Une structure de grain raffinée minimise la production de particules pendant la pulvérisation. Une analyse détaillée à l'aide du MEB permet d'optimiser les paramètres de traitement afin de réduire la densité des défauts. Pour plus de détails, contactez-nous.

Quel rôle joue la composition précise de l'alliage dans les performances de dépôt du film ?

La composition précise de l'alliage garantit un comportement stable de la pulvérisation en contrôlant le transfert d'énergie à la surface de la cible. Cela permet d'obtenir des taux d'érosion constants et une meilleure adhérence du film sur les substrats. Contactez-nous pour plus d'informations techniques.

Quelles sont les techniques de production utilisées pour réduire les défauts de la cible rotative ?

La cible est traitée à l'aide de techniques de moulage contrôlé et de forgeage rotatif, suivies d'une planarisation de la surface. Ces méthodes réduisent efficacement les inclusions et les microfissures, contribuant ainsi à la stabilité des paramètres de pulvérisation. Pour plus de détails, contactez-nous.

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