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  • ST11185 Cible rotative cuivre-manganèse, cible CuMn

    • ST11185 Cible rotative cuivre-manganèse, cible CuMn

    Catalogue No. ST11185
    Composition Cu, Mn
    Pureté ≥99,9%, ou personnalisé
    Formulaire Cible
    Forme Tubulaire
    Dimensions Sur mesure

    La cible rotative cuivre-manganèse, CuMn Target, est une cible de pulvérisation mécanique composée d'un alliage cuivre-manganèse dont l'équilibre de la composition est contrôlé. Stanford Advanced Materials (SAM) utilise une vérification systématique des matériaux et des tests d'intégrité de la surface pour évaluer la cohérence de la composition. Le processus de fabrication comprend des étapes rigoureuses de traitement métallurgique et de validation, garantissant que la cible respecte des tolérances précises pour un dépôt uniforme par pulvérisation. Les procédures établies par SAM garantissent des performances constantes lors de la fabrication de couches minces.

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    FAQ

    Comment le rapport cuivre-manganèse affecte-t-il le dépôt par pulvérisation cathodique ?

    Le rapport spécifique détermine le rendement de la pulvérisation et le comportement du plasma. L'ajustement de la composition entre le cuivre et le manganèse peut optimiser la vitesse de dépôt et l'uniformité du film, ce qui le rend essentiel pour les processus où la précision de la composition est critique.

    Quels sont les facteurs qui influencent le taux d'usure d'une cible de pulvérisation rotative ?

    L'usure de la cible est influencée par la densité du plasma, les réglages de puissance et la vitesse de rotation. Une conception contrôlée et des propriétés de matériaux cohérentes permettent de maintenir une érosion uniforme, ce qui est essentiel pour la constance du dépôt à long terme.

    Comment intégrer cette cible de pulvérisation dans les systèmes existants ?

    L'intégration nécessite de vérifier les dimensions de la cible et la compatibilité du montage avec la chambre de pulvérisation. En outre, il est conseillé d'ajuster les paramètres opérationnels tels que le courant et la pression pour qu'ils correspondent au profil de dépôt défini pour la cible. Pour des conseils spécifiques à un système, contactez-nous.

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