ST11183 Cible rotative cuivre-gallium, cible CuGa

Cible rotative cuivre-gallium, cible CuGa Description

La cible rotative cuivre-gallium, cible CuGa, est fabriquée à partir d'un alliage cuivre-gallium dont la composition élémentaire est strictement contrôlée. Les dimensions personnalisables de la cible permettent de l'intégrer dans des systèmes de dépôt par pulvérisation cathodique standard tout en garantissant une érosion uniforme du matériau pendant le fonctionnement. Cette formulation permet d'obtenir des conditions de plasma cohérentes et un film uniforme pendant les processus de dépôt, ce qui la rend adaptée aux applications à l'échelle industrielle où la stabilité du matériau et un comportement d'érosion précis sont essentiels.

Cible rotative cuivre-gallium, cible CuGa Caractéristiques

*Les informations ci-dessus sont basées sur des données théoriques et ne sont données qu'à titre indicatif. Les spécifications réelles peuvent varier.

Cible rotative cuivre-gallium, cible CuGa Applications

Électronique
- Utilisée comme source de pulvérisation dans les systèmes de dépôt de semi-conducteurs pour obtenir une épaisseur de film uniforme en tirant parti d'une composition d'alliage contrôlée.
- Utilisée comme source de matériau dans la fabrication de panneaux d'affichage pour maintenir des caractéristiques électriques cohérentes grâce à des dimensions de cible personnalisées.

Industrie
- Sert de cible de pulvérisation dans les systèmes de revêtement des composants automobiles pour obtenir une érosion uniforme du matériau grâce à une formulation précise de l'alliage.
- Utilisée dans les équipements de traitement de surface industriels pour obtenir des conditions de plasma stables grâce au contrôle de la microstructure et de la cohérence de la composition.

Cible rotative cuivre-gallium, emballage de la cible CuGa

La cible est placée dans un conteneur antistatique doublé de mousse et doté d'une barrière contre l'humidité afin de minimiser la contamination de l'environnement. L'emballage est scellé et étiqueté avec la composition détaillée de l'alliage et les dimensions personnalisées. Il est recommandé de stocker la cible dans un environnement sec et à température contrôlée afin d'éviter la dégradation du matériau. Des options de scellés d'inviolabilité et de rembourrage supplémentaire sont disponibles pour répondre à des besoins de manutention spécifiques.

Informations complémentaires

Les alliages cuivre-gallium combinent les propriétés thermiques et électriques inhérentes au cuivre avec les caractéristiques modifiées introduites par le gallium. Le contrôle précis de la composition élémentaire est essentiel pour régler le comportement de pulvérisation nécessaire à la croissance uniforme des films dans les applications de dépôt de couches minces.

La compréhension de l'interaction entre la microstructure de l'alliage et le comportement à l'érosion permet de concevoir des cibles pour des processus industriels spécifiques. Des techniques de caractérisation détaillées telles que la spectroscopie et la microscopie électronique donnent un aperçu des performances du matériau sous les contraintes opérationnelles, offrant ainsi une base pour une sélection éclairée des matériaux dans les systèmes de dépôt.