ST11181 Cible de pulvérisation cathodique chrome-aluminium, cible CrAl

Cible de pulvérisation cathodique chrome-aluminium, cible CrAl Description

La cible de pulvérisation chrome-aluminium, cible CrAl, est composée d'un alliage chrome-aluminium soigneusement équilibré et optimisé pour les processus de dépôt de couches minces. La microstructure étudiée de la cible favorise la croissance et l'uniformité du film sur différents substrats. La composition contrôlée de l'alliage est essentielle pour maintenir des taux de dépôt et des propriétés de film reproductibles dans la fabrication de semi-conducteurs et d'écrans. Ce produit répond aux normes élevées exigées par les systèmes de pulvérisation industrielle.

Cible de pulvérisation chrome-aluminium, cible CrAl Caractéristiques de la cible

*Les informations ci-dessus sont basées sur des données théoriques et ne sont données qu'à titre indicatif. Les spécifications réelles peuvent varier.

Cible de pulvérisation cathodique chrome-aluminium, cible CrAl Applications

Électronique
- Utilisée comme cible de pulvérisation dans les systèmes de dépôt de semi-conducteurs pour obtenir des films métalliques minces uniformes en tirant parti de sa composition d'alliage cohérente.

Industrie
- Utilisée comme source de revêtement dans les processus de fabrication pour améliorer les propriétés de surface en utilisant sa microstructure stable et son comportement de dépôt prévisible.

Composants optiques
- Sert de matériau pour le dépôt de revêtements réfléchissants et conducteurs sur les dispositifs optiques afin d'affiner les propriétés réfléchissantes avec une épaisseur de film contrôlée.

Cible de pulvérisation cathodique chrome-aluminium, emballage de la cible CrAl

La cible est emballée dans un conteneur antistatique doublé de mousse et scellé dans un sac sous vide pour la protéger contre les chocs mécaniques et la contamination pendant le transport. Il est recommandé de stocker la cible dans un environnement sec, à température contrôlée, à l'abri de l'humidité et de la poussière. Des personnalisations supplémentaires, y compris des couches de barrière et un étiquetage personnalisé, sont possibles pour répondre à des exigences spécifiques en matière de manipulation et de stockage.

Informations complémentaires

Les cibles de pulvérisation jouent un rôle essentiel dans les processus de dépôt de couches minces dans divers secteurs industriels. Le contrôle précis de la composition des matériaux facilite la production de films d'une épaisseur uniforme et d'une meilleure adhérence. Ces cibles sont des composants fondamentaux dans des processus tels que la fabrication de semi-conducteurs et le revêtement optique, où l'uniformité des matériaux est primordiale.

Les progrès réalisés dans les techniques de production de cibles ont contribué à améliorer les performances des systèmes de dépôt. La compréhension de l'interaction entre les propriétés des matériaux et le comportement de la pulvérisation aide les ingénieurs à optimiser les paramètres de dépôt, ce qui permet d'affiner les caractéristiques des films et d'améliorer les performances des appareils. Ce contexte plus large soutient l'innovation continue dans le traitement des matériaux et la conception des applications.