ST11180 Cible planaire en chrome, cible en chrome

Cible planaire en chrome, cible Cr Description

La cible planaire de chrome, cible Cr, est une source de pulvérisation fabriquée à partir d'un métal chromé de grande pureté. Elle est conçue pour être utilisée dans les processus de dépôt physique en phase vapeur afin de former des films minces uniformes. La configuration planaire permet d'obtenir un rendement constant du matériau et un contrôle précis de l'épaisseur du film. Ses dimensions personnalisées permettent une compatibilité avec les équipements de pulvérisation standard tout en maintenant une surface de dépôt lisse et une composition stable des éléments, ce qui est essentiel pour les applications de revêtement de semi-conducteurs et d'optiques.

Cible planaire pour le chrome, caractéristiques de la cible Cr

*Les informations ci-dessus sont basées sur des données théoriques et ne sont données qu'à titre indicatif. Les spécifications réelles peuvent varier.

Cible planaire en chrome, cible en chrome Applications

Fabrication de produits électroniques et de semi-conducteurs
- Utilisée comme source de métal dans les systèmes de pulvérisation pour former des couches conductrices dans les circuits intégrés en tirant parti de la composition constante de la cible.
- Utilisée comme matériau de dépôt dans la production d'écrans plats pour obtenir une couverture de film uniforme et réduire les interférences des particules.

Revêtements de surface industriels
- Sert d'élément de revêtement sur les composants mécaniques pour fournir une couche métallique protectrice en utilisant ses propriétés matérielles stables.
- Utilisé comme source dans les systèmes de revêtement décoratifs pour produire des films de chrome uniformes et adhérents sur les produits de consommation.

Cible planaire en chrome, emballage de la cible en chrome

La cible est emballée dans un environnement propre et sans électricité statique à l'aide d'un emballage anti-contamination. Elle est scellée dans des conteneurs personnalisés résistants à l'humidité et dotés d'un rembourrage protecteur qui minimise les dommages dus à la manipulation. Les instructions de stockage mettent l'accent sur un environnement à température contrôlée et une exposition minimale à la poussière ou aux particules en suspension dans l'air. Des options d'emballage personnalisées, y compris des unités étiquetées et compartimentées, sont disponibles pour répondre à des exigences logistiques spécifiques.

Informations complémentaires

Les cibles de pulvérisation à base de chrome sont utilisées depuis longtemps dans les environnements nécessitant un dépôt contrôlé de couches minces. Leurs propriétés, notamment leur point de fusion élevé et leur résistivité électrique modérée, les destinent à des applications où la stabilité thermique et mécanique est essentielle.

La compréhension des conditions de traitement et de la morphologie cible joue un rôle important dans les performances globales des systèmes de dépôt physique en phase vapeur. La recherche continue dans le domaine de la science des matériaux permet d'affiner ces cibles afin de relever les défis techniques avancés dans la fabrication des semi-conducteurs et les processus de revêtement industriel.