ST11177 Cobalt Rotary Target, Co Target

Cible rotative en cobalt, cible en cobalt Description

La cible rotative en cobalt est une cible de pulvérisation fabriquée à partir de cobalt (Co) de haute pureté et conçue pour les processus de dépôt physique en phase vapeur. Le mécanisme rotatif de la cible favorise une érosion régulière, améliorant ainsi l'uniformité du film sur les substrats. Sa spécification dans des dimensions personnalisées favorise la compatibilité avec divers systèmes de dépôt. La microstructure et la composition chimique contrôlées assurent des performances constantes dans les applications de fabrication où la précision du dépôt de couches minces est essentielle.

Cible rotative en cobalt, cible en cobalt Caractéristiques

*Les informations ci-dessus sont basées sur des données théoriques et ne sont données qu'à titre indicatif. Les spécifications réelles peuvent varier.

Cible rotative en cobalt, cible en cobalt Applications

Fabrication électronique
- Utilisée comme cible de pulvérisation dans la fabrication de semi-conducteurs pour obtenir un dépôt uniforme de couches minces en tirant parti des caractéristiques d'érosion définies du cobalt.

Procédés industriels
- Appliquée comme cible cathodique dans les systèmes de revêtement conçus pour créer des couches résistantes à l'usure en utilisant le comportement prévisible du matériau lors de la pulvérisation.
- Sert de composant dans les installations de pulvérisation magnétron où l'érosion régulière de la cible contribue à contrôler l'épaisseur du film et à améliorer les performances de l'appareil.

Cible rotative en cobalt, emballage de la cible en cobalt

La cible est emballée dans des matériaux antistatiques et anti-humidité de qualité salle blanche afin d'éviter toute contamination. Elle est scellée dans des conteneurs rembourrés et remplis de gaz inertes pour éviter l'oxydation et les dommages mécaniques. Les conditions de stockage requièrent un faible taux d'humidité et un contrôle de la température. Des solutions d'emballage personnalisées, y compris des inserts en mousse et un étiquetage spécifique, sont disponibles pour répondre aux exigences uniques de manipulation et de transit.

Informations complémentaires

Les cibles de pulvérisation sont des composants critiques dans le dépôt physique en phase vapeur, où l'uniformité du matériau et l'érosion prévisible ont un impact direct sur la qualité du film. Le cobalt, avec ses propriétés physiques et chimiques définies, est largement utilisé dans les applications nécessitant des revêtements durables et cohérents. La conception rotative améliore encore l'efficacité de la cible en répartissant uniformément la charge de pulvérisation sur la surface.

Les progrès récents de la technologie de dépôt continuent d'affiner l'utilisation de cibles métalliques telles que le cobalt, favorisant l'adhésion et l'uniformité des films dans les applications électroniques et de semi-conducteurs. Il est essentiel de comprendre l'interaction entre les propriétés des matériaux et les paramètres du processus pour optimiser les résultats du dépôt et permettre des innovations technologiques dans de nombreux secteurs industriels.