ST11176 Cible planaire cobalt, cible co

Cible planaire de cobalt, cible de cobalt Description

La cible planaire de cobalt, cible Co, est fabriquée à partir de cobalt élémentaire (Co) avec des dimensions personnalisées pour répondre aux diverses exigences des systèmes de pulvérisation. La cible est conçue pour favoriser une distribution uniforme du plasma et un dépôt cohérent du film. Sa composition chimique et ses propriétés physiques contrôlées minimisent la production de particules pendant la pulvérisation, ce qui garantit des performances constantes dans les applications de traitement des semi-conducteurs et des revêtements.

Cible planaire en cobalt, Co Caractéristiques de la cible

Les informations ci-dessus sont basées sur des données théoriques et ne sont données qu'à titre indicatif. Les spécifications réelles peuvent varier.

Cible planaire de cobalt, cible de cobalt Applications

1.électronique
- Utilisée comme cible de pulvérisation dans le dépôt de semi-conducteurs pour obtenir une formation de film uniforme en tirant parti d'une composition de cobalt contrôlée.
- Utilisée dans la fabrication de dispositifs de stockage magnétique pour obtenir des propriétés magnétiques constantes grâce à un contrôle précis de l'épaisseur du revêtement.

2. l'industrie
- Utilisé dans les systèmes de revêtement pour les couches résistantes à l'usure afin d'améliorer la durabilité de la surface en utilisant le point de fusion élevé du cobalt.
- Utilisé comme composant dans les filtres à couches minces pour les systèmes optiques afin d'obtenir un contrôle précis de la densité et des performances accrues.

3)Automobile
- Utilisé dans le dépôt de revêtements décoratifs sur les composants intérieurs pour garantir une apparence et une adhérence uniformes en utilisant une composition cible cohérente.

Cible planaire de cobalt, emballage de la cible de cobalt

La cible est emballée à l'aide de matériaux antistatiques et résistants à l'humidité et placée dans un conteneur rigide absorbant les chocs. Des feuilles de protection et des inserts en mousse empêchent la contamination par les particules et les dommages mécaniques. L'emballage est conçu pour être stocké dans un environnement contrôlé, ce qui garantit l'absence d'altération des propriétés des matériaux. Des options d'emballage personnalisées, y compris l'étiquetage et les conteneurs compartimentés, sont disponibles sur demande.

Informations complémentaires

Les cibles de pulvérisation de cobalt jouent un rôle essentiel dans les technologies de dépôt de couches minces utilisées en microélectronique et en ingénierie des surfaces. Le traitement contrôlé du cobalt dans des cibles planes est essentiel pour maintenir un environnement plasma stable pendant la pulvérisation, ce qui est crucial pour obtenir une uniformité de film de haute qualité.

Les progrès de la science des matériaux et les technologies d'usinage précises ont permis de produire des cibles avec des tolérances strictes en matière de composition et de dimensions. Ces améliorations permettent d'accroître les performances dans les applications qui exigent une précision et une efficacité élevées, contribuant ainsi au succès opérationnel des secteurs des semi-conducteurs, de l'industrie et de l'automobile.