ST11175 Cible planaire cérium-magnésium, cible CeMg

Cible planaire cérium-magnésium, cible CeMg Description

La cible planaire cérium-magnésium, cible CeMg, est une cible de pulvérisation composée d'un alliage cérium-magnésium soigneusement équilibré. Sa conception planaire facilite le dépôt d'un film cohérent dans les procédés sous vide en assurant une distribution uniforme du matériau. La composition contrôlée permet d'obtenir des caractéristiques de film spécifiques essentielles pour les applications électroniques, optiques et de revêtement avancées, ce qui en fait un matériau fonctionnel pour la recherche et les installations de pulvérisation industrielle.

Cible planaire de cérium-magnésium, cible CeMg Caractéristiques de la cible

*Les informations ci-dessus sont basées sur des données théoriques et ne sont données qu'à titre indicatif. Les spécifications réelles peuvent varier.

Cible planaire en cérium-magnésium, cible en cérium-magnésium Applications

Électronique
- Utilisée comme cible de pulvérisation dans le dépôt de couches minces de semi-conducteurs pour obtenir une épaisseur de film uniforme en tirant parti de sa composition d'alliage cohérente.
- Utilisée comme source de dépôt dans la fabrication de dispositifs optoélectroniques pour améliorer l'uniformité du film en utilisant sa composition chimique contrôlée.

Industrie
- Employé comme cible de revêtement dans les traitements de surface résistants à l'usure pour améliorer l'uniformité du processus en tirant parti de sa structure d'alliage stable.
- Intégré dans des systèmes de revêtement à gradient pour les composants optiques afin d'optimiser les taux de dépôt et la qualité du film en fonction de ses propriétés matérielles précises.

Recherche scientifique
- Utilisé dans les installations expérimentales pour les études sur les couches minces afin de produire des structures de film contrôlées en tirant parti de sa composition exacte.
- Appliquée dans des environnements de test pour analyser la dynamique de pulvérisation et la cinétique de croissance des films, en bénéficiant de la conception uniforme de la cible planaire.

Cible planaire en cérium et magnésium, emballage de la cible en cérium et magnésium

Les cibles planaires en cérium et magnésium sont emballées dans des matériaux antistatiques et résistants à la corrosion, avec un rembourrage en mousse à l'intérieur de conteneurs scellés pour éviter la contamination et les dommages mécaniques. Les cibles sont stockées dans des conditions de température contrôlée et de faible humidité. Des options d'emballage personnalisées, y compris des modèles scellés sous vide et un étiquetage spécialisé, peuvent être fournies pour répondre à des exigences de manipulation spécifiques.

Informations complémentaires

Les cibles de pulvérisation comme la cible CeMg jouent un rôle crucial dans les processus de dépôt de couches minces dans diverses industries. La composition contrôlée de l'alliage permet d'obtenir des caractéristiques de film précises, ce qui est primordial pour les applications dans les domaines de l'électronique et de l'optique. La recherche se concentre souvent sur l'interaction entre les propriétés des matériaux et les paramètres de dépôt afin d'optimiser les performances.

La sélection des cibles de pulvérisation est basée sur des spécifications techniques détaillées qui garantissent la compatibilité avec les systèmes à vide poussé et l'équipement de dépôt. Des essais approfondis, y compris la surveillance in situ et l'analyse post-dépôt, permettent de valider les performances des matériaux et d'orienter les améliorations des processus dans des environnements de fabrication avancés.