ST11170 Cible planaire aluminium-silicium, cible AlSi

Cible planaire aluminium-silicium, cible AlSi Description

La cible planaire aluminium-silicium, cible AlSi, est une cible de pulvérisation fabriquée à partir d'un alliage aluminium-silicium. Ce produit présente des dimensions personnalisables qui facilitent son intégration dans les systèmes de dépôt standard. La composition contrôlée de l'alliage améliore l'uniformité du film et minimise la contamination, ce qui favorise des processus de dépôt efficaces dans les applications de fabrication de semi-conducteurs et de revêtements.

Cible planaire aluminium-silicium, cible AlSi Caractéristiques de la cible

*Les informations ci-dessus sont basées sur des données théoriques et ne sont données qu'à titre indicatif. Les spécifications réelles peuvent varier.

Cible planaire aluminium-silicium, cible AlSi Applications

Électronique
- Utilisée comme cible de pulvérisation dans les chambres de dépôt de semi-conducteurs pour obtenir l'uniformité du film mince en tirant parti de la composition contrôlée de l'alliage.
- Utilisée comme source de dépôt dans la fabrication de dispositifs microélectroniques pour produire des couches conductrices homogènes grâce à ses propriétés matérielles adaptées avec précision.

Revêtements industriels
- Sert de source de matériaux dans les processus de revêtement pour fournir des propriétés de film uniformes en utilisant sa composition d'aluminium-silicium cohérente et de haute pureté.
- Appliqué dans les techniques de modification de surface pour améliorer l'adhérence et la durabilité dans la finition des composants industriels.

Photovoltaïque
- Utilisé comme cible dans la fabrication de cellules solaires pour assurer un dépôt uniforme de couches métalliques en tirant parti de ses dimensions personnalisables et du contrôle de sa composition.
- Appliqué dans la production de modules photovoltaïques pour améliorer la conductivité électrique et la cohérence de l'interface.

Cible planaire aluminium-silicium, emballage de la cible AlSi

La cible est emballée dans des conteneurs scellés et antistatiques avec des inserts résistants à l'humidité et des inserts de rembourrage pour éviter les dommages mécaniques pendant le transport. Une mousse protectrice et une purge à l'azote sont utilisées pour minimiser la contamination et l'oxydation. L'emballage garantit des conditions de stockage stables dans un environnement frais et sec. Des solutions d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre à des besoins de manutention uniques.

Informations complémentaires

Les cibles de pulvérisation jouent un rôle fondamental dans les processus de dépôt de couches minces en servant de matériau source pour la formation des couches. L'alliage aluminium-silicium utilisé dans ces cibles est sélectionné en raison de son équilibre entre la conductivité et l'intégrité structurelle. La précision de la composition de la cible est directement liée à l'uniformité du film, qui est essentielle dans les industries des semi-conducteurs et des revêtements.

Les progrès récents de la technologie de pulvérisation cathodique soulignent l'importance du contrôle des propriétés des matériaux et des finitions de surface. Les recherches en cours dans le domaine de la science des matériaux continuent d'affiner les formulations d'alliages pour répondre aux spécifications industrielles de plus en plus strictes, en veillant à ce que les processus de dépôt restent à la fois efficaces et reproductibles.