ST11169 Cible planaire aluminium chrome titane vanadium, cible AlCrTiV

Cible planaire aluminium chrome titane vanadium, cible AlCrTiV Description

La cible planaire aluminium chrome titane vanadium, cible AlCrTiV, est une cible de pulvérisation fabriquée à partir d'un alliage d'aluminium avec des ajouts contrôlés de chrome, de titane et de vanadium. Les éléments d'alliage sont optimisés pour améliorer l'uniformité du dépôt de film, ce qui la rend compatible avec les semi-conducteurs et les systèmes de pulvérisation industriels. Sa conception planaire facilite une couverture uniforme et une érosion constante de la cible, garantissant des résultats de dépôt reproductibles dans des environnements de traitement contrôlés.

Cible planaire aluminium chrome titane vanadium, cible AlCrTiV Caractéristiques de la cible

*Les informations ci-dessus sont basées sur des données théoriques et ne sont données qu'à titre indicatif. Les spécifications réelles peuvent varier.

Cible planaire aluminium-chrome-titane-vanadium, cible AlCrTiV Applications

1.
Électronique
- Utilisée comme cible de pulvérisation dans la fabrication de dispositifs semi-conducteurs pour obtenir une métallisation uniforme en couches minces en tirant parti de sa microstructure contrôlée.
- Utilisée comme support de dépôt dans les systèmes de revêtement microélectronique pour obtenir une épaisseur de film et une adhérence constantes.

2.
Revêtements industriels
- Sert de cible de pulvérisation dans les processus industriels pour déposer des films d'alliage d'aluminium résistants à l'usure, améliorant la durabilité de la surface grâce à un contrôle précis de la composition.
- Il est fréquemment utilisé pour le revêtement de pièces de machines afin d'améliorer la dureté de la surface et de réduire les frottements grâce à sa conception plane.

3.
Recherche et développement
- Employé dans les expériences de pulvérisation en R&D pour étudier les caractéristiques de dépôt des alliages en tirant parti des dimensions personnalisables et de la composition uniforme.
- Utilisé comme cible modèle dans la recherche en science des matériaux pour évaluer la dynamique de formation du film et le comportement d'érosion de la cible.

Cible planaire en aluminium chrome titane vanadium, AlCrTiV Emballage de la cible

La cible est emballée dans des conteneurs antistatiques de qualité salle blanche avec un rembourrage en mousse pour éviter les dommages mécaniques et la contamination. Elle est scellée dans un emballage sous atmosphère inerte pour minimiser l'oxydation pendant le stockage. Les conditions de stockage appropriées comprennent un environnement frais et sec, à l'abri de la lumière directe du soleil. Des options d'emballage personnalisées, telles qu'une absorption supplémentaire des chocs et un étiquetage spécifique, sont disponibles sur demande.

Informations complémentaires

Les cibles de pulvérisation fabriquées à partir d'alliages d'aluminium complexes jouent un rôle essentiel dans les processus de dépôt de couches minces. Le contrôle précis de la composition de l'alliage influence directement la microstructure et les propriétés fonctionnelles du film, ce qui les rend essentielles pour les applications de haute performance dans l'électronique et les revêtements industriels.

La compréhension de l'interaction entre les éléments d'alliage et la dynamique de la pulvérisation est essentielle pour la recherche en science des matériaux. Ces cibles fournissent une plate-forme pour explorer la cinétique de dépôt et optimiser les caractéristiques de surface, ce qui permet de faire progresser les applications dans la fabrication des semi-conducteurs et l'ingénierie des matériaux.