SC9931 Disque en carbure de silicium recristallisé Dia. 145 mm

Disque en carbure de silicium recristallisé Dia. 145 mm Description

Le disque de carbure de silicium recristallisé Dia. 145 mm est traité par recristallisation contrôlée afin de garantir une structure de grain dense et uniforme. Le matériau SiC présente une inertie chimique et une stabilité structurelle, conservant ses performances à des températures allant jusqu'à 1650 ℃. Avec une forme de disque de 145 mm de diamètre et une densité proche de 2,7 g/cm³, la céramique convient aux applications nécessitant une gestion thermique précise et un fonctionnement constant dans des environnements à haute température.

Carbure de silicium recristallisé Disque Dia. 145 mm Applications

Applications électroniques
- Utilisé comme substrat dans les assemblages de capteurs à haute température pour obtenir des performances thermiques stables en tirant parti de sa microstructure recristallisée.

Applications industrielles
- Utilisé comme répartiteur de chaleur dans les modules de puissance pour assurer une gestion thermique efficace en tirant parti de sa capacité à supporter des températures de fonctionnement élevées.

Applications dans le domaine de la chimie
- Utilisé comme revêtement de chambre de réaction dans les environnements corrosifs pour obtenir une durée de vie prolongée en tirant parti de son inertie chimique.

Carbure de silicium recristallisé Disque Dia. 145 mm Emballage

Chaque disque est emballé dans un matériau dissipateur d'électricité statique et placé dans un conteneur absorbant les chocs afin de le protéger contre les impacts mécaniques et la contamination. Le produit doit être stocké dans un endroit propre, sec et à température contrôlée afin de préserver ses propriétés matérielles. Des mesures contre la pénétration de la poussière et de l'humidité sont mises en œuvre, et des options d'emballage personnalisées - y compris un compartimentage et un étiquetage spécialisés - sont disponibles sur demande.

Questions fréquemment posées

Q1 : Comment le processus de recristallisation affecte-t-il les propriétés structurelles du disque en carbure de silicium ?
R1 : La recristallisation contrôlée affine la structure des grains, réduisant les défauts et améliorant la stabilité thermique. Ce processus contribue à l'uniformisation des propriétés mécaniques et à la robustesse dans des conditions de haute température.

Q2 : Le disque peut-il être utilisé dans des applications thermiques dynamiques et quelles sont les précautions à prendre ?
R2 : Oui, le disque peut être utilisé dans des environnements thermiques dynamiques. Il est recommandé d'assurer un montage et un contact thermique appropriés pour répartir uniformément la chaleur, tout en tenant compte des contraintes mécaniques potentielles pendant le cycle thermique.

Q3 : Quelles sont les procédures d'essai qui confirment la conformité avec les spécifications de température de fonctionnement ?
A3 : La vérification est effectuée à l'aide de l'analyse thermique à haute température et de la calorimétrie à balayage différentiel, parallèlement à la surveillance des performances in situ pour garantir que le disque conserve son intégrité structurelle jusqu'à 1650 ℃.

Informations complémentaires

Les céramiques de carbure de silicium sont largement étudiées pour leur inertie chimique et leur capacité à fonctionner dans des environnements à température élevée. Les caractéristiques microstructurales obtenues par une recristallisation précise ont un impact direct sur la conductivité thermique et la résistance mécanique. Ces propriétés sont essentielles dans les secteurs où la température et la résistance à la corrosion définissent les performances des matériaux.

Les études avancées sur le traitement des céramiques continuent d'affiner les techniques utilisées pour contrôler la formation des joints de grains, ce qui permet d'obtenir des matériaux optimisés pour des applications industrielles spécifiques. Ces progrès permettent d'améliorer les composants à haute température utilisés dans l'électronique de puissance, les capteurs et les systèmes de traitement chimique.