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  • Alliage ferreux
  • FE10669 Cible fer silicium bore (cible FeSiB)

    • FE10669 Cible fer silicium bore (cible FeSiB)

    Catalogue No. FE10669
    Composition Fe, Si, B
    Dimensions Sur mesure
    Formulaire Cible

    La cible fer silicium bore (cible FeSiB) est une cible de ferro-alliage à base de fer avec des ajouts contrôlés de silicium et de bore qui optimisent ses caractéristiques de dépôt. Stanford Advanced Materials (SAM) utilise des méthodes spectroscopiques à haute résolution pendant le contrôle du processus de pulvérisation afin de garantir une distribution uniforme de la composition. Une analyse microstructurale détaillée et des mesures d'émission in situ vérifient la cohérence de la cible. Ce contrôle systématique de la qualité minimise les variations et permet la fabrication précise de couches minces dans la recherche et les applications industrielles.

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    FAQ

    Comment les ajouts de silicium et de bore affectent-ils les performances de pulvérisation de la cible ?

    L'inclusion de silicium et de bore dans la matrice de fer affine la microstructure et modifie les propriétés d'adhérence du film pendant la pulvérisation. Ces éléments peuvent améliorer l'uniformité de l'érosion de la cible et contrôler les taux de dépôt, ce qui est bénéfique pour obtenir des couches minces cohérentes sur les substrats.

    Quelles sont les méthodes de contrôle de la qualité mises en œuvre pendant la production de la cible ?

    SAM utilise la spectroscopie d'émission optique in situ associée à l'analyse microstructurale post-production pour contrôler l'homogénéité des alliages. Ces techniques permettent de détecter rapidement les variations de composition et de s'assurer que chaque cible conserve l'homogénéité requise, essentielle à la répétabilité des performances de dépôt.

    La composition cible peut-elle être adaptée à des processus de dépôt spécifiques ?

    Oui, la composition de l'alliage peut être adaptée pour répondre à des exigences particulières. Les clients peuvent demander des modifications des niveaux de silicium ou de bore afin d'optimiser des paramètres tels que la vitesse de dépôt et l'uniformité du film. Contactez-nous pour plus de détails sur la personnalisation et l'assistance technique.

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