CY9505 Disque de quartz Dia. 101.6 mm x 3.2 mm, poli

Disque de quartz Dia. 101,6 mm x 3,2 mm, poli Description

Le disque de quartz est fabriqué à partir de SiO₂ de haute pureté et transformé en un disque d'un diamètre de 101,6 mm et d'une épaisseur de 3,2 mm. Sa finition miroir résulte d'un processus de polissage mécanique contrôlé qui minimise les irrégularités de surface. Les dimensions définies garantissent la compatibilité avec les équipements de traitement standard utilisés dans les expériences optiques, électroniques et cristallographiques. L'inertie chimique du matériau offre une stabilité lors des procédures à haute température et des dépôts de films précis.

Disque de quartz Dia. 101.6 mm x 3.2 mm, poli Applications

Composants électroniques et semi-conducteurs
- Utilisé comme substrat de support pour le dépôt de couches minces afin d'obtenir une couche de film uniforme en tirant parti de sa planéité constante et de son inertie chimique.
- Utilisé dans les dispositifs d'étalonnage optique pour améliorer la cohérence des mesures grâce à son état de surface contrôlé.

Instrumentation industrielle
- Utilisé comme élément de référence dans les systèmes de traitement thermique pour maintenir une distribution stable de la chaleur grâce à sa stabilité dimensionnelle et à sa résistance thermique.

Disque de quartz Dia. 101,6 mm x 3,2 mm, poli Emballage

Conditionné dans des conteneurs en mousse à dissipation statique, le disque est emballé individuellement dans un film anti-rayures et scellé dans des sachets résistants à l'humidité. La conception de l'emballage empêche la contamination par les particules et les dommages mécaniques. Stocké dans un environnement contrôlé, à l'abri de la poussière, l'emballage peut être personnalisé avec des étiquettes et des séparateurs supplémentaires pour répondre aux exigences spécifiques de manipulation et de transport.

Questions fréquemment posées

Q1 : Quelles sont les mesures critiques à vérifier à la réception du disque de quartz ?
R1 : La vérification du diamètre et de l'épaisseur à l'aide de micromètres étalonnés permet de s'assurer que le disque répond aux exigences de 101,6 mm et de 3,2 mm. Une vérification correcte des dimensions est essentielle pour l'alignement dans les applications de traitement des cristaux et de l'électronique en aval.

Q2 : Comment la finition polie affecte-t-elle les performances du disque dans les processus de microfabrication ?
R2 : La surface polie comme un miroir minimise la diffusion et les irrégularités, ce qui est crucial pour obtenir un dépôt de film précis et un étalonnage optique dans les environnements de microfabrication. Cette finition de surface uniforme aide à maintenir la cohérence dans les applications à haute résolution.

Q3 : Quels sont les protocoles de manipulation recommandés pour préserver l'intégrité de la surface du disque ?
R3 : Il est recommandé d'utiliser des gants antistatiques et des procédures de salle blanche pour minimiser la contamination particulaire et éviter les rayures. Ces mesures sont essentielles lors de l'installation du disque dans des environnements sensibles aux irrégularités de surface.

Informations complémentaires

Les substrats en quartz jouent un rôle important dans les environnements où la stabilité dimensionnelle et l'inertie chimique sont primordiales. Le quartz de haute pureté, ou SiO₂, est apprécié dans des secteurs allant de l'instrumentation optique à la recherche sur les semi-conducteurs en raison de sa dilatation thermique minimale et de ses caractéristiques de résistance. Les méthodes de fabrication et de polissage contrôlées permettent d'obtenir des performances constantes, essentielles pour les applications de précision.

La compréhension des propriétés matérielles du quartz dans de tels substrats aide les ingénieurs et les chercheurs à sélectionner les matériaux appropriés pour des applications exigeantes. La base scientifique de la production de quartz, de la sélection des matières premières à la finition de la surface, reflète les progrès continus dans le traitement des matériaux dans les contextes modernes de la recherche et de l'industrie.