CY9473 Substrat monocristallin en nickel Substrat en nickel (110), Dia. 30 mm x1 mm, SSP

Substrat monocristallin en nickel Substrat en nickel (110), Dia. 30 mm x1 mm, SSP Description

Le substrat monocristallin en nickel Ni Substrate (110), Dia. 30 mm x 1 mm, SSP est fabriqué à partir de nickel de haute pureté avec un alignement cristallographique uniforme (110). Le diamètre défini de 30 mm et l'épaisseur de 1 mm permettent la compatibilité avec l'équipement standard de dépôt épitaxial. Sa surface atomiquement plate facilite la croissance précise du film et la qualité reproductible de l'interface, ce qui contribue à des études systématiques dans le domaine de la science des matériaux et du développement de processus de semi-conducteurs.

Substrat monocristallin en nickel Substrat en nickel (110), Dia. 30 mm x1 mm, SSP Applications

Applications électroniques et semi-conducteurs
- Utilisé comme substrat dans le dépôt épitaxial de films pour les dispositifs semi-conducteurs afin d'obtenir une croissance cristalline uniforme en tirant parti de son orientation contrôlée (110).
- Utilisé comme plate-forme de référence dans l'intégration au niveau de la plaquette pour minimiser les variations d'interface en utilisant sa morphologie de surface cohérente.

Applications industrielles et de recherche scientifique
- Utilisé comme substrat d'étalonnage dans les études cristallographiques pour obtenir des résultats de diffraction précis grâce à sa structure monocristalline.
- Utilisé dans le développement de capteurs pour améliorer l'intégrité du signal en capitalisant sur sa surface minimisant les défauts.

Substrat monocristallin en nickel Substrat en nickel (110), Dia. 30 mm x1 mm, emballage SSP

Le substrat est fixé dans un conteneur antistatique avec des inserts en mousse pour absorber les chocs et prévenir les dommages mécaniques. L'emballage de qualité salle blanche et l'emballage scellé réduisent le risque de contamination pendant le transport et le stockage. Il est recommandé de stocker le substrat dans un environnement à température et humidité contrôlées afin de préserver sa surface et ses propriétés cristallographiques. Des options d'emballage personnalisées avec un étiquetage spécifique sont disponibles sur demande.

Questions fréquemment posées

Q1 : Quelle est la signification de l'orientation (110) de ce substrat ?
R1 : L'orientation (110) fournit un arrangement atomique défini qui facilite la croissance reproductible du film épitaxial et la constance des propriétés de surface. Les mesures de diffraction des rayons X confirment l'orientation, ce qui rend le substrat adapté à des études cristallographiques détaillées.

Q2 : Comment ce substrat doit-il être stocké pour conserver son intégrité ?
R2 : Pour préserver l'intégrité du substrat, il convient de le stocker dans un environnement contrôlé où la température et l'humidité sont régulées. Utilisez un emballage antistatique et minimisez les contraintes mécaniques lors de la manipulation afin d'éviter les dommages et la contamination de la surface.

Q3 : SAM offre-t-il une assistance technique pour l'intégration de ce substrat dans les flux de processus ?
R3 : SAM fournit une assistance technique, y compris une caractérisation complète par MEB et AFM, pour s'assurer que le substrat répond aux exigences spécifiques du processus. Son expertise facilite l'intégration dans les divers dispositifs de fabrication, assurant ainsi une adoption sans heurts du processus.

Informations complémentaires

Les substrats monocristallins de nickel constituent une ressource essentielle dans la recherche en science des matériaux, car ils offrent des orientations cristallographiques bien définies qui sont essentielles pour les études systématiques de la croissance épitaxiale. Leur structure contrôlée permet de combler le fossé entre la recherche fondamentale et l'application industrielle, en particulier dans le domaine des semi-conducteurs et de la physique des surfaces.

La compréhension du rôle de l'orientation cristallographique dans la détermination du comportement des matériaux est essentielle pour optimiser les processus de fabrication des dispositifs. Ces substrats permettent aux chercheurs d'établir une corrélation entre les propriétés structurelles et les performances électroniques, ce qui contribue à faire progresser la technologie des capteurs et les méthodes de dépôt de couches minces.