CY9471 Substrat monocristallin en nickel Substrat en nickel (110), 10x10x1 mm, SSP

Substrat monocristallin de nickel Substrat de nickel (110), 10x10x1 mm, SSP Description

Le substrat monocristallin de nickel Ni Substrate (110), 10x10x1 mm, SSP est un substrat monocristallin de nickel de haute pureté produit avec une orientation cristallographique (110). La surface de 10x10 mm et l'épaisseur de 1 mm facilitent l'intégration dans des montages expérimentaux nécessitant une structure de grain contrôlée et un minimum de défauts de surface. Le substrat est soumis à une analyse rigoureuse par MEB et diffraction, ce qui garantit la précision de la structure et favorise la recherche avancée dans les domaines de la science des matériaux et du traitement des semi-conducteurs.

Substrat monocristallin de nickel Substrat de nickel (110), 10x10x1 mm, SSP Applications

Applications électroniques et semi-conducteurs
- Utilisé comme substrat dans le traitement des tranches de semi-conducteurs pour obtenir des couches épitaxiales définies en exploitant son orientation (110) contrôlée.
- Utilisé dans les études de dépôt de couches minces pour évaluer l'uniformité de la couche et minimiser le décalage du réseau.

Essais de matériaux industriels
- Sert de norme d'étalonnage pour les systèmes de mesure de la rugosité de surface afin de permettre une analyse précise des films métalliques.
- Fréquemment utilisé dans les installations de recherche pour valider les propriétés métallurgiques grâce à une structure cristallographique cohérente.

Substrat monocristallin de nickel Substrat de nickel (110), 10x10x1 mm, emballage SSP

Le substrat est emballé individuellement dans des conteneurs antistatiques et rembourrés afin d'atténuer les chocs mécaniques et la contamination. Il est stocké dans un environnement sec et à température contrôlée afin de préserver ses caractéristiques de surface. Des matériaux de protection et des options de stockage scellées sont utilisés pour éviter l'exposition aux particules. Des configurations d'étiquetage et d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux exigences spécifiques de manipulation et de traçabilité.

Questions fréquemment posées

Q1 : Quelles sont les méthodes utilisées pour vérifier l'orientation (110) sur le substrat ?
R1 : La diffraction des rayons X en surface et la microscopie électronique à balayage sont utilisées pour confirmer l'orientation cristallographique (110) et évaluer tout écart dans la structure du réseau. Ces techniques fournissent des données quantitatives sur l'uniformité structurelle du substrat pour la recherche appliquée.

Q2 : Comment le substrat doit-il être manipulé pour éviter toute contamination ?
R2 : Manipulez le substrat dans un environnement propre en utilisant des gants et des outils antistatiques. Minimisez l'exposition aux particules en suspension dans l'air en utilisant des conteneurs de stockage spécifiques et des protocoles de salle blanche afin de préserver l'intégrité de sa surface.

Q3 : Est-il possible d'ajuster les dimensions du substrat pour des applications spécifiques ?
A3 : Le modèle actuel est normalisé à 10x10x1 mm. Pour les dimensions personnalisées, il est nécessaire de consulter les spécialistes techniques de SAM afin d'évaluer les modifications du processus et la faisabilité en fonction des besoins de la recherche ou de la production.

Informations complémentaires

Les monocristaux de nickel offrent une orientation cristallographique définie qui est essentielle pour les études expérimentales dans les domaines de la métallurgie et du traitement des semi-conducteurs. La cohérence de leur structure granulaire et de leurs propriétés de surface facilite les études contrôlées sur la formation de films épitaxiés et le comportement métallique dans diverses conditions de traitement.

La recherche sur les substrats monocristallins contribue à la compréhension des transitions de phase et des phénomènes de surface dans les métaux. Ces connaissances fondamentales permettent d'améliorer les techniques de dépôt et guident le développement de matériaux avancés pour des applications industrielles et universitaires.