CY9457 Substrats monocristallins en cuivre Substrat en cuivre (111), 10x10x0.5 mm, SSP

Substrats monocristallins en cuivre Substrat en cuivre (111), 10x10x0,5 mm, SSP Description

Ce produit est fabriqué à partir de cuivre de haute pureté avec une orientation cristallographique (111), garantissant une structure de réseau uniforme sur toute la surface de 10x10 mm. Le substrat mesure 0,5 mm d'épaisseur, optimisé pour la recherche sur les semi-conducteurs et la science des matériaux. Les propriétés cristallines contrôlées réduisent la variabilité des joints de grains, ce qui facilite les applications analytiques et de dépôt. Grâce à des méthodes rigoureuses de caractérisation de la surface, SAM confirme la planéité et l'homogénéité essentielles pour les intégrations de processus sensibles.

Substrats monocristallins en cuivre Substrat en cuivre (111), 10x10x0,5 mm, SSP Applications

1.électronique
- Utilisé comme base pour la croissance épitaxiale dans les dispositifs semi-conducteurs afin de minimiser les décalages de réseau en tirant parti de l'orientation uniforme (111).
- Utilisé comme substrat dans les tests d'interconnexion microélectronique pour obtenir une conductivité stable grâce à une structure cristalline contrôlée.

2.recherche en science des matériaux
- Sert de porte-échantillon dans les systèmes de dépôt de couches minces afin de garantir une cristallographie cohérente qui améliore l'adhérence du film.
- Fréquemment utilisé dans les études d'analyse de surface pour évaluer l'impact de l'arrangement atomique sur les propriétés des matériaux en exploitant sa structure homogène.

Substrats monocristallins de cuivre Substrat de cuivre (111), 10x10x0,5 mm, emballage SSP

Les substrats sont emballés dans des sachets antistatiques et résistants à l'humidité avec des inserts en mousse pour éviter les chocs mécaniques et la contamination de l'environnement. Les instructions de stockage recommandent un environnement sec et à température contrôlée. Des couches de protection supplémentaires et des emballages compartimentés personnalisés sont disponibles en fonction des besoins de l'utilisateur pour protéger le substrat pendant le transport et le stockage à long terme.

Questions fréquemment posées

Q1 : Quel est l'impact de l'orientation (111) sur les performances du substrat de cuivre ?
R1 : L'orientation (111) produit un arrangement atomique cohérent, qui minimise les défauts lors du dépôt de couches minces, favorisant ainsi une croissance uniforme des couches et une amélioration des performances électroniques dans les équipements de traitement.

Q2 : Quelles sont les mesures de contrôle de la qualité appliquées pendant la production ?
R2 : SAM utilise l'inspection microscopique directe de la surface et l'analyse par diffraction des rayons X pour vérifier l'orientation des cristaux et la cohérence de la structure. Cette méthode permet de s'assurer que chaque substrat répond aux critères d'alignement et de planéité de surface spécifiés (111).

Q3 : Ce substrat peut-il être intégré dans les processus de traitement des semi-conducteurs existants ?
R3 : Oui, sa taille de 10x10 mm et son épaisseur de 0,5 mm sont conformes aux normes d'équipement couramment utilisées dans la fabrication des semi-conducteurs. La qualité constante des cristaux simplifie l'intégration dans les processus courants de dépôt et de gravure.

Informations complémentaires

La nature monocristalline des substrats de cuivre joue un rôle important dans la réduction des défauts au niveau atomique, favorisant ainsi la fabrication de semi-conducteurs avancés. L'orientation uniforme des cristaux, telle que (111), constitue une plate-forme fiable pour l'étude des phénomènes interfaciaux et de la croissance des couches minces.

Dans le contexte plus large de la science des matériaux, les substrats monocristallins sont essentiels pour la recherche qui nécessite un contrôle précis des propriétés structurelles. Ces substrats facilitent la compréhension des effets cristallographiques fondamentaux sur les performances des matériaux, ce qui facilite les recherches universitaires et industrielles sur les applications électroniques et optiques avancées.