CY9450 Substrats monocristallins en cuivre Substrat en cuivre (110), 5x5x1 mm, SSP

Substrats monocristallins en cuivre Substrat en cuivre (110), 5x5x1 mm, SSP Description

Le produit est un substrat de cuivre de haute pureté avec une orientation cristallographique (110) et des dimensions nominales de 5x5x1 mm. Fabriqué à l'aide de processus de croissance cristalline et de recuit contrôlés, la structure monocristalline minimise les effets de limite de grain. Son état de surface défini et sa précision dimensionnelle permettent des analyses détaillées dans la recherche sur les semi-conducteurs et la caractérisation des matériaux. L'uniformité du substrat permet d'obtenir des mesures cohérentes de la diffusion des électrons et de la conductivité thermique.

Substrats monocristallins en cuivre Substrat en cuivre (110), 5x5x1 mm, SSP Applications

Applications électroniques
- Utilisé comme couche conductrice dans les dispositifs microélectroniques pour améliorer l'intégrité du signal en tirant parti de son orientation cristallographique contrôlée.

Recherche et développement
- Utilisé comme substrat dans les études de science des surfaces pour étudier l'anisotropie du cuivre, permettant une analyse détaillée du comportement des électrons avec une interférence minimale des défauts.

Traitement industriel
- Fréquemment utilisé dans les systèmes d'étalonnage pour le contrôle de la qualité afin de valider l'équipement de mesure en utilisant ses dimensions précises et son uniformité cristalline.

Substrats monocristallins en cuivre Substrat en cuivre (110), 5x5x1 mm, emballage SSP

Chaque substrat est emballé individuellement dans un support antistatique doublé de mousse et scellé dans un sac résistant à l'humidité afin de limiter l'oxydation et la contamination. La méthode d'emballage comprend une couche de protection secondaire et un étiquetage clair pour l'identification. Il est recommandé de stocker les produits dans un environnement propre et à température contrôlée. Des options d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre aux exigences spécifiques de manipulation ou de transport.

Questions fréquemment posées

Q1 : Quelles sont les mesures de contrôle qui garantissent la précision de l'orientation des cristaux ?
R1 : Le processus de production comprend des inspections par diffraction des rayons X et par microscopie optique qui vérifient l'orientation (110) avec une tolérance à l'échelle atomique, garantissant un écart minimal par rapport aux paramètres cristallographiques souhaités.

Q2 : Comment la qualité de la surface du substrat est-elle maintenue pendant la fabrication ?
R2 : Le polissage séquentiel, les procédures de nettoyage et la microscopie à force atomique sont utilisés pendant la fabrication pour obtenir une faible rugosité de surface, ce qui est essentiel pour les applications nécessitant des évaluations précises du comportement des électrons.

Q3 : Ces substrats peuvent-ils supporter des processus à haute température ?
R3 : Les substrats ont été testés dans des conditions de température élevée typiques du traitement des semi-conducteurs. Les cycles thermiques et les évaluations métallurgiques confirment que le matériau conserve son intégrité microstructurale sans subir de changement de phase.

Informations complémentaires

Les monocristaux de cuivre présentent un avantage certain pour les études sur la conduction électrique anisotrope et l'analyse des défauts des matériaux. Leur structure de grain non encombrée permet d'étudier avec précision la dynamique des électrons et les interactions de surface, ce qui est crucial à la fois pour la recherche universitaire et pour le développement des matériaux industriels.

Les progrès de la technologie de croissance des cristaux ont amélioré la reproductibilité et la pureté des substrats de cuivre. Les processus de fabrication améliorés permettent d'obtenir des substrats dont l'orientation cristallographique est contrôlée, ce qui accroît la précision des mesures en microscopie électronique, en spectroscopie et en évaluation de la conductivité thermique.