CY8929 Film de diséléniure d'étain CVD sur substrat de saphir plan C Film de SnSe2 10x10 mm

Film de diséléniure d'étain CVD sur substrat de saphir à plan C Film SnSe2 10x10 mm Description

Notre film de diséléniure d'étain (SnSe₂) produit par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) sur un substrat de saphir en plan C offre une uniformité de matériau et une qualité cristalline exceptionnelles. Mesurant 10×10 mm, ce film mince présente une grande pureté, un contrôle précis de l'épaisseur et d'excellentes propriétés électroniques. Grâce aux techniques de dépôt chimique en phase vapeur (CVD), la couche obtenue présente une morphologie de surface uniforme et une mobilité optimale des porteurs. Le robuste substrat de saphir constitue une base fiable, offrant une stabilité thermique, une résistance mécanique et une résistance aux facteurs environnementaux supérieures.

Ces qualités font du film de diséléniure d'étain un produit idéal pour la recherche avancée et les applications commerciales dans les domaines de l'optoélectronique, de la photovoltaïque et des semi-conducteurs. Un contrôle strict de la qualité tout au long du processus de fabrication garantit des résultats reproductibles et le respect de normes industrielles rigoureuses. Que vous recherchiez de nouvelles structures électroniques ou que vous développiez des dispositifs de nouvelle génération, notre produit SnSe₂-sur-saphir est conçu pour répondre à des exigences de performance rigoureuses et fournir des résultats cohérents et fiables.

Film de diséléniure d'étain CVD sur substrat de saphir plan C Film SnSe2 10x10 mm Applications

Les films de diséléniure d'étain (SnSe2) produits par dépôt chimique en phase vapeur (CVD) sur des substrats de saphir dans le plan C présentent des propriétés électriques, optiques et chimiques exceptionnelles. L'uniformité, la qualité cristalline et la stabilité du film en font un candidat prometteur pour les semi-conducteurs avancés, les cellules photovoltaïques et les dispositifs optoélectroniques. Le facteur de forme 10x10 mm offre des performances constantes sur toute la surface, ce qui permet une intégration fiable dans diverses applications commerciales, industrielles et de recherche.

1) Applications électroniques et semi-conducteurs

-Application 1 : transistors à effet de champ (FET) de haute performance où la couche uniforme de SnSe2 assure un transport efficace des charges et réduit les fuites.

-Application 2 : capteurs et détecteurs à couche mince bénéficiant de la structure stable et hautement cristalline du film.

2) Dispositifs médicaux et de santé

-Application 1 : plates-formes miniaturisées de biodétection tirant parti de l'excellente conductivité électrique du SnSe2 pour une détection précise des signaux.

-Application 2 : composants optiques avancés dans les systèmes d'imagerie diagnostique qui exploitent le comportement optoélectronique du film.

3) Applications dans le domaine de l'énergie et de la recherche

-Application 1 : Développement de prototypes de cellules solaires, utilisant les fortes capacités d'absorption du SnSe2 pour une meilleure récolte de la lumière.

-Application 2 : Recherche thermoélectrique où les propriétés thermiques et électriques uniques du film facilitent une conversion énergétique plus efficace.

Film de diséléniure d'étain CVD sur substrat de saphir plan C Film SnSe2 10x10 mm Emballage

Chaque film de diséléniure d'étain CVD (SnSe2) sur saphir en plan C est soigneusement emballé dans une pochette antistatique, rembourré avec des inserts en mousse, puis scellé dans un conteneur résistant à l'humidité pour le protéger contre la contamination. Pour une conservation optimale, le produit doit être stocké dans un environnement contrôlé, à faible humidité et à l'abri de la lumière directe du soleil. Nous proposons également une purge à l'azote en option pour minimiser l'exposition aux particules. Des configurations d'emballage personnalisées sont disponibles pour répondre à des exigences spécifiques et garantir une livraison sûre de votre film 10×10 mm.

Emballage : Scellé sous vide, boîte en bois, ou personnalisé.

Film de diséléniure d'étain CVD sur substrat de saphir plan C Film SnSe2 10x10 mm FAQs

Q1 : Quelles sont les principales propriétés du film de diséléniure d'étain CVD sur substrat de saphir en plan C SnSe2 10x10 mm ?

A1 : Ce film de diséléniure d'étain (SnSe2) produit par dépôt chimique en phase vapeur sur un substrat de saphir dans le plan C présente une structure cristalline hexagonale en couches avec une forte liaison dans le plan. Il présente typiquement une épaisseur constante, une morphologie uniforme et un excellent contrôle stœchiométrique. Le film présente une bande interdite comprise entre 1,0 eV et 1,2 eV, ce qui le rend adapté aux applications optoélectroniques. Sa stabilité chimique, sa faible densité de défauts et son adhérence solide au saphir garantissent des performances fiables dans la recherche et les environnements industriels.

Q2 : Comment ce produit doit-il être manipulé et stocké ?

R2 : Pour préserver l'intégrité du film, manipulez le substrat en utilisant des gants de salle blanche et des pinces non métalliques, en évitant tout contact direct avec la surface active. Conservez l'échantillon dans un environnement propre et peu humide, idéalement dans des conditions inertes ou dans un dessiccateur pour éviter la contamination et l'oxydation. Éviter d'exposer le substrat à des températures extrêmes ou à l'humidité. Le respect de ces consignes permet de préserver l'uniformité, l'adhérence et les performances du film en cas d'utilisation prolongée dans des contextes de recherche ou de production.

Q3 : Quelles sont les normes de qualité et les certifications applicables au film de diséléniure d'étain CVD sur substrat de saphir plan C SnSe2 Film 10x10 mm ?

A3 : Ces films CVD SnSe2 sont généralement contrôlés selon les normes ISO 9001 et ISO 14001 en vigueur dans l'industrie afin de garantir une qualité constante et une responsabilité environnementale. Les méthodes de caractérisation peuvent inclure la diffraction des rayons X, la spectroscopie Raman et la spectroscopie photoélectronique à rayons X afin de vérifier la structure cristalline, la composition et la propreté de la surface. Les contrôles par microscopie optique ou électronique permettent de confirmer l'uniformité de l'épaisseur du film. Le respect de ces pratiques garantit une qualité de produit fiable et reproductible, adaptée aux applications commerciales et industrielles.

Informations connexes

1. Processus de fabrication

De nombreuses étapes cruciales sont impliquées dans la production du film de diséléniure d'étain CVD sur substrat de saphir plan C SnSe2 Film 10x10 mm, en commençant par un nettoyage soigneux du substrat pour éliminer les contaminants. Une fois la surface de saphir entièrement préparée, des quantités précises d'étain et de sélénium sont introduites dans un environnement de dépôt chimique en phase vapeur contrôlé, où les températures et les débits de gaz sont méticuleusement régulés. Cette approche garantit un dépôt uniforme de la couche SnSe2, ce qui permet d'obtenir une remarquable uniformité de l'épaisseur sur le substrat de 10x10 mm.

Pendant le processus de dépôt, des systèmes de surveillance avancés contrôlent des paramètres tels que la température du substrat, la pression de la chambre et les concentrations des réactifs. Les données recueillies en temps réel contribuent à maintenir la pureté du film et permettent des ajustements immédiats si des variations sont détectées. En conséquence, le produit final présente une qualité cristallographique supérieure et un minimum de défauts, ce qui constitue une base stable pour les étapes ultérieures de fabrication des dispositifs.

2. Applications dans les industries de pointe

Dans de nombreux domaines de haute technologie, le film de diséléniure d'étain CVD sur substrat de saphir plan C SnSe2 Film 10x10 mm joue un rôle essentiel en raison de ses excellentes caractéristiques électriques et optiques. Sa bande interdite accordable et sa grande mobilité des porteurs en font un candidat intéressant pour les transistors à couche mince, les photodétecteurs et les dispositifs de collecte d'énergie. Les chercheurs explorent également son potentiel dans les capteurs de la prochaine génération, où la sensibilité du matériau aux stimuli externes pourrait permettre une surveillance précise dans l'automatisation industrielle et l'électronique intelligente.

Les exigences de performance élevées dans les secteurs de pointe tels que l'optoélectronique et l'électronique flexible bénéficient grandement des propriétés distinctes de ce film. La fixation robuste de la couche de diséléniure d'étain au substrat de saphir améliore la fiabilité dans des conditions thermiques et mécaniques variables. Par conséquent, les fabricants et les instituts de recherche continuent d'observer une demande régulière pour ce matériau d'ingénierie unique, ce qui stimule le développement et l'exploration de nouvelles applications.