CY8927 Film de diséléniure de platine CVD sur substrat de saphir plan C Film PtSe2 10x10 mm

Film de diséléniure de platine CVD sur substrat de saphir à plan C Film PtSe2 10x10 mm Description

Découvrez les performances exceptionnelles de notre film de diséléniure de platine CVD (PtSe2) sur un substrat de saphir en plan C, conçu avec précision pour soutenir la recherche de pointe et la fabrication de dispositifs. D'une dimension standard de 10×10 mm, ce film de PtSe2 de haute qualité offre une excellente cristallinité et une couverture uniforme. Le processus de dépôt en phase vapeur (CVD) étroitement contrôlé garantit une épaisseur constante, facilitant des mesures électriques et optiques fiables tout en réduisant la variabilité des échantillons.

La structure en couches unique du PtSe2 présente un potentiel prometteur pour des applications dans les domaines de l'électronique avancée, de la spintronique et des technologies de détection. Sa faible fonction de travail, sa mobilité élevée des porteurs et sa stabilité chimique robuste en font un choix idéal pour les transistors, les photodétecteurs et les capteurs de gaz à haute performance. Rigoureusement testé pour répondre à des normes de qualité strictes, ce film de PtSe2 obtenu par dépôt en phase vapeur (CVD) offre une reproductibilité supérieure, ce qui garantit la confiance dans chaque projet expérimental et commercial.

Film de diséléniure de platine CVD sur substrat de saphir plan C Film PtSe2 10x10 mm Applications

Le film de diséléniure de platine CVD sur substrat de saphir en plan C (film PtSe2 10x10 mm) offre une conductivité électrique remarquable, une stabilité chimique et une bande interdite modifiable, ce qui en fait une option polyvalente pour les technologies modernes. Sa structure cristalline de haute qualité et son épaisseur uniforme permettent d'obtenir des performances fiables dans des environnements difficiles. Des capteurs industriels aux installations de recherche avancée, ce matériau en couche mince se prête à de nombreuses innovations qui favorisent l'efficacité, la durabilité et la précision.

1) Applications industrielles

-Capteurs de gaz d'échappement automobile capables de fonctionner dans des conditions difficiles

-Surveillance des processus chimiques pour la détection en temps réel des composés volatils

2) Applications dans le domaine de la recherche

-Exploration des matériaux 2D pour les dispositifs électroniques de la prochaine génération

-Développement de prototypes de capteurs à haute sensibilité pour des expériences en laboratoire

3. applications commerciales

-Produits électroniques grand public avancés avec une conductivité et une durabilité améliorées

-Composants de télécommunications nécessitant des performances stables dans des conditions variées

Film de diséléniure de platine CVD sur substrat de saphir plan C Film PtSe2 10x10 mm Emballage

Chaque film de diséléniure de platine CVD de 10x10 mm sur substrat de saphir en plan C est soigneusement emballé dans un conteneur scellé, peu statique, doublé de mousse pour éviter les dommages physiques. Un sachet supplémentaire résistant à l'humidité permet de maintenir la sécheresse, tandis qu'un papier antirouille atténue la contamination. Pour un stockage à long terme, conserver à température ambiante dans un environnement propre et sans poussière. Les options de personnalisation comprennent des boîtes de taille spéciale, le scellement sous vide ou la purge à l'azote pour une protection accrue en fonction des besoins spécifiques de l'application.

Emballage : Scellé sous vide, boîte en bois ou sur mesure.

Film de diséléniure de platine CVD sur substrat de saphir plan C Film PtSe2 10x10 mm FAQs

Q1 : Quelles sont les principales propriétés du film de diséléniure de platine CVD sur substrat de saphir plan C PtSe2 10x10 mm ?

R1 : Ce film de diséléniure de platine CVD (PtSe2) sur un substrat de saphir en plan C de 10x10 mm présente une qualité cristalline élevée, une morphologie de surface uniforme et un contrôle précis de l'épaisseur. Le PtSe2 présente une conductivité électrique remarquable, des propriétés chimiques stables et une bonne stabilité thermique qui conviennent à des applications électroniques ou de détection avancées. La structure en couches du film permet d'accorder les caractéristiques de la bande interdite, tandis que le substrat en saphir garantit la robustesse mécanique, un décalage minimal du réseau et des performances fiables dans diverses conditions expérimentales et industrielles.

Q2 : Comment ce produit doit-il être manipulé et stocké ?

R2 : Il est recommandé de manipuler ce film de PtSe2 avec des gants, car les huiles ou les particules peuvent dégrader l'intégrité de sa surface. Conservez le substrat dans un récipient propre et sec ou dans un sac sous vide afin d'éviter toute contamination et tout dommage dû à l'humidité. Évitez les contraintes mécaniques excessives en saisissant les bords plutôt qu'en touchant la surface active. Utilisez des outils non abrasifs et veillez à ce que l'environnement soit exempt de charges statiques afin de maintenir une qualité optimale du film et d'éviter les défauts.

Q3 : Quelles sont les normes de qualité et les certifications applicables au film de diséléniure de platine CVD sur substrat de saphir plan C PtSe2 Film 10x10 mm ?

R3 : Les fabricants adhèrent généralement aux principes de gestion de la qualité ISO 9001 afin de garantir la cohérence de la fabrication et des essais des produits. Le film PtSe2 fait l'objet d'évaluations métrologiques approfondies, notamment par diffraction des rayons X (XRD), microscopie à force atomique (AFM) et spectroscopie Raman, afin de vérifier la structure cristalline, l'uniformité et l'épaisseur. Ces normes confirment que le film convient à la recherche, au prototypage et aux applications à l'échelle industrielle nécessitant des matériaux reproductibles et de haute qualité.

Informations connexes

1. Processus de fabrication

La fabrication du film de diséléniure de platine CVD de 10x10 mm sur des substrats de saphir à plan c implique des étapes de dépôt soigneusement contrôlées afin d'obtenir une épaisseur et une qualité cristalline uniformes. Grâce à un dispositif de dépôt chimique en phase vapeur réglé avec précision, les gaz précurseurs contenant du platine et du sélénium réagissent à des températures élevées, ce qui garantit la formation d'une couche de PtSe2 pure présentant un minimum de défauts. Le substrat de saphir à plan c, connu pour sa stabilité, offre une surface de croissance optimale qui préserve l'intégrité du film tout au long du processus.

En tenant compte des procédures de nettoyage du substrat et de montée en température, la séquence de croissance du film est méticuleusement affinée pour répondre à des exigences dimensionnelles strictes. Les techniciens calibrent fréquemment les débits de gaz et la pression de la chambre pour maintenir l'uniformité du film sur sa surface de 10 x 10 mm, ce qui permet d'accroître l'évolutivité et la cohérence du processus.

2. Applications dans les industries de pointe

Au-delà de l'électronique conventionnelle, le film de PtSe2 sur saphir à plan c ouvre des possibilités dans des domaines tels que les capteurs à haute performance et les systèmes optoélectroniques de la prochaine génération. Comme le diséléniure de platine présente une forte conductivité électrique et des propriétés de bande interdite accordables, il peut améliorer la détection des signaux dans les réseaux de capteurs commerciaux. Par exemple, les photodétecteurs avancés utilisés dans les processus d'automatisation industrielle peuvent bénéficier grandement de la réponse stable du matériau dans des conditions de température variables.

Servant de plateforme robuste pour les interconnexions électroniques à grande vitesse, ce film de PtSe2 ouvre également la voie à l'innovation dans les architectures de dispositifs flexibles. Sa capacité à maintenir les performances dans des empreintes compactes en fait un choix intéressant pour les circuits intégrés de pointe et les composants photoniques spécialisés. Par conséquent, les équipes d'ingénieurs qui explorent les applications de dispositifs sophistiqués donnent souvent la priorité au film de diséléniure de platine CVD de 10x10 mm pour ses propriétés électriques constantes et sa nature adaptable.