CY8925 Film de disulfure de tungstène sur substrat SiO2/Si Film WS2 10x10 mm

Film de disulfure de tungstène sur substrat SiO2/Si Film WS2 10x10 mm Description

Notre film de disulfure de tungstène (WS2) de haute qualité sur un substrat SiO2/Si de 10×10 mm combine une stabilité exceptionnelle avec des propriétés électroniques et optiques bien définies. Cultivé dans des conditions contrôlées, ce dichalcogénure bidimensionnel de métaux de transition présente une épaisseur de couche uniforme et des défauts minimes. Sa structure en couches lui confère une bande interdite importante et une excellente stabilité thermique et chimique, ce qui le rend adapté à la recherche de pointe dans les domaines de l'électronique, de la photonique et des technologies de détection.

Chaque film WS2 est soumis à une inspection rigoureuse afin de garantir une épaisseur, une pureté et une cristallinité constantes. Ces normes de qualité strictes garantissent des performances et une reproductibilité optimales des dispositifs pour les applications universitaires et industrielles. Qu'il s'agisse de recherche sur les semi-conducteurs de la prochaine génération, de développement de nouveaux capteurs ou de conception optoélectronique avancée, ce film WS2 sur substrat SiO2/Si offre la fiabilité et l'efficacité exigées par les projets scientifiques novateurs.

Film de disulfure de tungstène sur substrat SiO2/Si Film WS2 10x10 mm Applications

Ce film de disulfure de tungstène sur substrat SiO2/Si offre une série de caractéristiques avancées, notamment une grande stabilité chimique, une résistance mécanique élevée et d'excellentes propriétés électroniques. Sa structure 2D en couches et son épaisseur sur mesure permettent des solutions spécialisées dans les secteurs de l'électronique, de la recherche et du commerce. En tirant parti de ses qualités uniques, les utilisateurs peuvent mettre au point de nouvelles technologies qui privilégient l'amélioration des performances, de la fiabilité et de l'efficacité.

1) Applications industrielles

-Revêtements lubrifiants haute performance, réduisant le frottement et l'usure des outils de fabrication.

-Couches protectrices durables pour les équipements de traitement chimique, améliorant la résistance à la corrosion

-Solutions avancées de gestion thermique pour les composants automobiles, améliorant l'efficacité globale.

2) Applications dans le domaine de la recherche

-Canaux de transistors de la prochaine génération dans les études sur les semi-conducteurs, exploitant l'excellente mobilité des porteurs du WS2

-Prototypage de photodétecteurs pour l'optoélectronique, en tirant parti de ses propriétés optiques accordables

-Expériences de catalyse en génie chimique, bénéficiant de la stabilité chimique robuste du film.

3) Applications commerciales

-Électronique et écrans flexibles, grâce à la structure 2D adaptable du film

-Capteurs à haute sensibilité dans le domaine de la santé, permettant un diagnostic plus précis des patients

-Amélioration de la conception des cellules solaires dans les systèmes d'énergie renouvelable, en améliorant l'absorption de la lumière et les taux de conversion.

Film de disulfure de tungstène sur substrat SiO2/Si Film WS2 Emballage 10x10 mm

Chaque film de disulfure de tungstène (WS2) de 10 x 10 mm sur substrat SiO2/Si est soigneusement scellé dans une pochette antistatique, résistante à l'humidité et rembourrée de mousse. Cette pochette assure une protection contre les dommages mécaniques, l'humidité et les contaminants. Les films emballés doivent être stockés dans un environnement propre et sec, à température ambiante. Des conteneurs purgés à l'azote sont disponibles en option pour réduire davantage les risques d'oxydation. Des solutions d'emballage personnalisées sont proposées sur demande pour répondre aux exigences spécifiques de la recherche ou de la production.

Emballage : Scellé sous vide, boîte en bois, ou personnalisé.

Film de disulfure de tungstène sur substrat SiO2/Si Film WS2 10x10 mm FAQs

Q1 : Quelles sont les principales propriétés du film de disulfure de tungstène sur substrat SiO2/Si WS2 Film 10x10 mm ?

R1 : Les propriétés matérielles du film de disulfure de tungstène sur substrat SiO2/Si s'articulent autour de sa structure en couches, de sa bande interdite semi-conductrice distincte et de sa forte rigidité dans le plan. L'uniformité de l'épaisseur garantit un comportement optique et électronique cohérent, tandis que la chimie de surface du film assure des performances stables dans des conditions environnementales standard. Le film WS2 présente une grande stabilité thermique, de faibles caractéristiques de frottement et une photoresponsabilité remarquable, ce qui le rend adapté aux applications électroniques et photoniques avancées.

Q2 : Comment ce produit doit-il être manipulé et stocké ?

R2 : Ce produit doit être manipulé dans un environnement propre, avec des gants, afin de minimiser la contamination par les particules et l'huile. Évitez d'exposer le film à une humidité excessive ou à des températures extrêmes pendant de longues périodes. Si possible, conservez chaque substrat dans un emballage individuel exempt d'électricité statique, dans un dessiccateur ou un conteneur scellé. Cela permet de préserver l'intégrité structurelle du film, d'éviter l'oxydation indésirable ou la dégradation de la surface, et de garantir des performances fiables lors des étapes de traitement et de test ultérieures.

Q3 : Quelles sont les normes de qualité et les certifications applicables au film de disulfure de tungstène sur substrat SiO2/Si WS2 Film 10x10 mm ?

A3 : L'assurance qualité du film de disulfure de tungstène suit généralement les normes reconnues pour les matériaux semi-conducteurs, telles que la norme ISO 9001 pour la cohérence et la fiabilité de la fabrication. Le processus de production comprend souvent des mesures approfondies de l'épaisseur, de l'uniformité et de l'adhérence du film. Certains producteurs vérifient également la conformité avec les directives environnementales telles que RoHS ou REACH, afin de garantir un minimum de substances dangereuses. Ces normes contribuent à garantir la performance, la répétabilité et la traçabilité des produits tout au long de la chaîne d'approvisionnement pour les applications commerciales et industrielles.

Informations connexes

1. Processus de fabrication

Des techniques optimisées de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) sont couramment employées pour obtenir des films de disulfure de tungstène (WS2) uniformes et de haute qualité sur des substrats SiO2/Si. Au cours de ce processus, des températures et des débits de gaz contrôlés avec précision garantissent une épaisseur de couche constante sur la surface de l'échantillon de 10 x 10 mm. En gérant soigneusement les conditions de croissance, les fabricants peuvent produire des films WS2 avec une excellente couverture, une densité de défauts réduite et une forte adhérence à la couche de dioxyde de silicium sous-jacente.

Le maintien d'un environnement stable tout au long du dépôt est essentiel pour minimiser la contamination et préserver la structure du réseau WS2. Un contrôle méticuleux de la composition des précurseurs et de la pureté des gaz vecteurs permet d'améliorer la cristallinité et la reproductibilité. En conséquence, ces films présentent des propriétés électriques, optiques et mécaniques étroitement contrôlées, ce qui les rend adaptés à une large gamme d'applications commerciales et de recherche.

2. Tendances du marché mondial

Des rapports récents font état d'un intérêt mondial croissant pour les matériaux bidimensionnels tels que le WS2, en raison de leurs propriétés bénéfiques dans des domaines tels que la nanoélectronique, l'optoélectronique et le stockage de l'énergie. La demande de films de disulfure de tungstène de 10x10 mm sur des substrats SiO2/Si est particulièrement prononcée dans les régions où les secteurs des semi-conducteurs et des matériaux avancés sont florissants, et où les instituts de recherche et les leaders de l'industrie collaborent sur de nouveaux concepts de dispositifs.

L'augmentation des fonds consacrés à la recherche et au développement, ainsi que la forte coopération entre les parties prenantes universitaires, commerciales et gouvernementales, ont accéléré les efforts visant à intégrer le WS2 dans les technologies de la prochaine génération. Des capteurs ultrasensibles aux composants électroniques en couches, le marché en expansion reconnaît les films WS2 comme une option polyvalente pour les dispositifs de haute performance, ce qui ouvre la voie à la poursuite des investissements et de l'innovation dans ce domaine spécialisé.