CY8923 Monocouche de diséléniure de molybdène CVD sur substrat de saphir plan C Film MoSe2 10x10 mm

Film de diséléniure de molybdène CVD monocouche sur substrat de saphir plan C MoSe2 10x10 mm Description

Découvrez la qualité exceptionnelle de notre film CVD monocouche de diséléniure de molybdène (MoSe2), méticuleusement cultivé sur un substrat de saphir en plan C afin de garantir une uniformité et une cristallinité exceptionnelles. Mesurant 10×10 mm, cette couche atomiquement fine présente des propriétés électroniques et optiques remarquables, ce qui la rend idéale pour la recherche et le développement de pointe dans des domaines tels que l'optoélectronique, la photovoltaïque et la nanoélectronique. Chaque film fait l'objet d'un contrôle de qualité rigoureux afin de vérifier l'état de surface, la densité des défauts et l'uniformité de l'épaisseur de la couche, ce qui garantit des performances fiables dans des applications exigeantes.

Grâce au processus CVD avancé, le MoSe2 monocouche présente une mobilité élevée des porteurs, un comportement excitonique fort et une excellente stabilité thermique. Que vous soyez à la recherche de transistors de nouvelle génération, de photodétecteurs ou d'électronique flexible, notre film MoSe2 offre la fiabilité et la précision dont vous avez besoin pour fabriquer des dispositifs avec succès. Ce produit de pointe constitue la plateforme ultime pour les innovateurs qui explorent l'avenir des matériaux bidimensionnels.

Film de diséléniure de molybdène monocouche CVD sur substrat de saphir plan C MoSe2 10x10 mm Applications

Le diséléniure de molybdène (MoSe2) déposé en monocouche par dépôt chimique en phase vapeur sur un substrat de saphir dans le plan C offre une combinaison de propriétés électroniques, optiques et mécaniques remarquables. Avec une grande surface uniforme de 10x10 mm, ce film mince de haute qualité offre des performances supérieures dans divers secteurs civils, commerciaux et industriels. Sa mobilité exceptionnelle des porteurs, sa bande interdite accordable et sa stabilité thermique en font un choix idéal pour les technologies de la prochaine génération dans de nombreux domaines.

1) Applications électroniques et semi-conducteurs

-Transistors haute performance : Exploitez l'excellente mobilité des électrons du film pour créer des dispositifs plus rapides et moins énergivores.

-Photodétecteurs et capteurs : Exploiter la bande interdite accordable pour une détection sensible des signaux optiques.

-Électronique flexible : Utiliser la flexibilité mécanique de la monocouche pour des dispositifs portables ou pliables.

2. énergie et technologies renouvelables

-Cellules solaires : améliorer la conversion photovoltaïque grâce à la forte absorption de la lumière et à la stabilité du matériau.

-Stockage de l'énergie : améliorer les composants des batteries grâce à une conductivité électrique et une résistance chimique supérieures.

3) Recherche et applications scientifiques

-Études sur les matériaux 2D avancés : Étude de phénomènes quantiques et optoélectroniques uniques

-Prototypage de dispositifs : Test de nouveaux circuits ou de configurations de capteurs dans des laboratoires de pointe

Diséléniure de molybdène monocouche CVD sur substrat de saphir plan C Film MoSe2 10x10 mm Emballage

Ce film MoSe₂ est emballé dans une boîte antistatique en polypropylène, scellée sous vide pour empêcher l'infiltration d'humidité et de particules. Un coussin de mousse robuste protège contre les contraintes mécaniques, tandis que l'ensemble est placé dans un sachet anti-humidité pour une stabilité à long terme. Il doit être stocké dans un environnement propre et sec, à faible teneur en oxygène. Des couches de protection et un étiquetage sur mesure sont disponibles sur demande pour répondre à des exigences spécifiques.

Emballage : Scellé sous vide, boîte en bois, ou personnalisé.

Film CVD monocouche de diséléniure de molybdène sur substrat de saphir plan C MoSe2 10x10 mm FAQs

Q1 : Quelles sont les principales propriétés du film MoSe2 10x10 mm de diséléniure de molybdène monocouche CVD sur substrat de saphir en plan C ?

A1 : Ce MoSe2 monocouche présente typiquement une bande interdite directe d'environ 1,5 à 1,6 eV et présente une forte photoluminescence en raison de sa structure cristalline bidimensionnelle. La couche uniforme, d'une épaisseur d'environ 0,7 nm, forme un réseau hexagonal sur le substrat de saphir. Sa grande mobilité des porteurs et son excellente transparence optique en font un matériau adapté aux applications électroniques et optoélectroniques, ainsi qu'au développement d'autres dispositifs à l'échelle nanométrique.

Q2 : Comment ce produit doit-il être manipulé et stocké ?

R2 : Manipulez les échantillons de MoSe2 monocouche dans une salle blanche ou dans un environnement contrôlé similaire afin d'éviter la contamination par les particules et les dommages de surface. Les stocker dans un conteneur à faible humidité et à atmosphère inerte afin de minimiser l'oxydation ou la dégradation liée à l'humidité. Lors de la manipulation des films, utilisez des outils non abrasifs et portez des gants non poudrés. Remettre rapidement les échantillons dans leur emballage de protection après toute inspection ou mesure afin de préserver l'intégrité et les performances.

Q3 : Quelles sont les normes de qualité et les certifications qui s'appliquent aux films MoSe2 10x10 mm CVD monocouche de diséléniure de molybdène sur substrat de saphir en plan C ?

R3 : Ces films sont généralement produits dans le cadre de systèmes de gestion de la qualité ISO 9001 rigoureux qui mettent l'accent sur la cohérence et la traçabilité des processus. Des techniques avancées de caractérisation des matériaux, telles que la spectroscopie Raman, la diffraction des rayons X et les mesures de photoluminescence, garantissent l'uniformité, le contrôle de l'épaisseur et la qualité cristallographique. Les fabricants suivent également des protocoles de salle blanche, des critères d'inspection normalisés et des méthodes de production documentées afin de répondre aux normes élevées requises pour la recherche, l'optoélectronique et la fabrication d'appareils commerciaux.

Informations connexes

1. Processus de fabrication

Les techniciens s'appuient sur une routine de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) bien contrôlée pour faire croître le film monocouche de diséléniure de molybdène sur le saphir de plan C. Cette procédure précise implique un réglage fin des paramètres de la couche de dépôt chimique en phase vapeur (CVD) et de la couche de dépôt chimique en phase vapeur. Cette procédure précise implique un réglage fin de la température, de la pression et des débits des réactifs, afin de garantir que la couche de MoSe2 conserve une épaisseur uniforme sur le substrat de 10 x 10 mm. La base en saphir constitue une plate-forme stable qui favorise une grande fidélité cristalline, produisant des monocouches bien définies et présentant peu de défauts, idéales pour les applications dans le domaine des semi-conducteurs.

Au cours du cycle de croissance soigneusement contrôlé, les matériaux sources et les gaz porteurs sont introduits dans une chambre à haute température, où les réactifs se décomposent et se déposent sur le saphir. Cette technique de dépôt en phase vapeur permet un excellent contrôle de la pureté des couches, des modèles d'alignement atomique et de la continuité du film, autant d'éléments essentiels pour les applications électroniques ou optoélectroniques. La répétition constante des étapes méticuleusement structurées permet d'obtenir des résultats reproductibles pour la production par lots et favorise la fiabilité des performances des dispositifs.

2. Applications dans les industries de pointe

L'électronique flexible bénéficie de la nature extrêmement fine de la monocouche de MoSe2 CVD sur saphir, car le profil bas et la résilience mécanique de ce film permettent la création de dispositifs flexibles de nouvelle génération. Les chercheurs utilisent ces monocouches pour obtenir une mobilité optimale des porteurs et une densité de courant élevée, qui sont toutes deux essentielles pour les technologies de détection, de transistor et d'affichage qui mettent l'accent sur la portabilité et l'efficacité opérationnelle.

D'autres domaines, tels que la communication optique et la photonique, tirent parti de la bande interdite unique et des fortes interactions lumière-matière du MoSe2 pour développer des composants plus rapides et plus efficaces sur le plan énergétique. Les substrats de 10 x 10 mm peuvent être intégrés dans les processus de fabrication de plaquettes sans modification importante, ce qui les rend idéaux pour les laboratoires et les lignes de fabrication commerciales. Cette adaptabilité permet d'accélérer l'innovation tout en maintenant une qualité de produit constante, ce qui renforce l'intérêt pour les films monocouches de MoSe2 dans l'ensemble du paysage technologique mondial.