CY8546 Substrat de cristal de silicium (Si) (110) Dia. 2 pouces

Substrat de cristal de silicium (Si) (110) Dia. 2 pouces Description

Fabriqué à partir de silicium monocristallin de haute pureté avec l'orientation (110), notre substrat Dia. 2 pouces est soigneusement coupé et poli pour offrir une uniformité supérieure. Cette orientation est particulièrement avantageuse pour une variété d'applications microélectroniques, y compris la fabrication de capteurs, les réseaux de transistors et la recherche avancée en physique des semi-conducteurs. Nos substrats répondent à des inspections de qualité rigoureuses pour se conformer aux normes de l'industrie, garantissant une rugosité de surface minimale, une faible variance de la résistance et une intégrité exceptionnelle. Avec une épaisseur constante et une déformation minimale, ils constituent une base fiable pour le traitement précis des dispositifs. Que ce soit pour la production de masse ou la recherche de pointe, notre substrat de cristal de silicium (Si) (110) Dia. 2 pouces se distingue par ses performances robustes, sa répétabilité fiable et sa conformité de premier ordre aux exigences mondiales de fabrication de semi-conducteurs.

Substrat de cristal de silicium (Si) (110) Dia. 2 pouces Applications

Les substrats en cristal de silicium (Si) (110) Dia. 2 pouces sont largement reconnus pour leur pureté exceptionnelle, leur orientation cristallographique et leurs propriétés structurelles stables. Ils jouent un rôle essentiel dans de nombreuses industries, de la microélectronique aux domaines de recherche avancée. Leur disposition cristalline uniforme offre une conductivité électrique supérieure, ce qui les rend idéaux pour les capteurs, les dispositifs semi-conducteurs et la recherche de pointe. Cette combinaison d'orientation précise et de propriétés de surface de haute qualité les distingue pour diverses applications spécialisées.

1) Applications industrielles

-Fabrication de plaquettes de précision : l'orientation (110) améliore la résistance mécanique et les caractéristiques de gravure, ce qui permet la production de systèmes microélectromécaniques robustes.

-Capteurs de haute performance : Les propriétés électroniques supérieures facilitent une détection et une mesure très précises dans la fabrication et le contrôle des processus.

2) Applications dans le domaine de la recherche

-Prototypage de dispositifs quantiques : La structure cristalline stable favorise le développement de systèmes électroniques et quantiques avancés dans les universités et les laboratoires de R&D.

-Études de la science des surfaces : Les surfaces uniformes sont idéales pour étudier les réactions chimiques et les propriétés des matériaux au niveau atomique.

3) Applications commerciales

-Dispositifs semi-conducteurs : Une excellente conductivité et une orientation cristallographique fiable sont cruciales pour la construction de circuits intégrés dans l'électronique grand public.

-Composants photoniques : La disposition précise du réseau améliore les propriétés optiques, ce qui favorise les systèmes photoniques à haut rendement dans les technologies de communication.

Cristal de silicium (Si) Substrat (110) Dia. 2 pouces Emballage

Chaque substrat de silicium (Si) (110) de 2 pouces est emballé individuellement dans un sachet antistatique scellé, doublé d'inserts en mousse pour éviter les dommages mécaniques. Ces sachets sont ensuite enfermés dans des sacs anti-humidité avec des sachets déshydratants pour maintenir la sécheresse et empêcher la contamination. Pour un stockage optimal, les substrats doivent être conservés dans un environnement propre et peu humide. Un étiquetage personnalisé, des formes de mousse spécialisées et des options de double emballage sont disponibles sur demande pour répondre à des exigences particulières en matière d'expédition ou de manutention.

Emballage : Scellé sous vide, boîte en bois, ou personnalisé.

Substrat de cristal de silicium (Si) (110) Dia. 2 pouces FAQ

Q1 : Quelles sont les principales propriétés du substrat en cristal de silicium (Si) (110) Dia. 2 pouces ?

R1 : Le substrat de cristal de silicium (Si) (110) d'un diamètre de 2 pouces présente des caractéristiques électriques, mécaniques et optiques spécifiques qui le rendent essentiel pour les applications avancées. Parmi ses principales propriétés figurent une mobilité élevée des porteurs, une orientation définie le long du plan (110), une faible densité de défauts et une excellente conductivité thermique. Ce substrat est largement utilisé en microélectronique, dans les cellules photovoltaïques et dans d'autres projets de recherche sur les semi-conducteurs.

Q2 : Comment ce produit doit-il être manipulé et stocké ?

R2 : Pour préserver l'état impeccable du substrat, les opérateurs doivent manipuler la plaquette avec des gants non poudrés et des pinces souples ou des pinces à vide afin d'éviter toute contamination de la surface et tout dommage physique. Évitez tout contact direct avec les mains nues et stockez le substrat dans un environnement propre et sec, dans des porte-gaufrettes ou des emballages spécialisés. Une manipulation correcte réduit la contamination particulaire et préserve l'intégrité de la surface en vue d'un traitement ultérieur.

Q3 : Quelles sont les normes de qualité et les certifications qui s'appliquent au substrat de cristal de silicium (Si) (110) Dia. 2 pouces ?

A3 : Le substrat en cristal de silicium (Si) (110) Dia. 2 pouces respecte généralement les normes spécifiques à l'industrie, telles que SEMI M1 pour la géométrie des plaquettes et les spécifications de surface, garantissant une épaisseur, un diamètre et une planéité uniformes. Les fabricants opèrent souvent dans le cadre de systèmes de gestion de la qualité certifiés ISO 9001 afin de garantir la traçabilité et des performances de produit constantes. Le respect de ces normes contribue à la fiabilité du traitement des semi-conducteurs et garantit aux utilisateurs finaux la qualité et la reproductibilité du substrat.

Informations connexes

1. Propriétés et avantages du matériau

Méticuleusement conçu pour une orientation cristallographique précise, le substrat cristallin de silicium (Si) (110) Dia. 2 pouces constitue une excellente plate-forme pour la fabrication avancée de semi-conducteurs. Son orientation (110) garantit un espacement atomique quasi uniforme sur toute la surface, ce qui favorise un comportement de gravure hautement prévisible et facilite les transferts de motifs nets au cours des processus lithographiques. Ce type particulier de substrat en silicium est connu pour ses propriétés mécaniques stables, ce qui le rend moins susceptible de se fissurer ou de se déformer dans les conditions exigeantes de la production microélectronique.

Ces substrats présentent une conductivité électrique exceptionnelle qui peut être adaptée grâce à des procédures de dopage contrôlées, ce qui permet aux chercheurs et aux fabricants d'affiner les performances des plaquettes dans des applications spécialisées. Le format de 2 pouces de diamètre offre un équilibre entre une manipulation facile et une surface suffisante pour le prototypage ou la production de dispositifs à plus petite échelle. Doté d'une stabilité thermique exceptionnelle, le substrat de cristal de silicium (Si) (110) Dia. 2 pouces conserve son intégrité lors des cycles répétés de chauffage et de refroidissement, ce qui garantit des résultats constants pour les conceptions de micropuces de haute précision.

2. Tendances du marché mondial

Stimulés par la demande croissante de dispositifs électroniques efficaces et miniaturisés, les substrats en silicium (110) ont suscité une attention accrue dans les régions qui mettent l'accent sur le développement de puces à la pointe de la technologie. Les pays qui se concentrent sur l'innovation en matière de circuits intégrés ont adopté les plaquettes de 2 pouces de diamètre comme matériaux standardisés dans les projets pilotes de recherche, préparant ainsi le terrain pour une future production de masse. Ces facteurs favorisent l'expansion des technologies spécialisées dans les plaquettes de silicium (110), ce qui entraîne une nette augmentation de la croissance industrielle mondiale et de la collaboration entre les installations de fabrication.

L'intérêt croissant pour ces substrats polyvalents est également alimenté par les progrès de l'intelligence artificielle, des systèmes de communication à haute fréquence et des dispositifs photoniques. La compatibilité des plaques de silicium (110) avec de nombreux procédés de fabrication existants permet à ces applications de se développer sans nécessiter une refonte en profondeur des lignes de fabrication. Cette adaptabilité et les nombreuses possibilités d'amélioration des produits placent le substrat cristallin en silicium (Si) (110) Dia. 2 inch à l'avant-garde d'un marché mondial en évolution rapide, promettant une pertinence durable pour les années à venir.