CY8542 Substrat de cristal de silicium (Si) (100) Dia. 1 pouce

Substrat de cristal de silicium (Si) (100) Dia. 1 pouce Description

Le substrat de cristal de silicium (Si) (100) Dia. 1 pouce est méticuleusement conçu pour offrir une uniformité et une pureté exceptionnelles, ce qui en fait une base idéale pour un large éventail d'applications microélectroniques et photoniques. Avec une faible densité de défauts et une tolérance d'épaisseur serrée, cette plaquette monocristalline garantit des résultats cohérents dans des processus tels que la croissance épitaxiale, le dépôt de couches minces et la fabrication de dispositifs. Son orientation cristallographique (100) lui confère des propriétés électriques et mécaniques optimales, ainsi qu'une structure de réseau stable propice aux applications de haute précision.

Fabriqué selon des normes rigoureuses de contrôle de la qualité, ce substrat satisfait ou dépasse les normes industrielles en matière de rugosité de surface, de précision dimensionnelle et de composition des matériaux. Son excellente conductivité thermique et sa résistance mécanique robuste garantissent des performances fiables, même dans des conditions difficiles. Qu'elle soit utilisée pour la recherche, le prototypage ou la production en grande série, cette plaquette de silicone de qualité supérieure offre la cohérence et la durabilité qu'exigent les innovations de haute technologie d'aujourd'hui.

Cristal de silicium (Si) Substrat (100) Dia. 1 pouce Applications

Dans le domaine de l'électronique de pointe et de la recherche sur les matériaux avancés, le substrat de cristal de silicium (Si) (100) Dia. 1 pouce se distingue par sa structure uniforme, sa grande pureté et son excellente stabilité thermique. Ces caractéristiques garantissent une mobilité efficace des porteurs de charge et une intégrité mécanique robuste. Par conséquent, ce substrat permet aux fabricants, aux chercheurs et aux entrepreneurs de repousser les limites de la performance des dispositifs, de la découverte scientifique et des solutions de produits innovants.

1) Applications industrielles

-Fabrication de dispositifs semi-conducteurs : L'orientation uniforme des cristaux et la pureté élevée permettent de produire des circuits intégrés fiables aux performances optimisées.

-Production de capteurs de haute précision : Exploite l'excellente stabilité thermique pour les capteurs nécessitant des mesures précises et cohérentes dans des environnements exigeants.

2) Applications dans le domaine de la recherche

-Recherches sur l'informatique quantique : Tirer parti de la mobilité supérieure des porteurs de charge pour explorer les processus quantiques et développer les architectures informatiques de la prochaine génération.

-Expériences optiques et photoniques : Fournit une plate-forme stable pour l'étude des technologies basées sur la lumière et des percées dans le domaine de la science des matériaux.

3) Applications commerciales

-Progrès de l'électronique grand public : Permet des dispositifs plus rapides, plus petits et plus économes en énergie grâce à une intégrité mécanique robuste et à des capacités de dopage cohérentes.

-Cellules solaires à couche mince : Offre un substrat fiable pour les conceptions photovoltaïques révolutionnaires qui cherchent à maximiser l'efficacité de la conversion de l'énergie.

Cristal de silicium (Si) Substrat (100) Dia. 1 pouce Emballage

Chaque substrat de cristal de silicium (Si) de 1 pouce de diamètre (100) est scellé dans un environnement de salle blanche et protégé par un sac de polyéthylène antistatique à double couche. Enfermé dans un support en plastique rembourré ou dans un conteneur doublé de mousse, le substrat reste à l'abri des contraintes mécaniques et des contaminants. Il doit être stocké dans un endroit sec et à température contrôlée afin de préserver l'intégrité de la plaquette. Des mesures de protection supplémentaires, telles que des enceintes scellées et purgées à l'azote, sont disponibles sur demande, afin de garantir des solutions d'emballage entièrement personnalisées.

Emballage : Scellé sous vide, boîte en bois, ou personnalisé.

Substrat de cristal de silicium (Si) (100) Dia. 1 pouce FAQs

Q1 : Quelles sont les principales propriétés des substrats en cristal de silicium (Si) (100) Dia. 1 pouce ?

R1 : Le substrat présente généralement une structure monocristalline alignée sur l'orientation (100) pour des profils de dopage uniformes. Il est connu pour sa grande mobilité électronique, son épaisseur constante et sa résistivité précise, souvent de l'ordre de l'ohm-cm. Sa conductivité thermique est également remarquable, ce qui facilite la dissipation de la chaleur. Ses faibles niveaux d'impuretés garantissent un minimum de défauts, ce qui le rend adapté aux applications de semi-conducteurs de haute performance.

Q2 : Comment ce produit doit-il être manipulé et stocké ?

R2 : Pour une manipulation sûre, il convient de toujours porter des gants de salle blanche ou des doigtiers afin d'éviter toute contamination par des huiles ou des particules. Évitez de toucher directement la surface polie et utilisez des pinces ou des pinces à vide propres et antistatiques lorsque vous déplacez le substrat. Stockez la plaquette dans un support protecteur ou un conteneur scellé dans un environnement à humidité contrôlée afin de minimiser l'oxydation et l'accumulation de particules. Inspecter régulièrement les conditions de stockage afin de préserver la qualité du substrat.

Q3 : Quelles sont les normes de qualité et les certifications qui s'appliquent au substrat de cristal de silicium (Si) (100) Dia. 1 pouce ?

R3 : Les fabricants adhèrent généralement à la norme ISO 9001 pour la gestion de la qualité, garantissant des processus de production cohérents et une documentation rigoureuse. Les substrats sont souvent conformes aux normes SEMI relatives aux dimensions, à la planéité et à l'état de surface des plaquettes, ce qui garantit leur comparabilité dans l'ensemble de l'industrie des semi-conducteurs. D'autres certifications, telles que la norme ISO 14001, peuvent également s'avérer pertinentes, car elles mettent l'accent sur la responsabilité environnementale. Chaque lot est souvent fourni avec des données d'inspection des matériaux, vérifiant des spécifications telles que l'orientation, l'épaisseur, la rugosité de la surface et la résistivité.

Informations connexes

1. Propriétés et avantages du matériau

Fabriqué avec un diamètre constant de 1 pouce, le substrat cristallin de silicium (Si) d'orientation (100) est apprécié pour son réseau cristallin uniforme et sa grande pureté. Son alignement cristallographique unique garantit un comportement électrique stable, vital pour les applications de haute précision telles que les composants microélectroniques et les dispositifs optoélectroniques. La rigidité mécanique est une autre caractéristique importante, permettant une plus grande résistance au gauchissement et aux contraintes thermiques au cours de processus de fabrication prolongés.

Contrairement aux wafers plus grands, ce substrat de plus petit diamètre offre une polyvalence accrue pour le développement de prototypes ou la production à l'échelle du laboratoire. Sa taille compacte simplifie la manipulation et réduit la probabilité de dommages, ce qui en fait un choix idéal pour les installations de recherche explorant des conceptions spécialisées de semi-conducteurs. Associé à une planéité fiable et à un contrôle étroit de l'épaisseur, il constitue une base solide pour obtenir des résultats précis dans l'expérimentation de dispositifs avancés.

2. Applications dans les industries de pointe

Reconnu pour la précision de ses surfaces, le substrat de cristal de silicium (Si) (100) Dia. 1 pouce fait partie intégrante des domaines de pointe, notamment la photonique, la nanotechnologie et l'ingénierie des capteurs. Dans les entreprises photoniques, l'orientation constante du substrat permet une propagation cohérente des ondes, garantissant une manipulation supérieure de la lumière, essentielle pour les systèmes optiques de la prochaine génération. Dans les laboratoires de nanotechnologie, sa structure atomique rigide permet une nanofabrication fiable, ce qui favorise les innovations en matière de circuits miniaturisés et de plateformes de détection biomoléculaire.

Les ingénieurs du secteur de l'électronique ont intégré ce substrat dans des dispositifs de puissance, des réseaux de transistors et des modules sans fil avancés. L'orientation stable (100) réduit les défauts cristallins, ce qui permet d'augmenter le rendement des dispositifs et d'améliorer les performances dans les applications à haute fréquence. Son diamètre compact, associé à l'uniformité de sa surface, en fait une option privilégiée pour le collage précis des plaquettes et les processus de dépôt en couches, ce qui souligne encore son rôle essentiel dans les progrès des semi-conducteurs modernes.