CY8540 Substrat de cristal de silicium (Si) (110) 10x10 mm

Substrat de cristal de silicium (Si) (110) 10x10 mm Description

Notre substrat cristallin de silicium (Si) (110) 10×10 mm est fabriqué avec précision à partir d'un monocristal de silicium de grande pureté, ce qui garantit une uniformité exceptionnelle et une faible densité de défauts. L'orientation cristallographique (110) offre des avantages uniques pour les processus de fabrication de dispositifs avancés, y compris la gravure anisotrope et la croissance épitaxiale. Sa structure de réseau cohérente permet de minimiser la déformation des couches épitaxiales, ce qui améliore les performances et la fiabilité globale des dispositifs. En outre, la finition lisse de la surface et les tolérances dimensionnelles serrées permettent une intégration transparente dans une large gamme d'applications industrielles et de recherche.

Conçu pour répondre à des normes de qualité rigoureuses, ce substrat est soumis à des procédures d'inspection et de nettoyage strictes afin de réduire la contamination et de maintenir des surfaces de plaquettes optimales. Que vous étudiiez de nouveaux matériaux semi-conducteurs, que vous développiez des circuits intégrés de nouvelle génération ou que vous exploriez les dispositifs MEMS, notre substrat cristallin en silicium (Si) (110) 10×10 mm offre la précision, la durabilité et la cohérence nécessaires pour obtenir des résultats de pointe.

Substrat de cristal de silicium (Si) (110) 10x10 mm Applications

Le substrat cristallin de silicium (Si) (110) 10x10 mm est réputé pour sa structure cristalline uniforme, son dopage cohérent et sa stabilité thermique inégalée. Ce substrat compact est très recherché dans les domaines de l'électronique de pointe, de l'optique de précision et des essais de matériaux. Avec des propriétés telles qu'une grande pureté, une excellente mobilité des porteurs et une grande précision dimensionnelle, il joue un rôle essentiel dans divers domaines, favorisant l'innovation et les percées de la recherche. Conçu pour être fiable, il favorise les performances des appareils de la prochaine génération.

1) Applications industrielles

-Application 1 : utilisée dans les composants de machines à haute température en raison de sa résistance thermique et de sa stabilité supérieures.

-Application 2 : utilisé dans les processus de fabrication de semi-conducteurs à grande échelle pour la production extrêmement précise de plaquettes.

2) Applications dans le domaine de la recherche

-Application 1 : partie intégrante des dispositifs expérimentaux d'informatique quantique pour lesquels le contrôle du dopage est crucial

-Application 2 : essentiel pour le développement de dispositifs nanoélectroniques, permettant l'exploration de nouvelles architectures de transistors.

3) Applications commerciales

-Application 1 : utilisée dans l'électronique grand public haut de gamme pour garantir la longévité et l'efficacité des appareils.

-Application 2 : utilisée dans les technologies photovoltaïques pour améliorer les performances des cellules solaires et la conversion de l'énergie.

Substrat de cristal de silicium (Si) (110) Emballage 10x10 mm

Chaque substrat cristallin de silicium (Si) de 10×10 mm (110) est protégé dans une pochette scellée antistatique avec des inserts en mousse pour éviter les dommages mécaniques. L'emballage comprend des déshydratants pour maintenir la sécheresse et réduire le risque de contamination. Ces produits doivent être stockés dans des environnements propres, à température contrôlée et à l'abri de la lumière directe du soleil. Des options de double scellage et de vide sont disponibles pour une plus grande propreté. Un étiquetage personnalisé, un emballage spécialisé et des ajustements de quantité peuvent être réalisés sur demande.

Emballage : Scellé sous vide, boîte en bois, ou personnalisé.

Substrat de cristal de silicium (Si) (110) 10x10 mm FAQs

Q1 : Quelles sont les principales propriétés du substrat en cristal de silicium (Si) (110) 10x10 mm ?

A1 : Le substrat en cristal de silicium (Si) (110) est connu pour son orientation cristallographique bien définie, sa grande pureté et son contrôle précis du dopage. Avec une constante de réseau d'environ 5,431 Å, il offre une excellente stabilité mécanique, une dureté d'environ 1150 HV et une conductivité thermique de 148 W/m-K. Cette orientation (110) est particulièrement avantageuse pour certaines applications de dispositifs en raison de ses propriétés électriques et optiques anisotropes.

Q2 : Comment ce produit doit-il être manipulé et stocké ?

R2 : Ces substrats sont généralement manipulés avec des gants de salle blanche et stockés dans des emballages inertes ou scellés sous vide pour éviter toute contamination ou oxydation. Les surfaces peuvent être extrêmement sensibles aux rayures, il est donc essentiel de n'utiliser que des matériaux non abrasifs lors du nettoyage. Les fluctuations de température doivent être réduites au minimum pour éviter les déformations, et l'humidité doit être contrôlée pour éviter l'absorption d'humidité qui peut affecter l'intégrité de la surface du substrat.

Q3 : Quelles sont les normes de qualité et les certifications qui s'appliquent au substrat de cristal de silicium (Si) (110) 10x10 mm ?

R3 : Pour des critères de performance stricts, ces substrats sont généralement conformes aux systèmes de gestion de la qualité ISO 9001. De nombreux fournisseurs respectent également les normes SEMI telles que M1 pour les spécifications des plaquettes de silicium, garantissant une épaisseur, une planéité et une orientation cristallographique constantes. Des contrôles de routine utilisant la diffraction des rayons X et la profilométrie de surface vérifient l'uniformité des substrats. En outre, la conformité aux directives RoHS garantit une fabrication respectueuse de l'environnement et exempte de substances dangereuses telles que le plomb, le mercure ou le cadmium.

Informations connexes

1. Propriétés et avantages des matériaux

Le substrat de cristal de silicium (Si) (110) 10x10 mm est réputé pour sa structure robuste et polyvalente, ce qui le rend idéal pour de nombreuses applications de haute précision. Son orientation (110) offre un ensemble unique de caractéristiques cristallographiques, permettant une mobilité supérieure des porteurs dans certaines conceptions de transistors et améliorant les propriétés de conduction de surface. Cette orientation spécifique offre également une meilleure uniformité dans le dépôt de couches minces, ce qui permet aux chercheurs et aux fabricants d'obtenir des résultats fiables lorsqu'ils développent des dispositifs électroniques et photoniques avancés.

Grâce à sa taille compacte de 10 x 10 mm, ce substrat est particulièrement adapté aux essais en laboratoire et aux petites séries. Il établit un équilibre entre l'efficacité des matériaux et les performances des dispositifs, ce qui permet un prototypage rentable sans sacrifier la précision ou la cohérence. Sa capacité à maintenir des caractéristiques électriques stables dans diverses conditions environnementales renforce son rôle dans la recherche de pointe sur les semi-conducteurs et les processus de microfabrication.

2. Tendances du marché mondial

La demande accrue de technologies à haut rendement énergétique et de composants miniaturisés suscite un intérêt considérable pour les substrats cristallins en silicium (Si) (110) 10x10 mm. Les industries telles que la microélectronique, la photovoltaïque et la fabrication de capteurs adoptent activement ces substrats pour répondre à la demande croissante de dispositifs à haute performance et à faible consommation d'énergie. À mesure que les installations de fabrication de semi-conducteurs se développent dans le monde, les fabricants de ces substrats bénéficient de l'établissement de chaînes d'approvisionnement fiables et de la satisfaction des marchés internationaux qui accordent une grande importance à la précision de l'orientation cristallographique et à la constance des propriétés des matériaux.

Ces dernières années, des initiatives de collaboration entre des instituts de recherche, des entreprises technologiques et des organismes publics ont stimulé l'investissement global dans l'innovation en matière de substrat de silicium. L'essor des partenariats mondiaux a accéléré l'exploration de nouvelles architectures de dispositifs et de techniques de traitement, renforçant en fin de compte la viabilité commerciale des substrats de petit format tels que la plaquette de silicium orientée 10x10 mm (110). Ces tendances sont appelées à se poursuivre, car les industries de pointe privilégient les conceptions compactes et efficaces pour répondre à l'évolution des besoins des consommateurs et de l'industrie.