CY8539 Substrat de cristal de silicium (Si) (100) 10x10 mm

Substrat de cristal de silicium (Si) (100) 10x10 mm Description

Notre substrat cristallin de silicium (Si) (100) 10×10 mm présente une pureté matérielle supérieure et une perfection cristalline, ce qui en fait une base idéale pour la recherche avancée sur les semi-conducteurs et la fabrication de dispositifs. Coupé avec précision selon l'orientation (100), ce substrat présente une faible rugosité de surface et une grande uniformité, ce qui est essentiel pour obtenir des résultats cohérents en matière de dépôt de couches et de gravure. Ses excellentes propriétés électriques et sa conductivité thermique garantissent des performances optimales dans les applications électroniques conventionnelles et de pointe.

Fabriqué selon des normes de qualité strictes, chaque substrat est soumis à une inspection rigoureuse afin de maintenir des tolérances plus étroites sur l'épaisseur, la résistivité et la planéité de la surface. Ce souci de précision et de fiabilité permet aux chercheurs et aux ingénieurs de développer des solutions innovantes dans les domaines de la microélectronique, de la photonique et d'autres domaines de haute technologie. Que ce soit pour le prototypage ou la production à grande échelle, notre substrat Si (100) répond aux exigences les plus strictes de l'industrie.

Substrat cristallin de silicium (Si) (100) 10x10 mm Applications

Le substrat cristallin de silicium (Si) (100) 10x10 mm est une plate-forme essentielle pour diverses technologies de haute précision. Son orientation cristalline bien définie, sa conductivité thermique supérieure et sa qualité de surface uniforme favorisent une microfabrication avancée, permettant des performances précises des dispositifs. Les propriétés uniques de ce substrat garantissent également un minimum de défauts et une excellente durabilité, ce qui le rend indispensable dans les secteurs de l'industrie, de la recherche et du commerce, où la précision et la fiabilité sont cruciales pour le développement des produits de la prochaine génération.

1) Applications industrielles

-Application 1 : utilisation dans la fabrication de systèmes microélectromécaniques (MEMS), en tirant parti de la cohérence cristallographique du substrat pour la production de dispositifs de haute précision.

-Application 2 : intégration dans les processus de fabrication de semi-conducteurs, garantissant des performances stables à des températures élevées et dans des conditions exigeantes.

2) Applications dans le domaine de la recherche

-Application 1 : Base pour les expériences en nanotechnologie qui nécessitent une surface sans défaut, cruciale pour des résultats reproductibles.

-Application 2 : développement de prototypes de capteurs avancés, exploitant les propriétés intrinsèques supérieures du substrat pour une collecte précise des données.

3) Applications commerciales

-Application 1 : Emballage à haute densité dans l'électronique grand public, bénéficiant d'une épaisseur uniforme et d'excellentes propriétés de conduction.

-Application 2 : fabrication de composants optiques pour la technologie d'affichage, en tirant parti d'une rugosité de surface minimale pour une clarté supérieure.

Substrat de cristal de silicium (Si) (100) 10x10 mm Emballage

Chaque substrat de cristal de silicium (Si) de 10x10 mm est placé dans un support antistatique et rembourré, garantissant une absorption maximale des chocs. Ce support est ensuite scellé sous vide dans un sachet pour salle blanche afin d'éviter toute infiltration de poussière. Pour préserver la pureté du produit, l'emballage scellé doit être stocké dans un environnement sec et contrôlé. D'autres mesures anti-contamination comprennent l'utilisation de gants et de bancs à flux laminaire pendant la manipulation. Des solutions d'emballage personnalisées, telles que des supports de plaquettes ou des inserts multicouches, sont disponibles sur demande.

Emballage : Scellé sous vide, boîte en bois, ou personnalisé.

Substrat de cristal de silicium (Si) (100) 10x10 mm FAQs

Q1 : Quelles sont les principales propriétés du substrat en cristal de silicium (Si) (100) 10x10 mm ?

R1 : Le substrat en cristal de silicium (Si) (100) 10x10 mm présente généralement une structure cristalline cubique avec une orientation (100), une grande pureté et un faible niveau de défauts. Sa conductivité thermique est d'environ 150 W/mK à 300 K et sa bande interdite énergétique est d'environ 1,12 eV. Ce substrat offre une excellente résistance mécanique, une stabilité chimique et une épaisseur uniforme pour les applications électroniques et photoniques avancées.

Q2 : Comment ce produit doit-il être manipulé et stocké ?

R2 : Pour préserver l'intégrité du substrat, manipulez chaque pièce avec des gants ou des pinces propres et non pelucheux afin d'éviter toute contamination et tout endommagement de la surface. Stockez les substrats dans des conditions ambiantes avec un minimum d'humidité, idéalement en utilisant des boîtes de protection pour les plaquettes ou des conteneurs rembourrés. Évitez de les exposer à des produits chimiques agressifs ou à des fluctuations rapides de température, car cela peut induire des tensions ou des défauts. Inspectez périodiquement les substrats pour vérifier qu'ils ne sont pas contaminés ou ébréchés, et maintenez un étiquetage soigneux pour la traçabilité et le contrôle des stocks.

Q3 : Quelles sont les normes de qualité et les certifications applicables aux substrats de cristal de silicium (Si) (100) 10x10 mm ?

R3 : Ces substrats en silicium sont généralement conformes aux normes SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International) relatives à l'épaisseur, à la planéité et à la précision de l'orientation des plaquettes. Ils peuvent être certifiés ISO 9001, ce qui indique des processus de gestion de la qualité stricts. Les vérifications métrologiques, telles que la diffraction des rayons X (XRD) pour confirmer l'orientation des cristaux et les mesures de réflectivité, garantissent la cohérence du substrat. Les inspections de la morphologie de la surface et des défauts sont effectuées conformément aux spécifications de l'industrie. Une documentation complète accompagne souvent chaque lot pour authentifier la traçabilité et les normes de production.

Informations connexes

1. Propriétés et avantages du matériau

Fabriquée à partir de silicium ultrapur, la plaquette (100) 10x10 mm offre une surface exceptionnellement lisse, optimale pour les dispositifs microélectroniques de haute précision. Ce substrat présente une orientation cristalline de (100), ce qui garantit des caractéristiques électriques et thermiques uniformes sur toute sa dimension carrée, contribuant ainsi à des performances constantes et à des niveaux de défauts réduits.

Choisi pour son excellente conductivité thermique, ce substrat en cristal de silicium peut disperser efficacement la chaleur et maintenir la stabilité structurelle au cours d'étapes de fabrication complexes. Son niveau de pureté élevé réduit les risques de contamination, ce qui en fait un choix idéal pour les applications où la fiabilité du produit et la précision du flux de signaux sont primordiales.

2. Applications dans les industries de pointe

Protégeant les circuits microélectroniques critiques des interférences, le substrat de silicium de (100) 10x10 mm joue un rôle essentiel dans l'aérospatiale, l'automobile et la fabrication d'appareils médicaux. Cette plaquette de cristal favorise le développement de capteurs miniaturisés, de transducteurs de précision et de composants optoélectroniques spécialisés, permettant des solutions de pointe qui doivent résister à des environnements d'exploitation difficiles.

Les solides activités de R&D dans le domaine de la recherche sur les semi-conducteurs s'appuient sur ces plaquettes hautement normalisées pour produire les circuits intégrés et les composants photoniques de la prochaine génération. Grâce à leur structure de réseau cohérente et à leur excellente fiabilité à long terme, ces substrats de silicium permettent de réaliser des percées dans le domaine de l'informatique quantique, des systèmes d'imagerie avancés et d'autres technologies d'avant-garde exigeant des performances sans compromis.