CY8537 Substrat de cristal de silicium (Si) (110) 5x5 mm

Substrat de cristal de silicium (Si) (110) 5x5 mm Description

Conçu pour la microfabrication avancée et la recherche en photonique, notre substrat cristallin de silicium (110) de 5 × 5 mm offre une précision et une uniformité inégalées. L'orientation de l'indice de Miller (110) de ce substrat lui confère des propriétés anisotropes uniques, ce qui le rend très utile pour l'ingénierie des dispositifs à l'échelle nanométrique. Chaque substrat est fabriqué selon des normes de qualité rigoureuses, garantissant un minimum de défauts de surface, une faible rugosité et une pureté exceptionnelle. Il en résulte des performances de croissance épitaxiale supérieures et un fonctionnement fiable dans des environnements à haute température et à fortes contraintes. Les applications les plus courantes sont les systèmes microélectromécaniques (MEMS), le dépôt de couches minces et le développement de capteurs.

Notre processus de production méticuleux et notre contrôle de qualité rigoureux garantissent une excellente planéité et une grande précision dimensionnelle. Ce substrat est la solution idéale pour les chercheurs et les ingénieurs à la recherche d'une plateforme stable et fiable pour leurs projets de semi-conducteurs les plus exigeants.

Substrat cristallin de silicium (Si) (110) 5x5 mm Applications

Les substrats cristallins en silicium (110), mesurant 5x5 mm, sont appréciés pour leurs propriétés structurelles uniques et l'orientation constante des cristaux qui facilitent la performance des dispositifs avancés. Ces substrats permettent un modelage précis et soutiennent divers efforts dans les domaines de l'industrie, de la recherche et du commerce. Grâce à leur grande pureté et à leurs caractéristiques électriques supérieures, ils constituent des plateformes idéales pour une large gamme d'applications impliquant la microélectronique et la nanofabrication.

1) Applications industrielles

-Application 1 : Emballage conducteur au niveau de la plaquette de microélectronique de haute performance, en capitalisant sur l'orientation (110) pour un collage fiable et une distorsion minimale du signal.

-Application 2 : Capteurs de haute précision pour l'automobile et l'aérospatiale, exploitant les caractéristiques de réponse au stress du plan (110) pour une fiabilité constante.

-Application 3 : microfabrication robuste de dispositifs MEMS nécessitant une épaisseur uniforme, garantissant des propriétés mécaniques stables dans des conditions d'exploitation industrielle.

2. applications de recherche

-Application 1 : études de croissance épitaxiale pour la recherche et le développement de semi-conducteurs avancés, en utilisant le substrat (110) pour examiner la déformation du réseau et la propagation des défauts.

-Application 2 : prototypes de dispositifs quantiques pour lesquels une orientation précise de la surface est essentielle pour améliorer la mobilité des électrons et réduire la diffusion.

-Application 3 : expériences de physique fondamentale portant sur les propriétés de transport thermique et électrique dans des orientations cristallines bien définies.

3) Applications commerciales

-Application 1 : composants photoniques intégrés qui exploitent les indices de réfraction uniques du plan (110) pour une propagation efficace de la lumière.

-Application 2 : couches minces spécialisées et couches protectrices, bénéficiant d'une qualité de substrat uniforme et d'une meilleure adhérence.

-Application 3 : capteurs électroniques grand public (par exemple, capteurs de pression ou tactiles) qui utilisent la stabilité du substrat dans des conditions environnementales variables.

Substrat de cristal de silicium (Si) (110) Emballage 5x5 mm

Chaque substrat de Si (110) de 5×5 mm est emballé dans un environnement propre et exempt d'électricité statique, à l'aide de matériaux matelassés à faible teneur en particules, afin de garantir la sécurité et l'intégrité du produit. Les surfaces sont protégées de l'humidité et de la poussière par des films protecteurs scellés et anti-contamination. Le conteneur scellé est stocké sous température et humidité contrôlées pour minimiser l'oxydation. Des options de personnalisation, telles qu'un emballage sous vide à double couche ou des transporteurs spécialisés, sont également disponibles pour répondre aux besoins spécifiques de manutention et d'expédition.

Emballage : Scellé sous vide, boîte en bois, ou personnalisé.

Substrat de cristal de silicium (Si) (110) 5x5 mm FAQs

Q1 : Quelles sont les principales propriétés du substrat en cristal de silicium (Si) (110) 5x5 mm ?

A1 : Le substrat en cristal de silicium (Si) avec une orientation (110) offre des propriétés anisotropes distinctes par rapport à l'orientation plus courante (100). Il présente une structure cristalline cubique en diamant, des niveaux de pureté élevés (souvent 99,9999 %) et une conductivité thermique d'environ 150 W/m-K à température ambiante. Le plan (110) présente une résistance à la rupture et une structure de bande électronique différentes, ce qui le rend idéal pour la fabrication de dispositifs spécialisés, notamment les canaux de transistors avancés et les systèmes microélectromécaniques (MEMS).

Q2 : Comment ce produit doit-il être manipulé et stocké ?

R2 : Manipulez ces substrats par les bords ou avec des gants de salle blanche pour éviter toute contamination et tout dommage. Stockez-les dans un environnement sans poussière et à température contrôlée afin de préserver l'intégrité de la surface et d'éviter l'oxydation. Utilisez des supports de protection ou des boîtes de gaufrettes pour les protéger contre les contraintes mécaniques. Il est recommandé de procéder à une inspection régulière à l'aide d'un microscope ou d'un profilomètre de surface pour confirmer la propreté et la qualité de la surface avant tout traitement. Évitez toute force ou flexion excessive afin de préserver l'intégrité des cristaux.

Q3 : Quelles sont les normes de qualité et les certifications applicables aux substrats cristallins en silicium (Si) (110) 5x5 mm ?

A3 : Les substrats en silicium (110) sont généralement conformes aux spécifications SEMI M1 pour la géométrie, la planéité et la qualité de surface des plaquettes. Les fabricants adhèrent souvent à la norme ISO 9001 pour les systèmes de gestion de la qualité, garantissant une production cohérente et des protocoles d'inspection rigoureux. Les tolérances d'épitaxie et de dopage sont vérifiées par des méthodes telles que la mesure par sonde à quatre points ou la spectrométrie de masse à ions secondaires (SIMS). Ces certifications garantissent la traçabilité, la reproductibilité et la conformité aux normes internationales, ce qui rend les substrats adaptés à la recherche de haute précision et aux applications industrielles.

Informations connexes

1. Processus de fabrication

La création d'un substrat cristallin en silicium (Si) (110) 5x5 mm commence généralement par la croissance d'un lingot de silicium de haute pureté, qui est ensuite soigneusement orienté et tranché pour obtenir le plan cristallographique (110). Au cours de ces étapes, des procédures avancées de sciage et de polissage sont utilisées pour maintenir la planéité du substrat, minimiser les défauts et préserver son épaisseur uniforme, en veillant à ce que l'orientation (110) soit présentée avec précision sur l'ensemble de la surface de 5x5 mm.

Les techniques de précision sont essentielles pour affiner le substrat. Après le tranchage, les surfaces subissent un nettoyage approfondi pour éliminer les contaminants, suivi de processus de gravure qui améliorent la douceur du réseau cristallin. Cette approche méticuleuse contribue à maintenir des caractéristiques électriques et mécaniques cohérentes, ce qui permet au substrat de cristal de silicium (Si) (110) 5x5 mm de répondre aux exigences rigoureuses des applications spécialisées en microélectronique et en nanotechnologie.

2. Applications dans les industries de pointe

Le substrat en cristal de silicium (Si) (110) 5x5 mm est largement utilisé dans les dispositifs électroniques de la prochaine génération, où l'orientation cristallographique fournit des propriétés électriques distinctes adaptées à certaines configurations de transistors. Son alignement structurel précis soutient également les technologies de capteurs avancées, notamment dans la fabrication de dispositifs MEMS et de photodétecteurs sophistiqués.

La robustesse des performances dans des conditions difficiles rend ce substrat idéal pour d'autres domaines de haute précision, tels que l'optoélectronique et l'informatique quantique. En tirant parti de la mobilité accrue des porteurs, caractéristique du plan cristallographique (110), les ingénieurs sont en mesure de développer des composants plus rapides et plus sensibles, propulsant ainsi l'innovation dans toute une série d'industries de pointe.