CY8536 Substrat de cristal de silicium (Si) (100) 5x5 mm

Substrat de cristal de silicium (Si) (100) 5x5 mm Description

Notre substrat de cristal de silicium (Si) (100) 5×5 mm est méticuleusement conçu pour garantir une pureté et une qualité cristallographique exceptionnelles. Fabriqué à partir d'un monocristal de silicium correspondant à l'orientation (100), chaque substrat offre une surface uniforme et sans défaut, idéale pour la recherche avancée et la fabrication de dispositifs. La perfection cristalline et la cohérence de la structure du réseau permettent un contrôle précis de la diffusion des dopants, du dépôt de films et d'autres processus critiques liés aux semi-conducteurs.

Respectant des normes industrielles strictes, ces substrats sont soumis à des contrôles de qualité rigoureux afin de maintenir une faible rugosité de surface et de minimiser la contamination. Ils sont largement utilisés dans les applications microélectroniques, photovoltaïques et de capteurs, où la fiabilité des performances et l'évolutivité sont primordiales. Que ce soit pour le prototypage ou la production, nos substrats en cristal de silicium (Si) (100) permettent d'obtenir des résultats constants, favorisant ainsi les nouvelles découvertes et le développement de produits innovants.

Substrat de cristal de silicium (Si) (100) 5x5 mm Applications

Le substrat cristallin de silicium (Si) (100) 5x5 mm se distingue par sa grande pureté, son orientation cristallographique et son excellente conductivité thermique. Ce substrat de petite taille convient à une large gamme d'applications microélectroniques et photoniques, fournissant une plate-forme stable pour la croissance de couches minces et la fabrication de dispositifs. En outre, sa qualité de surface uniforme garantit des résultats précis dans des applications complexes, permettant à la fois des percées dans le domaine de la recherche et du commerce.

1) Applications industrielles

-Application 1 : L'orientation (100) rationalise le traitement des plaquettes, permettant une gravure précise pour les MEMS et les dispositifs microfluidiques.

-Application 2 : La conductivité thermique élevée en fait un matériau idéal pour l'électronique de puissance, assurant une dissipation efficace de la chaleur dans la fabrication à grande échelle.

2. applications de recherche

-Application 1 : fournit un environnement contrôlé pour l'étude des composants avancés de l'informatique quantique nécessitant un minimum de défauts de surface.

-Application 2 : offre une uniformité essentielle pour les expériences de dépôt de couches minces, améliorant la reproductibilité et la précision des données dans les universités et les laboratoires.

3) Applications commerciales

-Application 1 : Amélioration des performances des appareils grand public, notamment des capteurs et des écrans, grâce à des caractéristiques structurelles fiables.

-Application 2 : assure une qualité constante et réduit les taux de défaillance pour les entreprises qui développent des circuits intégrés et des produits électroniques de nouvelle génération.

Substrat de cristal de silicium (Si) (100) Emballage 5x5 mm

Chaque substrat de cristal de silicium (Si) de 5x5 mm (100) est emballé dans une pochette antistatique scellée avec des inserts en mousse renforcée pour la protection contre les chocs et les impacts. Les articles sont stockés dans des conditions d'humidité contrôlée afin de préserver leur pureté, tandis que le scellement sous vide empêche toute contamination. Pour la personnalisation, un étiquetage personnalisé et des inserts sur mesure sont disponibles. Tous les composants de l'emballage sont soigneusement sélectionnés pour préserver l'intégrité du substrat, ce qui garantit des performances constantes et de haute qualité à l'arrivée.

Emballage : Scellé sous vide, boîte en bois, ou personnalisé.

Substrat de cristal de silicium (Si) (100) 5x5 mm FAQs

Q1 : Quelles sont les principales propriétés des substrats en cristal de silicium (Si) (100) 5x5 mm ?

A1 : Les substrats en cristal de silicium (Si) avec une orientation (100) présentent une grande pureté, une cristallinité uniforme et une excellente conductivité thermique. Ils possèdent généralement une plage de résistivité adaptée aux niveaux de dopage, ce qui permet d'obtenir des propriétés électriques finement ajustées. Leur constante de réseau est d'environ 5,43 Å et leur bande interdite est proche de 1,12 eV. Ces substrats offrent également une planéité de surface supérieure et des défauts minimes pour des applications de précision dans le domaine des semi-conducteurs.

Q2 : Comment ce produit doit-il être manipulé et stocké ?

R2 : Compte tenu de leur fragilité et des exigences strictes en matière de surface, les substrats cristallins de silicium (Si) (100) 5x5 mm doivent être manipulés à l'aide de pinces ou de baguettes à vide afin d'éviter toute contamination et tout dommage mécanique. Il convient de porter des gants pour éviter d'introduire des huiles ou des particules. Les surfaces peuvent être protégées par des films protecteurs spécialisés et stockées dans des conteneurs propres et secs. Les fluctuations de température doivent être minimisées pour préserver la stabilité dimensionnelle et réduire les risques d'oxydation.

Q3 : Quelles sont les normes de qualité et les certifications applicables aux substrats cristallins de silicium (Si) (100) 5x5 mm ?

R3 : Les principaux substrats en silicium de qualité semi-conducteur sont conformes à des normes rigoureuses telles que les spécifications SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International), qui garantissent une tolérance d'épaisseur définie, la propreté de la surface et la précision de l'orientation des cristaux. La certification ISO 9001 régit souvent la qualité globale de la fabrication, tandis que la norme ISO 14001 concerne la gestion de l'environnement. Une conformité supplémentaire à la directive RoHS (Restriction of Hazardous Substances) peut être exigée. Les fournisseurs effectuent généralement des tests approfondis au niveau des plaquettes pour vérifier la densité des défauts, la résistivité et l'uniformité du dopage afin de maintenir des performances de produit constantes.

Informations connexes

1. Propriétés et avantages du matériau

Conçu pour offrir une uniformité exceptionnelle, le substrat cristallin de silicium (Si) (100) 5x5 mm est connu pour sa structure de réseau définie avec précision. Cette uniformité est essentielle pour optimiser les performances des dispositifs électroniques, car elle garantit une conductivité constante sur l'ensemble du substrat. En outre, l'orientation cristalline (100) constitue une plate-forme stable pour la croissance épitaxiale, ce qui permet aux concepteurs de développer des interfaces de haute qualité et de minimiser les densités de défauts.

Par rapport à d'autres matériaux de substrat, cette tranche de cristal de silicium présente une stabilité thermique supérieure, ce qui lui permet de résister à des conditions de traitement difficiles sans compromettre l'intégrité structurelle. Le coefficient de dilatation thermique modéré du silicium limite en outre les contraintes lors des fluctuations de température, préservant ainsi la planéité du substrat et sa fiabilité mécanique globale. En intégrant ces avantages, les chercheurs peuvent en toute confiance tirer parti des propriétés robustes du substrat pour affiner les configurations des dispositifs avancés.

2. Applications dans les industries de pointe

Ce substrat de cristal de silicium (Si) de 5x5 mm (100) joue un rôle essentiel dans les domaines de pointe qui exigent un contrôle précis de l'orientation des cristaux et de la qualité de la surface. Les fabricants d'appareils médicaux utilisent ces substrats lors du développement de modules de capteurs, tirant parti de la cohérence du réseau cristallin pour améliorer la précision et la répétabilité de la détection. Les fabricants de semi-conducteurs intègrent également ces substrats dans la fabrication de microprocesseurs et de puces mémoire, bénéficiant ainsi d'une plate-forme fiable pour la mise à l'échelle des transistors et l'efficacité énergétique.

Comme le substrat répond à des exigences strictes en matière de pureté et de planéité de la surface, il est également utilisé dans la recherche sur l'informatique quantique, où des imperfections même subtiles peuvent compromettre la stabilité des qubits. Les secteurs de l'aérospatiale et de la défense adoptent ces tranches cristallines pour les dispositifs photoniques avancés, soutenant les systèmes de communication de la prochaine génération qui dépendent d'une transmission de signaux à grande vitesse et à faible perte. En excellant dans de multiples domaines spécialisés, ce substrat de silicium souligne son rôle essentiel dans le progrès technologique.