CY8302 Substrat de cristal saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 R-Plane (1-102) 10 x 10 x 0.5 mm

Substrat de cristal d'oxyde d'aluminium saphir, Al2O3 plan R (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm Description

Ce substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium de haute pureté est orienté avec précision le long du plan R (1-102) et mesure 10 x 10 x 0,5 mm. Réputé pour sa dureté et sa résistance mécanique exceptionnelles, le saphir offre une excellente conductivité thermique et une grande stabilité chimique, ce qui le rend idéal pour les applications industrielles et de recherche exigeantes. Sa faible perte diélectrique et sa clarté optique supérieure permettent d'obtenir des performances fiables dans les capteurs, les systèmes laser et d'autres dispositifs de haute précision.

Chaque substrat est soumis à un contrôle de qualité rigoureux afin de garantir une rugosité de surface minimale et une structure cristalline quasi parfaite. Notre processus de polissage complet répond aux normes rigoureuses de l'industrie, ouvrant la voie à une performance optimale des matériaux et à une intégration efficace dans l'électronique et l'optoélectronique de pointe. Qu'il soit utilisé pour le dépôt de couches minces ou la microfabrication avancée, ce substrat de saphir méticuleusement travaillé offre une durabilité et une fiabilité inégalées.

Substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 R-Plan (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm Applications

Le substrat en cristal de saphir d'oxyde d'aluminium (Al2O3 R-Plan 1-102) est un matériau cristallin de haute qualité apprécié pour sa résistance mécanique, sa conductivité thermique et sa stabilité chimique exceptionnelles. Avec une épaisseur standard de 0,5 mm et une géométrie cohérente, ces substrats sont idéaux pour diverses applications avancées. Leur clarté optique et leurs excellentes propriétés diélectriques en font également un candidat de choix pour la recherche de pointe et les innovations commerciales.

1. Applications industrielles

- Fabrication de produits électroniques à haute température : La conductivité thermique et la stabilité chimique supérieures du substrat permettent d'obtenir des performances fiables dans des environnements de chaleur extrême.

- Revêtements protecteurs résistants à l'usure : Sa dureté exceptionnelle réduit l'abrasion et les rayures, ce qui se traduit par une plus grande longévité des pièces industrielles.

2. Applications dans le domaine de la recherche

- Études de croissance épitaxiale : L'orientation du plan R fournit une structure de réseau unique, facilitant le dépôt précis de films pour la recherche en science des matériaux.

- Développement de guides d'ondes optiques : La clarté et l'épaisseur contrôlée du cristal favorisent l'expérimentation dans le domaine de la photonique avancée et des technologies laser.

3. Applications commerciales

- Substrat LED haute performance : Les excellentes propriétés de gestion thermique du substrat améliorent l'efficacité et la durabilité des produits d'éclairage.

- Cristaux de montres de luxe : Sa résistance aux rayures et sa transparence optique garantissent une clarté supérieure et des surfaces durables pour les montres haut de gamme.

Substrat de cristal saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 R-Plan (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm Emballage

Chaque substrat de cristal saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 R-Plane (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm est emballé individuellement dans une pochette matelassée et résistante à l'électricité statique afin d'éviter tout dommage. Les substrats scellés sont placés dans des conteneurs en plastique robustes pour les protéger des contaminants. Pour un stockage optimal, maintenez un environnement sec et à température contrôlée. Les protocoles de salle blanche doivent être appliqués lors de la manipulation pour éviter toute contamination. Des dimensions d'emballage ou des options d'étiquetage personnalisées sont disponibles sur demande.

Emballage : Scellé sous vide, boîte en bois, ou personnalisé.

Substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 plan R (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm FAQs

Q1 : Quelles sont les principales propriétés des substrats en cristal de saphir d'oxyde d'aluminium, plan R Al2O3 (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm ?

A1 : Ces substrats de saphir à plan R se caractérisent par une grande inertie chimique, une excellente conductivité thermique et une rigidité diélectrique élevée. Ils ont une orientation cristallographique nominale de (1-102) et présentent une dureté de 9 sur l'échelle de Mohs. Les dimensions de 10 x 10 x 0,5 mm garantissent une courbure minimale et un faible décalage du réseau pour les différentes couches épitaxiales. Leur transparence optique s'étend jusqu'à l'infrarouge, ce qui les rend adaptés aux applications optiques, électroniques et à haute température.

Q2 : Comment ce produit doit-il être manipulé et stocké ?

R2 : Ce substrat doit être manipulé avec des gants propres et non pelucheux pour éviter la contamination et les rayures. Il doit être stocké dans un environnement sans poussière et avec un minimum de vibrations, idéalement dans un support de plaquette ou un conteneur scellé. Évitez tout contact avec des solutions acides ou alcalines, car une exposition prolongée peut dégrader la qualité de la surface. Maintenez des niveaux d'humidité et de température modérés pour éviter les problèmes de condensation et préserver l'intégrité mécanique et optique du substrat.

Q3 : Quelles sont les normes de qualité et les certifications qui s'appliquent aux substrats de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 R-Plane (1-102) 10 x 10 x 0,5 mm ?

A3 : Ces substrats en saphir sont généralement conformes aux systèmes de gestion de la qualité ISO 9001 pour la fabrication et l'inspection. Ils sont produits avec des tolérances d'orientation cristallographique, des spécifications de rugosité de surface et des variations d'épaisseur très contrôlées pour répondre aux normes de l'industrie des semi-conducteurs. Chaque lot peut également être accompagné d'un certificat de conformité attestant de l'exactitude des dimensions, de l'orientation et de la pureté. Les fabricants effectuent souvent des tests optiques et mécaniques rigoureux pour garantir des performances constantes.

Informations connexes

1. Propriétés et avantages du matériau

Largement apprécié pour sa dureté exceptionnelle et son inertie chimique, le substrat de cristal de saphir d'oxyde d'aluminium dans le plan R (1-102) offre des avantages significatifs pour les applications technologiques de pointe. Il conserve des performances stables dans des plages de températures extrêmes, ce qui le rend particulièrement adapté aux environnements de recherche et de production difficiles. L'orientation de ce substrat améliore encore son intégrité structurelle, garantissant un risque minimal de fissures ou de déformations au cours des processus de fabrication exigeants.

Conçu dans des dimensions compactes de 10 x 10 x 0,5 mm, ce substrat saphir à plan R excelle également en termes de clarté optique et de conductivité thermique, ce qui permet une gestion efficace de la chaleur dans les applications de dispositifs à haute fréquence. Grâce à sa résilience mécanique et à ses propriétés diélectriques stables, il constitue un choix de premier ordre pour les chercheurs et les ingénieurs à la recherche de résultats cohérents dans le domaine des dispositifs semi-conducteurs ou photoniques sophistiqués.

2. Applications dans les industries de pointe

L'utilisation spécialisée des substrats de saphir à plan R comprend le déploiement dans la fabrication d'appareils médicaux, où une qualité et une durabilité constantes sont vitales pour les instruments de diagnostic sensibles. Les propriétés cristallographiques contrôlées de l'Al2O3 favorisent une intégration transparente dans les systèmes laser, les microscopes et d'autres équipements de haute précision, ce qui contribue à maximiser la stabilité opérationnelle et le rendement. En conséquence, de nombreuses lignes de production de pointe s'appuient sur ces substrats pour maintenir des performances précises et fiables.

Une grande partie des secteurs de l'automobile et de l'aérospatiale utilisent ces substrats dans des applications de détection, où leur nature robuste permet de contrer les vibrations et les chocs qui prévalent dans des conditions exigeantes. Qu'il s'agisse de capteurs optiques à haute efficacité ou de systèmes microélectromécaniques (MEMS) de pointe, le substrat cristal saphir à l'oxyde d'aluminium dans le plan R (1-102) répond systématiquement à des exigences strictes en matière de fiabilité et de précision dimensionnelle, garantissant ainsi des résultats optimisés dans les technologies critiques.