CY8298 Substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 M-Plane 5 x 5 x 0.5 mm

Substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 - plan M 5 x 5 x 0,5 mm Description

Notre substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium (Al2O3) - plan M, mesurant 5 x 5 x 0,5 mm, offre une résistance mécanique extraordinaire, une conductivité thermique élevée et une stabilité chimique supérieure. Reconnu pour ses excellentes propriétés optiques, le saphir réduit la lumière diffusée et améliore la clarté du signal, ce qui en fait un choix idéal pour l'optique de précision, les lasers et les dispositifs optoélectroniques. L'orientation dans le plan M permet en outre une répartition équilibrée des contraintes, ce qui favorise la croissance de films épitaxiés dans les applications semi-conductrices et photoniques.

Chaque substrat est méticuleusement fabriqué dans le cadre de contrôles de qualité stricts afin de garantir une finition de surface impeccable avec un minimum de défauts. Polis jusqu'à l'éclat d'un miroir, ils présentent une faible rugosité de surface et des tolérances dimensionnelles précises, ce qui optimise les performances tant pour la recherche que pour l'utilisation industrielle. Faites confiance à cette plateforme robuste et polyvalente pour votre prochain dispositif de pointe ou vos besoins expérimentaux avancés.

Substrat de cristal d'oxyde d'aluminium saphir, Al2O3 M-Plane 5 x 5 x 0,5 mm Applications

Les substrats de saphir d'oxyde d'aluminium (Al2O3) à plan M offrent une stabilité structurelle exceptionnelle, une conductivité thermique élevée et une résistance robuste aux contraintes chimiques et mécaniques. Leur orientation cristallographique unique minimise le décalage de réseau pour certaines couches épitaxiales, ce qui permet une croissance de film de haute qualité. D'une dureté supérieure et d'une excellente transparence, ces substrats offrent des performances fiables dans des environnements difficiles et sont de plus en plus adoptés dans divers secteurs qui exigent à la fois une durabilité à long terme et des matériaux conçus avec précision.

1. Applications industrielles

- Application 1 : composants de fours à haute température utilisant la stabilité thermique et chimique du substrat pour des environnements de production exigeants.

- Application 2 : Fabrication d'appareils à semi-conducteurs, utilisant l'orientation du plan M pour améliorer la qualité des couches minces épitaxiées.

2. Applications dans le domaine de la recherche

- Application 1 : Expériences d'optique laser tirant parti de la clarté optique du cristal et de sa biréfringence minimale.

- Application 2 : Recherche sur les matériaux avancés où la robustesse structurelle et thermique facilite une expérimentation précise et reproductible.

3. Applications commerciales

- Application 1 : fenêtres optiques durables pour les équipements d'imagerie haut de gamme en raison de leur dureté exceptionnelle et de leur inertie chimique.

- Application 2 : Couvercles résistants aux rayures dans l'électronique grand public, grâce à la résilience fiable de la surface du saphir.

Substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 M-Plane 5 x 5 x 0,5 mm Emballage

Chaque substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium (Al2O3, plan M 5 x 5 x 0,5 mm) est soigneusement scellé dans une pochette sous vide antistatique et rembourré dans des inserts en mousse pour éviter les rayures. Ils doivent être conservés dans un environnement propre et sec, à des températures stables, pour éviter toute contamination. Il est recommandé de porter des gants de protection ou d'utiliser des pinces pour les manipuler. Un emballage et un étiquetage personnalisés sont disponibles sur demande pour des besoins d'expédition ou de marquage spécifiques.

Emballage : Scellé sous vide, boîte en bois, ou personnalisé.

Substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 M-Plane 5 x 5 x 0,5 mm FAQs

Q1 : Quelles sont les principales propriétés du substrat en cristal de saphir d'oxyde d'aluminium, Al2O3 M-Plane 5 x 5 x 0,5 mm ?

R1 : Ce substrat est composé d'oxyde d'aluminium monocristallin, qui offre une dureté exceptionnelle (9 sur l'échelle de Mohs), une conductivité thermique élevée et une excellente stabilité chimique. Son orientation dans le plan M garantit des propriétés physiques et optiques anisotropes, ce qui le rend approprié pour une croissance épitaxiale avancée. En outre, la large gamme de transmission optique du saphir (des UV aux IR) et sa grande capacité d'isolation électrique en font un matériau idéal pour les applications électroniques, optiques et MEMS robustes.

Q2 : Comment ce produit doit-il être manipulé et stocké ?

R2 : Lors de la manipulation des substrats en saphir, les opérateurs doivent porter des gants propres pour éviter toute contamination et toute rayure potentielle sur les surfaces polies. Utilisez des pinces non abrasives ou des pinces à vide pour éviter les contraintes mécaniques. Les substrats doivent être stockés dans des conteneurs ou des supports de plaquettes propres et secs, à température ambiante contrôlée et à l'abri de la lumière directe du soleil. Le maintien d'un environnement exempt de poussière et l'utilisation de procédures antistatiques contribuent à préserver la qualité des substrats et à garantir des performances fiables.

Q3 : Quelles sont les normes de qualité et les certifications qui s'appliquent aux substrats de cristal de saphir d'oxyde d'aluminium, Al2O3 M-Plane 5 x 5 x 0,5 mm ?

R3 : Ces substrats adhèrent généralement à des normes reconnues par l'industrie, telles que la norme ISO 9001 pour la gestion de la qualité, et peuvent être accompagnés de certifications de matériaux traçables vérifiant la pureté et l'exactitude de l'orientation. Les fournisseurs suivent souvent des protocoles de contrôle qualité rigoureux, notamment le polissage double face et le contrôle précis de l'épaisseur. La conformité aux réglementations RoHS et REACH peut également s'appliquer, afin de garantir que le substrat respecte les directives environnementales et qu'il est adapté aux exigences de fabrication mondiales.

Informations connexes

1. Mesures de contrôle de la qualité

Des inspections approfondies sont menées à chaque étape de la production pour s'assurer que le substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium dans le plan M (5 x 5 x 0,5 mm) répond à des exigences dimensionnelles et cristallographiques précises. Il s'agit notamment de vérifier l'uniformité du réseau cristallin et de rechercher les imperfections de surface susceptibles d'affecter les performances dans les applications de haute précision. En utilisant des outils de métrologie avancés, tels que des interféromètres optiques et des équipements de diffraction des rayons X, les fabricants peuvent détecter avec précision même les variations mineures qui pourraient compromettre la qualité globale du substrat.

Des tests complets des propriétés thermiques, chimiques et mécaniques garantissent en outre que chaque substrat de cristal de saphir est conforme aux normes de référence de l'industrie. Ces évaluations confirment sa résistance aux chocs thermiques, sa rigidité diélectrique élevée et sa fiabilité globale dans des environnements exigeants. Par conséquent, les clients peuvent intégrer en toute confiance le substrat dans des applications exigeant des performances stables, notamment les systèmes laser, les dispositifs optoélectroniques et la fabrication de composants semi-conducteurs.

2. Analyse comparative avec d'autres matériaux

Contrairement à d'autres substrats à base de quartz ou de silicium, le cristal d'oxyde d'aluminium saphir présente un niveau de stabilité thermique nettement plus élevé. Cette distinction s'avère inestimable dans les applications où les substrats doivent résister à des températures élevées sans se déformer ni compromettre leur intégrité structurelle. En outre, l'orientation du plan M supporte mieux la croissance épitaxiale latérale dans certains procédés de semi-conducteurs, ce qui lui confère un avantage notable lorsque la précision et la cohérence sont primordiales.

En raison de sa grande dureté mécanique et de son inertie chimique, le saphir se distingue de matériaux tels que le verre ou la silice fondue, qui peuvent être plus sujets aux rayures et à la gravure. La robustesse des substrats en saphir à plan M de 5 x 5 x 0,5 mm permet une utilisation répétée dans des conditions difficiles, réduisant ainsi la probabilité de défaillance lors d'opérations critiques. Cette durabilité exceptionnelle garantit que les industries allant des laboratoires de physique des hautes énergies à l'instrumentation médicale de pointe peuvent compter sur des performances optimales tout au long du cycle de vie de leurs produits.