CY8297 Substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 Plan A (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm

Substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 Plan A (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm Description

Ce substrat de cristal de saphir en oxyde d'aluminium (Al₂O₃) à plan A (11-20) de haute pureté offre une résistance mécanique, une stabilité chimique et une résistance à la chaleur exceptionnelles dans une plaquette conçue avec précision. Mesurant 50,8 mm de diamètre et 0,5 mm d'épaisseur, il constitue une plate-forme uniforme pour la croissance épitaxiale, ce qui permet d'obtenir des résultats cohérents dans les applications exigeantes des semi-conducteurs, de l'optoélectronique et des dispositifs optiques avancés. Le substrat soigneusement orienté dans le plan A améliore l'alignement des cristaux, garantissant un dépôt précis des couches et une amélioration des performances des dispositifs.

Fabriqué selon des normes de qualité rigoureuses, chaque substrat est soumis à des processus de polissage et d'inspection méticuleux afin d'obtenir une surface ultra-lisse présentant un minimum de défauts. Sa durabilité et sa conductivité thermique le rendent idéal pour les processus à haute température, notamment la production de LED et la fabrication de dispositifs à base de GaN. Comptez sur ce substrat saphir pour obtenir des résultats fiables et reproductibles et repousser les limites de la recherche et du développement de pointe.

Substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 Plan A (11-20) Dia. 50.8 mm x 0.5 mm Applications

Substrats de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium, spécifiquement Al2O3 A-Plane (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm, offrent une résistance mécanique, une stabilité chimique et une conductivité thermique exceptionnelles. Avec une structure cristalline sans faille et une surface uniforme, ces substrats offrent une précision et une fiabilité supérieures. Leur large gamme de transparence optique et leurs excellentes propriétés isolantes en font un choix de premier plan pour diverses applications industrielles, commerciales et de recherche.

1. Applications industrielles

- Outillage et montages à haute température : Leur stabilité thermique et leur dureté exceptionnelles garantissent des performances fiables dans des conditions extrêmes.

- Plaques de fabrication de DEL : Exploiter les faibles densités de défauts et les substrats robustes pour une émission de lumière efficace.

2. Applications dans le domaine de la recherche

- Études optiques avancées : Exploitation d'une excellente transparence et de surfaces uniformes pour des expériences de spectroscopie et de photonique.

- Recherche quantique et spintronique : Tirer parti de la haute précision structurelle pour la fabrication de dispositifs de pointe.

3. Applications commerciales

- Cadres de montre durables et couvertures de lentilles d'appareil photo : Exploitation d'une résistance aux rayures et d'une clarté exceptionnelles.

- Composants d'imagerie médicale : Ils offrent une stabilité chimique et une qualité optique exceptionnelles pour des résultats d'imagerie précis.

Substrat de cristal saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 Plan A (11-20) Dia. 50.8 mm x 0.5 mm Emballage

Chaque substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium est scellé individuellement dans une pochette antistatique compatible avec les salles blanches, puis rembourré avec des inserts en mousse pour éviter les dommages. Stocker dans un environnement à faible humidité et à température contrôlée pour préserver l'intégrité du cristal et minimiser les risques de contamination. Une couche protectrice interne protège des particules en suspension dans l'air et de l'humidité. Des options d'emballage personnalisées, y compris des sacs scellés sous vide ou des inserts spécialisés, sont disponibles pour répondre à des exigences spécifiques en matière de manutention, d'expédition ou de stockage.

Emballage : Scellé sous vide, boîte en bois, ou personnalisé.

Substrat de cristal saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 Plan A (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm FAQs

Q1 : Quelles sont les principales propriétés du substrat en cristal de saphir d'oxyde d'aluminium, Al2O3 A-Plane (11-20) Dia. 50.8 mm x 0.5 mm ?

A1 : Ce substrat est une plaquette monocristalline d'oxyde d'aluminium (saphir) orientée dans le plan A (11-20). Il présente une dureté mécanique élevée (9 sur l'échelle de Mohs), une excellente transparence optique dans le visible et l'infrarouge et une stabilité chimique remarquable. Avec une faible constante diélectrique et une bonne conductivité thermique, il est compatible avec les processus à haute température. Le diamètre est de 50,8 mm et l'épaisseur de 0,5 mm, ce qui garantit une épaisseur uniforme pour les applications scientifiques ou industrielles.

Q2 : Comment ce produit doit-il être manipulé et stocké ?

R2 : Ce substrat de saphir doit être manipulé avec des gants en latex ou en nitrile pour éviter toute contamination particulaire et tout contact direct avec les huiles. Utilisez des outils non abrasifs, tels que des pinces en plastique ou en téflon, afin de minimiser les dommages à la surface. Transportez et stockez les substrats dans des conteneurs propres et secs dotés de compartiments rembourrés pour éviter les rayures. Évitez de les exposer à des changements brusques de température afin de prévenir les chocs thermiques. Des inspections régulières et un nettoyage soigneux à l'aide de solvants appropriés garantissent une durabilité à long terme.

Q3 : Quelles sont les normes de qualité et les certifications qui s'appliquent au substrat de cristal saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 A-Plane (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm ?

R3 : Ces substrats sont conformes aux normes industrielles et ISO rigoureuses en matière de pureté des cristaux, de précision dimensionnelle et de planéité de la surface. De nombreux fournisseurs adhèrent à la norme ISO 9001 pour la gestion de la qualité, ce qui garantit la traçabilité des processus de production. Des certifications spécialisées, telles que l'ASTM E595 pour le dégazage, peuvent s'appliquer en cas d'utilisation dans des applications sous vide ou aérospatiales. Les protocoles de métrologie vérifient les tolérances d'orientation, la propreté de la surface et les défauts minimaux pour répondre aux exigences de performance rigoureuses.

Informations connexes

1. Normes et certifications industrielles

Le respect de directives strictes est essentiel pour les substrats de cristal saphir à l'oxyde d'aluminium, tels que le plan A (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm, soient reconnus pour leurs performances et leur fiabilité. La conformité aux cadres ISO 9001 confirme un environnement de fabrication bien contrôlé, garantissant que chaque substrat respecte des tolérances d'orientation et des spécifications d'épaisseur précises. En outre, les certifications spécialisées exigent souvent une évaluation rigoureuse de la planéité, de la rugosité de la surface et de la qualité cristalline, autant d'éléments essentiels au bon fonctionnement du substrat dans les applications à fort enjeu.

Ce substrat en cristal de saphir étant conçu pour des processus optiques et électroniques exigeants, il est primordial de respecter les normes industrielles telles que SEMI (Semiconductor Equipment and Materials International). Ces normes définissent des critères spécifiques pour la précision de l'orientation et les niveaux de contrainte résiduelle, ce qui aide les fabricants à fournir un produit toujours robuste. En s'alignant sur ces critères validés, le substrat à plan A (11-20) est accepté dans les secteurs de pointe qui exigent des niveaux élevés de qualité, d'uniformité et de traçabilité des produits.

2. Applications dans les industries de pointe

Les entreprises de pointe tirent parti de la résistance mécanique et de la stabilité thermique exceptionnelles du substrat A-plane (11-20) Dia. 50,8 mm x 0,5 mm pour la fabrication de dispositifs optoélectroniques et de puissance à grande vitesse. Son orientation cristalline unique et ses défauts de surface minimes permettent aux chercheurs de développer des lasers, des capteurs et des circuits intégrés photoniques avec une précision remarquable. La dureté élevée du saphir permet de réaliser des couches minces délicates qui peuvent supporter des conditions de fonctionnement intenses, ce qui constitue une base solide pour les dispositifs nécessitant une fonctionnalité fiable à long terme.

Les développements dans le domaine de l'optique ultraviolette (UV) bénéficient également de la transparence exceptionnelle de ce substrat dans une large gamme spectrale. Les outils chirurgicaux avancés et les systèmes d'imagerie diagnostique s'appuient sur sa clarté optique supérieure pour obtenir des résultats précis et maintenir des performances constantes. En outre, les protocoles de test des semi-conducteurs impliquent souvent des cycles thermiques difficiles, qui sont gérés efficacement par la conductivité thermique exceptionnelle du cristal. Ces attributs font du substrat à plan A (11-20) un atout essentiel pour les industries mondiales qui cherchent à repousser les limites de la technologie sans compromettre la qualité ou la résilience.