CY8296 Substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 plan A (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm

Substrat de cristal d'oxyde d'aluminium saphir, Al2O3 plan A (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm Description

Notre substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium, plan A (11-20), est un matériau monocristallin de haute pureté conçu pour répondre à des exigences de performance rigoureuses. Le saphir (Al2O3) est réputé pour sa conductivité thermique exceptionnelle, sa stabilité chimique et sa dureté supérieure, ce qui le rend idéal pour les applications microélectroniques et optoélectroniques avancées. L'orientation du cristal dans le plan A (11-20) garantit une surface stable pour la croissance épitaxiale, tandis que les dimensions de 10 x 10 x 0,5 mm fournissent une plate-forme standardisée pour les besoins de la recherche et de la production.

Chaque substrat est soumis à un contrôle de qualité rigoureux afin de garantir une faible rugosité de surface, des tolérances dimensionnelles serrées et une densité de défauts minimale. Cela permet d'obtenir des résultats cohérents dans les processus de haute précision tels que les dispositifs à haute fréquence, le développement de capteurs et l'optique laser. Grâce à ces normes rigoureuses, notre substrat Al2O3 à plan A offre des performances fiables pour les applications technologiques de pointe.

Substrat de cristal de saphir en oxyde d'aluminium, Al2O3 plan A (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm Applications

Les substrats de saphir d'oxyde d'aluminium (Al2O3) dans le plan A (11-20) mesurent 10 x 10 x 0,5 mm et offrent une stabilité thermique et mécanique exceptionnelle. Leur très grande pureté, leurs faibles pertes diélectriques et leur excellente clarté optique les rendent idéaux pour une large gamme d'applications. Voici quelques exemples de la manière dont ces substrats sont utilisés par diverses industries, domaines de recherche et entreprises commerciales.

1. Applications industrielles

- Application 1 : Processus de fabrication à haute température pour les semi-conducteurs, où la stabilité thermique et la résistance mécanique soutiennent la production de plaquettes.

- Application 2 : composants laser pour la découpe et la gravure industrielles, garantissant une distorsion minimale grâce à l'excellente clarté optique du cristal.

2. Applications dans le domaine de la recherche

- Application 1 : substrat pour les études d'épitaxie de couches minces, fournissant une structure cristalline sans défaut qui améliore la qualité du film.

- Application 2 : Expériences optiques, telles que la spectroscopie, bénéficiant de la faible perte diélectrique et de la grande transparence du substrat.

3. Applications commerciales

- Application 1 : Optique de précision dans les caméras et les capteurs, tirant parti de la résistance aux rayures et de la clarté du saphir.

- Application 2 : technologies LED et d'affichage, où la forte inertie chimique du substrat augmente la longévité des appareils.

Substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 plan A (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm Emballage

Chaque substrat de saphir à plan A est emballé dans un sachet antistatique scellé individuellement et protégé par des inserts en mousse pour éviter les rayures. Un nettoyage minutieux et un scellement sous vide empêchent toute contamination pendant le transport. Pour une conservation optimale, il convient de les stocker dans un environnement propre, à humidité contrôlée et à l'abri de la lumière directe du soleil. Des options d'épaisseur et de dimensions personnalisées sont possibles sur demande. Une manipulation minimale est recommandée pour préserver l'intégrité de la surface avant utilisation.

Emballage : Scellé sous vide, boîte en bois, ou personnalisé.

Substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 A-Plan (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm FAQs

Q1 : Quelles sont les principales propriétés du substrat en cristal d'oxyde d'aluminium et de saphir, Al2O3 A-Plane (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm ?

A1 : Ce substrat se caractérise par une dureté mécanique, une conductivité thermique et une inertie chimique élevées. Il offre d'excellentes propriétés diélectriques, ce qui le rend adapté aux applications à haute fréquence. Sa structure cristalline dans le plan A (11-20) assure un décalage minimal du réseau pour la croissance d'un film épitaxique. Avec un faible coefficient de dilatation thermique et une transparence optique supérieure, il offre des performances stables dans des environnements exigeants, tout en conservant une épaisseur et une précision dimensionnelle constantes.

Q2 : Comment ce produit doit-il être manipulé et stocké ?

R2 : Il est essentiel de manipuler le produit avec précaution afin d'éviter les microfissures et la contamination de la surface. Portez toujours des gants de salle blanche pour éviter que des huiles ou des particules n'entrent en contact avec le cristal. Utilisez des matériaux doux et non abrasifs pour nettoyer ou transporter les substrats. Stockez-les dans un environnement sans poussière, à température et humidité contrôlées. Le maintien d'un emballage cohérent, tel que l'utilisation de boîtes à gaufrettes ou de supports rembourrés, permet de protéger les substrats contre les rayures et la contamination pendant le transport et le stockage.

Q3 : Quelles sont les normes de qualité et les certifications qui s'appliquent aux substrats de cristal saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 A-Plane (11-20) 10 x 10 x 0,5 mm ?

R3 : Ces substrats sont généralement conformes à la norme ISO 9001 relative à la gestion de la qualité de la fabrication, qui garantit des processus de production cohérents et la traçabilité. De nombreux fournisseurs respectent également les spécifications ASTM régissant les tolérances dimensionnelles et les orientations cristallographiques. La conformité aux réglementations RoHS et REACH garantit l'absence de substances dangereuses. Les matériaux sont souvent soumis à des tests de pureté cristallographique et de planéité de surface, et peuvent faire l'objet d'inspections optiques et de métrologie pour vérifier leur stricte conformité aux normes industrielles.

Informations connexes

1. Propriétés et avantages du matériau

Grâce à sa structure cristalline robuste, le substrat Al2O3 à plan A (11-20) mesurant 10 x 10 x 0,5 mm présente une résistance exceptionnelle aux températures élevées et aux contraintes mécaniques. La disposition hexagonale des atomes d'aluminium et d'oxygène contribue à une dureté supérieure, ce qui le rend très résistant aux rayures et aux fractures pendant le traitement.

Ce substrat excelle également dans la minimisation de la conductivité électrique, ce qui est un avantage clé dans la conception microélectronique et optoélectronique. En outre, sa clarté optique exceptionnelle facilite l'expérimentation optique avancée et les applications d'imagerie, offrant aux chercheurs et aux ingénieurs une plateforme fiable pour des tests de haute précision.

2. Applications dans les industries de pointe

Les fabricants de composants optoélectroniques s'appuient sur le substrat cristallin Al2O3 à plan A (11-20) pour la fabrication de diodes électroluminescentes, de réseaux de capteurs et de transistors à haute fréquence. Les dimensions précises de 10 x 10 x 0,5 mm permettent une disposition standardisée des dispositifs, ce qui simplifie l'intégration dans divers systèmes de pointe.

En outre, les secteurs de l'aérospatiale et de la défense bénéficient de la stabilité thermique robuste de ce substrat en saphir, qu'ils utilisent pour développer des équipements de détection résistants capables de supporter des conditions extrêmes. En combinant une grande pureté et une orientation cristallographique uniforme, le saphir est devenu un matériau essentiel pour les applications de pointe où la fiabilité et les performances sont primordiales.