CY8295 Substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 plan A (11-20) 5 x 5 x 0.5 mm

Substrat de cristal de saphir d'oxyde d'aluminium, Al2O3 A-Plan (11-20) 5 x 5 x 0,5 mm Description

Notre substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium offre une pureté et des performances exceptionnelles, précisément adaptées pour répondre aux normes rigoureuses de la recherche et de la production. En tant que saphir de plan A (11-20), ce substrat de 5 x 5 x 0,5 mm possède une excellente conductivité thermique, une résistance chimique et une transparence optique, ce qui le rend particulièrement adapté aux applications à haute température et à fortes contraintes. Sa structure cristalline stable garantit un faible taux de défauts cristallins, ce qui permet une épitaxie en couche mince uniforme et une performance constante des dispositifs.

Fabriqué selon des contrôles de qualité stricts, chaque substrat est soumis à une inspection rigoureuse pour vérifier la précision de l'orientation et la finition de la surface. Ces caractéristiques sont essentielles pour des applications telles que la production de LED, le développement de semi-conducteurs et les dispositifs optiques avancés, où l'uniformité et la fiabilité des matériaux sont primordiales. Comptez sur ce substrat de cristal saphir à l'oxyde d'aluminium pour obtenir la clarté, la résistance mécanique et la précision nécessaires à la recherche de pointe et au déploiement technologique.

Substrat de cristal d'oxyde d'aluminium saphir, Al2O3 A-Plan (11-20) 5 x 5 x 0,5 mm Applications

Le substrat en cristal de saphir d'oxyde d'aluminium (Al2O3) A-Plane (11-20) 5 x 5 x 0,5 mm est connu pour sa conductivité thermique exceptionnelle, sa stabilité chimique et sa grande résistance mécanique. Ces propriétés en font un choix idéal pour l'électronique de pointe, les systèmes optiques et les applications à haute température. Sa tolérance étroite et sa structure cristalline uniforme permettent un traitement précis et des performances fiables dans divers contextes industriels, de recherche et commerciaux.

1. Applications industrielles

- Boîtiers de capteurs à haute température où la robustesse mécanique et la stabilité thermique sont essentielles.

- Fenêtres et revêtements protecteurs résistants à la corrosion pour les environnements de fabrication difficiles

2. Applications dans le domaine de la recherche

- Substrats pour les études de croissance épitaxiale en physique des semi-conducteurs, exploitant l'uniformité du cristal

- Guides d'ondes optiques de précision dans la recherche en photonique, bénéficiant de la clarté et de la faible absorption du cristal.

3. Applications commerciales

- Lunettes de montre résistantes aux rayures et couvercles de protection pour l'électronique grand public

- Composants de lentilles d'appareils photo haut de gamme exigeant une clarté optique et une durabilité excellentes

Substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 plan A (11-20) 5 x 5 x 0,5 mm Emballage

Chaque substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium est scellé individuellement dans une pochette antistatique et placé dans un conteneur rembourré pour la protection contre les chocs. Stocker dans un environnement propre et sec à température stable pour minimiser la contamination. Utiliser des gants et des procédures de manipulation délicates pour éviter les résidus de poussière ou d'empreintes digitales sur les surfaces. D'autres options de personnalisation comprennent l'emballage sous vide, un étiquetage spécifique et une épaisseur de rembourrage adaptée pour répondre à des exigences uniques en matière d'application ou de transport.

Emballage : Scellé sous vide, boîte en bois ou personnalisé.

Substrat de cristal de saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 plan A (11-20) 5 x 5 x 0,5 mm FAQs

Q1 : Quelles sont les principales propriétés du substrat en cristal de saphir d'oxyde d'aluminium, Al2O3 A-Plane (11-20) 5 x 5 x 0,5 mm ?

A1 : Les cristaux de saphir à l'oxyde d'aluminium (Al2O3) offrent une dureté extrêmement élevée, qui n'est surpassée que par celle du diamant. L'orientation du plan A (11-20) lui confère des propriétés anisotropes, ce qui le rend idéal pour certaines applications électroniques et optiques. Le substrat présente une conductivité thermique d'environ 30 W/mK à température ambiante, une grande inertie chimique et d'excellentes propriétés diélectriques. Sa transparence optique s'étend de l'ultraviolet à l'infrarouge, ce qui le rend approprié pour les composants optiques tels que les fenêtres et les lentilles.

Q2 : Comment ce produit doit-il être manipulé et stocké ?

R2 : En raison de leur dureté et de leur fragilité, ces substrats de saphir doivent être manipulés avec des gants propres et non pelucheux afin d'éviter toute contamination de la surface et toute rayure accidentelle. Il est recommandé de les stocker dans des environnements secs et contrôlés, avec un minimum de vibrations et une faible humidité. Lors du transport, placez les cristaux dans des supports de protection pour éviter les ébréchures et les fractures. Évitez de les exposer à des températures extrêmes ou à des produits chimiques agressifs sans prendre les mesures de protection appropriées.

Q3 : Quelles sont les normes de qualité et les certifications applicables aux substrats de cristaux de saphir à l'oxyde d'aluminium, Al2O3 A-Plane (11-20) 5 x 5 x 0,5 mm ?

A3 : Ces substrats saphir Al2O3 sont généralement conformes aux normes internationales telles que la norme ISO 9001 relative à la qualité de fabrication. Ils répondent également à des spécifications cristallographiques précises vérifiées par diffraction des rayons X et sont capables de supporter des processus à haute température. De nombreux fournisseurs respectent les directives de l'ASTM en matière de propriétés mécaniques et optiques, garantissant une épaisseur, une orientation et une finition de surface constantes. En outre, des certifications spécialisées telles que la conformité RoHS peuvent s'appliquer si les substrats sont utilisés dans des assemblages électroniques et optoélectroniques.

Informations connexes

1. Propriétés et avantages des matériaux

De nombreuses applications optiques et électroniques de pointe bénéficient de la dureté et de la stabilité thermique exceptionnelles du substrat cristallin en oxyde d'aluminium et saphir, Al2O3 A-Plan (11-20) 5 x 5 x 0,5 mm. Cette orientation spécifique, connue pour son plan cristallin uniforme, garantit un décalage minimal du réseau, ce qui le rend particulièrement adapté aux dispositifs microélectroniques à haute fréquence. Sa dureté Mohs impressionnante de 9 se traduit par une excellente résistance aux rayures, une caractéristique essentielle dans les environnements qui exigent des performances robustes sous contrainte mécanique. La déformation minimale du réseau du substrat contribue également à améliorer l'intégrité du signal dans les systèmes à radiofréquences (RF) et à micro-ondes.

Même à des températures élevées, le substrat conserve des propriétés physiques et chimiques stables, ce qui lui permet d'exceller dans les applications nécessitant un traitement ou un fonctionnement à haute température. Sa faible constante diélectrique et sa conductivité thermique élevée facilitent une dissipation efficace de la chaleur, ce qui réduit considérablement le risque de défaillance des dispositifs dans l'électronique de puissance. En outre, la transparence du saphir dans une large gamme de longueurs d'onde fait de ce cristal à plan A un candidat de choix pour les activités liées à l'optique, notamment la photonique, les systèmes laser et les solutions d'éclairage à haute intensité.

2. Tendances du marché mondial

La croissance rapide de la fabrication de semi-conducteurs, en particulier dans les domaines des réseaux 5G et de l'électronique de puissance, a considérablement stimulé la demande de substrats Al2O3 à plan A (11-20). Les industries du monde entier recherchent ces plaques de saphir pour leur capacité à favoriser des architectures de dispositifs plus compactes sans compromettre la fiabilité. Les économies émergentes continuant d'investir dans les infrastructures et les systèmes de communication de la prochaine génération, le besoin de substrats durables et performants s'est intensifié, consolidant la place de ces substrats de saphir dans la chaîne d'approvisionnement mondiale.

Des stratégies audacieuses dans le domaine de la recherche sur les matériaux avancés stimulent la concurrence entre les fabricants pour produire des substrats en saphir à plus grande échelle et avec des tolérances plus étroites. Les entreprises collaborent avec des instituts de recherche pour explorer de nouvelles méthodes de traitement des plaquettes, dans le but d'optimiser la qualité et de réduire les coûts globaux. Ces développements en cours renforcent non seulement l'adoption généralisée des substrats de cristaux de saphir à l'oxyde d'aluminium, mais indiquent également un marché robuste qui continue de se développer avec l'apparition de nouvelles applications dans l'automobile, l'aérospatiale et l'électronique grand public.