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Stanford Advanced Materials
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CY11157 Plaque de silicium recouverte de nitrure de titane (TiN)

Catalogue No. CY11157
Matériau TiN, Silicium
Pureté TiN : ≥99.995 %
Formulaire Substrat

Les plaquettes de silicium revêtues de nitrure de titane (TiN) sont produites à l'aide de techniques de dépôt contrôlées afin d'obtenir une couche de TiN uniforme et cohérente sur les substrats de silicium. Stanford Advanced Materials (SAM) utilise des techniques avancées de pulvérisation et de métrologie de surface, y compris l'analyse MEB, pour contrôler l'épaisseur et l'uniformité du film. Cette approche minimise la variabilité du processus et garantit que la plaquette atteint des paramètres de performance adaptés aux applications exigeantes des semi-conducteurs.

ENQUÊTE
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Description
Spécifications
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FAQ

Comment l'épaisseur de la couche de TiN est-elle contrôlée pendant le processus de revêtement ?

La couche de TiN est déposée à l'aide de techniques de pulvérisation cathodique avec un contrôle in situ pour réguler l'épaisseur du film. Ce processus maintient l'uniformité à une échelle microscopique, garantissant que le revêtement adhère bien et répond aux exigences spécifiques de l'application dans les dispositifs à semi-conducteurs.

Quelles sont les mesures prises pour garantir la qualité de la surface du substrat avant le revêtement ?

La plaquette de silicium subit un nettoyage de surface rigoureux et des processus de prétraitement pour éliminer les contaminants. La qualité de la surface est vérifiée à l'aide d'outils de métrologie avancés, ce qui garantit que la couche de TiN adhère de manière optimale et minimise les défauts susceptibles d'affecter les performances de l'appareil.

Le procédé de revêtement TiN est-il compatible avec l'équipement standard de fabrication de semi-conducteurs ?

Oui, le procédé de revêtement TiN est conçu pour s'intégrer aux lignes de fabrication de semi-conducteurs conventionnelles. Les paramètres de dépôt contrôlés et les dimensions standard du substrat facilitent l'incorporation dans les flux de production existants avec un minimum d'ajustements.

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