CY10348 Substrat de cristal de dihydrogénophosphate de potassium KH2PO4 poli sur une face (100) 10x5x1.0 mm

Substrat de cristal de phosphate dihydrogène de potassium KH2PO4 poli d'un côté (100) 10x5x1.0 mm Description

Fabriqué à partir de dihydrogénophosphate de potassium (KH2PO4) de haute pureté, ce substrat présente une finition polie sur une face qui réduit la diffusion optique et améliore la clarté. Les dimensions de 10 mm x 5 mm x 1,0 mm permettent l'intégration dans des systèmes optiques et photoniques standard. L'orientation cristallographique spécifiée (100) facilite la croissance contrôlée de la couche épitaxiale, garantissant des propriétés d'interface uniformes pour les applications laser et optiques non linéaires.

Substrat cristallin de dihydrogénophosphate de potassium KH2PO4 poli sur une face (100) 10x5x1.0 mm Applications

Systèmes optiques
- Utilisé comme substrat dans les dispositifs optiques non linéaires pour réduire la diffusion et améliorer la propagation du faisceau en tirant parti de sa finition polie d'un seul côté.
- Utilisé dans les composants de stabilisation laser pour obtenir une modulation précise de la lumière grâce à une surface toujours plane.

Traitement des semi-conducteurs
- Utilisé comme plate-forme pour la croissance épitaxiale de films dans la fabrication de dispositifs photoniques afin d'obtenir un dépôt uniforme de couches en tirant parti de son orientation cristallographique (100).
- Utilisé comme interface de diagnostic dans les assemblages de capteurs optiques pour améliorer la précision des mesures grâce à son état de surface contrôlé.

Substrat cristallin de dihydrogénophosphate de potassium KH2PO4 poli sur une face (100) 10x5x1.0 mm Emballage

Le substrat est emballé individuellement dans des conteneurs antistatiques et enveloppé dans des films de qualité salle blanche pour le protéger des dommages mécaniques et de la contamination. Des sachets anti-humidité protègent également l'unité pendant le transport. L'emballage est conçu pour être stocké dans un environnement sec et à température contrôlée, afin de garantir que la surface polie d'un côté reste intacte. Des options d'emballage personnalisées peuvent être définies en fonction des exigences de manutention spécifiques.

Questions fréquemment posées

Q1 : Quelles sont les mesures de contrôle de la qualité mises en œuvre pour vérifier la planéité de la surface polie ?
R1 : SAM utilise la profilométrie optique et la microscopie à haute résolution pour évaluer la surface polie. Ce processus permet de détecter les irrégularités microscopiques et de s'assurer que le substrat répond aux critères stricts de planéité pour les applications optiques.

Q2 : Comment l'orientation (100) influence-t-elle les performances du substrat dans la fabrication de dispositifs ?
R2 : L'orientation (100) fournit une structure cristallographique uniforme qui permet une croissance épitaxiale contrôlée. Cela minimise les défauts dans les couches suivantes et améliore la cohérence des performances des dispositifs optiques et photoniques.

Q3 : Quelles sont les conditions de stockage recommandées pour préserver la qualité de la surface du substrat ?
R3 : Il est recommandé de stocker le substrat dans un environnement sec, à température contrôlée et dans un emballage antistatique. Cela permet de minimiser la contamination par l'humidité et les particules et de préserver l'intégrité de la surface polie.

Informations complémentaires

Le dihydrogénophosphate de potassium (KH2PO4) est largement étudié pour ses propriétés optiques et constitue un matériau essentiel pour la fabrication de substrats destinés à des applications photoniques. Son orientation cristallographique, en particulier (100), joue un rôle important dans la détermination des caractéristiques de croissance des films épitaxiés et influence les performances des dispositifs en contrôlant les propriétés de l'interface.

Dans le domaine de la science des matériaux, des techniques rigoureuses de contrôle de la qualité telles que la profilométrie optique, la microscopie et la métrologie des surfaces sont essentielles pour évaluer l'uniformité des substrats polis. Ces méthodes garantissent que les substrats sont conformes à des critères de spécification stricts, ce qui favorise les progrès dans la fabrication de dispositifs optiques et la recherche scientifique.