CY10334 Dépôt chimique en phase vapeur Substrat monocristallin en diamant (100) 3x3x0,25 mm

Substrat monocristallin en diamant à dépôt chimique en phase vapeur (100) 3x3x0,25 mm Description

Fabriqué par dépôt chimique en phase vapeur, ce substrat monocristallin en diamant présente une orientation cristallographique (100) et des dimensions précises de 3x3 mm avec une épaisseur de 0,25 mm. La conductivité thermique élevée et l'inertie chimique du substrat favorisent son utilisation dans les processus semi-conducteurs et optoélectroniques. Sa surface uniforme et son intégrité structurelle réduisent les interférences de signaux, ce qui en fait une base efficace pour la fabrication de dispositifs avancés et l'intégration de composants de haute performance.

Dépôt chimique en phase vapeur Substrat monocristallin en diamant (100) 3x3x0,25 mm Applications

1)Applications électroniques
- Utilisation comme substrat dans les dispositifs RF pour obtenir une dissipation efficace de la chaleur en tirant parti de la conductivité thermique élevée du diamant.
- Appliqué comme couche isolante dans les circuits intégrés pour réduire le bruit électrique en tirant parti de l'inertie chimique du diamant.

2)Applications industrielles
- Utilisé comme composant de support dans les capteurs de précision pour améliorer la stabilité du signal en utilisant la structure cristalline uniforme (100) du substrat.
- Utilisé dans les systèmes d'usinage haut de gamme pour assurer la stabilité dimensionnelle sous contrainte thermique en tirant parti des propriétés thermiques inhérentes au diamant.

Dépôt chimique en phase vapeur Substrat monocristallin en diamant (100) 3x3x0,25 mm Emballage

Le substrat est emballé dans un boîtier en plastique antistatique, moulé sur mesure, avec des matériaux de rembourrage inertes pour éviter les chocs mécaniques et la contamination. Chaque unité est scellée dans une pochette anti-humidité et accompagnée de sachets déshydratants. Les instructions d'emballage prévoient le stockage dans un environnement sec à température contrôlée. Des options d'emballage personnalisées, y compris la compartimentation et l'étiquetage supplémentaire, sont disponibles pour répondre à des exigences de manipulation spécifiques.

Questions fréquemment posées

Q1 : Comment le procédé CVD influence-t-il la qualité cristalline du substrat ?
R1 : Le procédé CVD permet un dépôt contrôlé d'atomes de carbone, produisant une orientation cristalline uniforme (100). La surveillance en ligne, y compris l'analyse Raman et SEM, permet de garantir un minimum de défauts structurels, ce qui est essentiel pour les applications de semi-conducteurs.

Q2 : Quelles sont les mesures prises pour éviter la contamination du substrat pendant la production ?
R2 : Le processus de production comprend des conditions de salle blanche et des systèmes de filtration des particules. Après le dépôt, le substrat est inspecté sous fort grossissement afin d'identifier toute anomalie de surface, ce qui garantit que les contaminants n'affectent pas son intégration dans la fabrication du dispositif.

Q3 : Comment les dimensions du substrat favorisent-elles le traitement des semi-conducteurs ?
R3 : Les dimensions précises de 3x3 mm et l'épaisseur de 0,25 mm garantissent la compatibilité avec les équipements et les normes de traitement des semi-conducteurs existants. Ce contrôle dimensionnel est essentiel pour obtenir une intégration cohérente dans les assemblages microélectroniques et optoélectroniques.

Informations complémentaires

Les substrats de diamant produits par dépôt chimique en phase vapeur sont largement utilisés dans les industries des semi-conducteurs et de l'optoélectronique. La conductivité thermique élevée et l'inertie chimique du diamant en font un matériau de choix pour gérer la chaleur dans les applications à haute puissance et pour fournir une plate-forme stable pour la fabrication de dispositifs.

Des techniques de dépôt avancées et un contrôle rigoureux de la qualité ont permis d'affiner la production de substrats diamantés CVD. La capacité à contrôler l'orientation des cristaux et à réduire les défauts favorise leur intégration dans des systèmes nécessitant une gestion thermique et une isolation électrique précises, ce qui élargit leur rôle dans les technologies émergentes et les applications de recherche.