CY10323 Substrat de cristal de fluorure de calcium CaF2 poli sur une face (100) 10x10x0.5 mm

Substrat de cristal de fluorure de calcium CaF2 poli sur une face (100) 10x10x0,5 mm Description

Le substrat de cristal de fluorure de calcium CaF2 poli sur une face avec une orientation (100) est précisément dimensionné à 10x10x0,5 mm. Le polissage d'une seule face permet d'obtenir une finition de surface contrôlée, garantissant une rugosité minimale et une clarté optique accrue. L'inertie chimique du CaF2 le rend adapté aux environnements exigeant peu d'interférences, tels que les systèmes optiques à haute résolution et les systèmes à semi-conducteurs. Le substrat est produit sous un contrôle de qualité rigoureux afin de maintenir une uniformité essentielle pour les applications d'ingénierie de précision.

Substrat de cristal de fluorure de calcium CaF2 poli sur une face (100) 10x10x0,5 mm Applications

1.électronique et semi-conducteurs
- Utilisé comme composant diélectrique dans les modules laser pour obtenir une transmission stable du signal en tirant parti de sa faible perte optique.
- Utilisé comme substrat dans les réseaux de capteurs pour améliorer la fidélité du signal en utilisant ses propriétés de surface uniformes.

2)Dispositifs optiques
- Utilisé comme fenêtre optique dans les équipements spectroscopiques pour obtenir un passage précis de la lumière en tirant parti de la faible variation de l'indice de réfraction.
- Utilisé comme élément dans les assemblages optiques de précision pour améliorer les performances d'imagerie en utilisant son polissage et sa planéité contrôlés.

Substrat de cristal de fluorure de calcium CaF2 poli sur une face (100) 10x10x0,5 mm Emballage

Le substrat est emballé dans un conteneur antistatique doublé de mousse qui minimise les chocs mécaniques et la contamination. Il est scellé dans une pochette anti-poussière et stocké dans des conditions ambiantes contrôlées afin de préserver l'intégrité de sa surface. Les mesures de protection pendant le transport comprennent des matériaux de rembourrage et un emballage extérieur rigide. Des options d'étiquetage et de compartimentage personnalisés sont disponibles en fonction des exigences du projet.

Questions fréquemment posées

Q1 : Quelle qualité de finition de surface peut-on attendre du polissage unilatéral ?
R1 : Le processus de polissage unilatéral permet d'obtenir une finition de surface uniforme avec une rugosité contrôlée, ce qui est essentiel pour les applications nécessitant une clarté optique précise et une diffusion minimale.

Q2 : Comment l'orientation (100) contribue-t-elle à ses performances ?
R2 : L'orientation cristallographique (100) permet d'obtenir des propriétés optiques et électroniques cohérentes sur l'ensemble du substrat, ce qui permet d'obtenir des performances stables dans les dispositifs optiques et semi-conducteurs de précision.

Q3 : Quelles sont les précautions de manipulation recommandées pour ces substrats ?
R3 : Il est conseillé de manipuler le substrat à l'aide d'outils antistatiques et dans un environnement de salle blanche. Un stockage adéquat, à l'abri de la poussière et dans un environnement à température contrôlée, minimise la contamination et les dommages mécaniques.

Informations complémentaires

Les substrats en fluorure de calcium (CaF2) font partie intégrante des domaines où la transparence optique et une absorption minimale de la lumière sont essentielles. Leur faible indice de réfraction et leur inertie chimique favorisent les applications en spectroscopie et les assemblages optiques de haute précision. Ces substrats sont souvent évalués à l'aide de techniques métrologiques avancées afin de garantir l'uniformité de la surface et la cohérence des dimensions.

Dans le domaine de la science des matériaux, le contrôle minutieux du polissage du substrat et de l'orientation cristalline influe directement sur l'intégration dans les dispositifs semi-conducteurs et optiques. Une caractérisation complète utilisant l'interférométrie et la profilométrie de surface garantit que les substrats répondent aux spécifications exactes requises pour les applications de haute performance.