AU10312 Substrat monocristallin en or (Au) <111> ; 10x10x0.5 mm

Substrat d'or (Au) monocristallin <111> 10x10x0.5 mm Description

Le substrat monocristallin en or (Au) <111> 10x10x0,5 mm est une plaquette d'or monocristallin de haute pureté avec une orientation cristallographique <111> définie. La taille de 10x10 mm assure la compatibilité avec l'équipement standard de traitement des semi-conducteurs, tandis que l'épaisseur de 0,5 mm permet un comportement thermique uniforme et une précision de dépôt. Sa finition de surface homogène minimise les défauts lors des traitements ultérieurs, et les mesures analytiques confirment l'intégrité de la phase du substrat.

Substrat monocristallin en or (Au) <111> 10x10x0,5 mm Applications

Électronique
- Utilisé comme électrode conductrice dans les dispositifs microélectroniques pour obtenir une résistance de contact constante en tirant parti de sa structure monocristalline.
- Utilisé comme substrat pour le dépôt de couches minces dans la fabrication de semi-conducteurs afin d'améliorer l'uniformité interfaciale grâce à son orientation <111> précise.

R&D industrielle
- Utilisé comme norme d'étalonnage dans les équipements d'analyse de surface pour obtenir des mesures précises grâce à son épaisseur constante.
- Sert d'échantillon dans les essais de matériaux pour évaluer les propriétés d'usure en tirant parti de sa structure cristalline définie.

Substrat monocristallin en or (Au) <111> 10x10x0,5 mm Emballage

Le substrat est scellé individuellement dans un sac antistatique purgé à l'azote et placé à l'intérieur d'un conteneur rigide rembourré pour minimiser les chocs mécaniques. Il est stocké dans des conditions de température et d'humidité contrôlées pour éviter l'oxydation et la contamination. Des options d'emballage personnalisées, y compris l'étiquetage spécifique et la compartimentation, sont disponibles pour répondre aux exigences de manipulation et de stockage des laboratoires.

Questions fréquemment posées

Q1 : Quelles méthodes de test permettent de confirmer l'orientation cristallographique du substrat ?
R1 : La microscopie optique et les techniques de microscopie électronique sont utilisées pour confirmer l'orientation <111>, garantissant que le matériau répond aux normes cristallographiques spécifiques requises dans les applications de précision.

Q2 : Comment l'épaisseur du substrat influe-t-elle sur les processus de dépôt des matériaux ?
R2 : L'épaisseur de 0,5 mm assure une distribution uniforme de la chaleur pendant le dépôt. Cette uniformité dimensionnelle minimise la déformation lors des cycles thermiques, ce qui favorise la croissance reproductible des couches minces.

Q3 : Quelles sont les mesures prises pour minimiser la contamination lors de la manipulation des substrats ?
R3 : Les substrats sont manipulés dans des salles blanches et emballés dans des conteneurs antistatiques purgés à l'azote. Ces précautions limitent l'exposition à la poussière et à l'humidité, préservant ainsi l'intégrité de la surface du cristal.

Informations complémentaires

Les substrats d'or jouent un rôle essentiel dans le domaine de la recherche en science des matériaux en raison de leur inertie chimique et de leur excellente conductivité électrique. Leur nature monocristalline présente des avantages par rapport aux matériaux polycristallins, notamment une réduction des effets de limite de grain et une plus grande uniformité des résultats expérimentaux.

Les processus de fabrication contrôlés utilisés pour préparer ces substrats soutiennent la recherche en électronique, le développement de capteurs et le dépôt de couches minces. Une précision dimensionnelle fiable et l'intégrité cristallographique sont essentielles pour établir des références expérimentales et faire progresser l'optimisation des processus dans des applications spécialisées.