AL10303 Plaque de nitrure d'aluminium poli d'un côté sur saphir (0001) 2 pouces x 0.5 mm Film AlN 5000 nm

Modèle de nitrure d'aluminium poli d'un côté sur saphir (0001) Film AlN de 2 pouces x 0,5 mm 5000 nm Description

Ce substrat consiste en un film de nitrure d'aluminium (AlN) poli avec précision sur un substrat de saphir (Al2O3). Les dimensions de 2 pouces x 0,5 mm sont maintenues avec une épaisseur de film de 5000 nm, ce qui garantit la compatibilité avec les outils de traitement des semi-conducteurs. La surface polie améliore l'uniformité de l'interface, ce qui est essentiel pour minimiser les défauts lors de la fabrication des dispositifs et des processus d'intégration ultérieurs.

Modèle de nitrure d'aluminium poli d'un côté sur saphir (0001) Film AlN de 2 pouces x 0,5 mm 5000 nm Applications

1.électronique
- Utilisé comme couche diélectrique dans les circuits intégrés pour obtenir une capacité contrôlée en tirant parti de sa finition de surface uniforme.
- Appliqué dans les modules RF pour minimiser la perte de signal en utilisant l'épaisseur de film contrôlée du matériau.

2)Traitement des semi-conducteurs
- Sert de substrat dans les dispositifs microélectroniques pour améliorer la reproductibilité du processus en garantissant une interface lisse et sans défaut.
- Fréquemment utilisé pour les structures de test dans les emballages avancés afin d'obtenir une uniformité précise du film.

3)Capteurs industriels
- Utilisé comme composant dans les réseaux de capteurs pour les environnements à haute température en exploitant son inertie chimique et sa conductivité thermique élevée.
- Appliqué dans les systèmes optiques pour fournir une plate-forme stable pour l'étalonnage et la cohérence des performances.

Modèle de nitrure d'aluminium poli d'un côté sur saphir (0001) Film AlN de 2 pouces x 0,5 mm 5000 nm Emballage

Le produit est emballé dans un plateau antistatique fixé dans une boîte doublée de mousse pour éviter les dommages mécaniques et la contamination. Des films protecteurs sont utilisés sur la surface polie. Il est recommandé de stocker le produit dans un environnement propre et à température contrôlée afin de préserver l'intégrité du substrat. Un emballage personnalisé est disponible en fonction des exigences spécifiques de manipulation, d'étiquetage et de transport.

Questions fréquemment posées

Q1 : Quelles sont les mesures de contrôle de la qualité intégrées lors de la production de ce modèle ?
R1 : SAM utilise la microscopie optique et la profilométrie pour évaluer l'uniformité de la surface polie et contrôler l'épaisseur du film. Ces inspections systématiques permettent de minimiser les défauts de surface et de garantir la cohérence des dimensions.

Q2 : En quoi la structure du substrat est-elle utile au traitement des semi-conducteurs ?
R2 : Le film d'AlN uniforme et poli déposé sur le saphir améliore l'adhérence des couches et minimise les défauts interfaciaux. Cela favorise la reproductibilité du processus et la performance des dispositifs pendant les cycles de fabrication à haute température.

Q3 : Est-il possible de personnaliser les dimensions du substrat ou les propriétés du film ?
A3 : Oui, il est possible de personnaliser les dimensions du substrat et l'épaisseur du film. Des discussions détaillées sur les propriétés souhaitées du matériau et les paramètres de traitement sont menées afin d'adapter le substrat à des applications spécifiques de semi-conducteurs.

Informations complémentaires

Les substrats en nitrure d'aluminium (AlN) sont largement reconnus dans les technologies céramiques avancées en raison de leur conductivité thermique élevée et de leurs excellentes propriétés d'isolation électrique. L'intégration de films d'AlN avec des substrats de saphir offre un équilibre entre la stabilité mécanique et la performance thermique, ce qui profite à diverses applications de dispositifs semi-conducteurs.

Il est essentiel de comprendre l'interaction entre l'uniformité des films et la compatibilité des processus pour optimiser la fabrication des dispositifs. La caractérisation détaillée des matériaux, y compris l'analyse de la rugosité de la surface et de la densité des défauts, fait partie intégrante de la garantie que ces substrats répondent aux normes rigoureuses de l'industrie.