AL10294 Plaque de saphir dopée au fer Fe : Al2O3 (0001) 10x10x0.5 mm

Plaquette de saphir dopée au fer Fe : Al2O3 (0001) 10x10x0,5 mm Description

Ce produit est une plaquette de saphir composée d'Al2O3 dopé avec 0,05-0,1% en poids de Fe, présentant une orientation cristallographique (0001). La plaquette mesure 10x10 mm avec une épaisseur de 0,5 mm, ce qui garantit sa compatibilité avec les équipements standard de croissance des semi-conducteurs et des cristaux. Sa composition et son orientation définies réduisent la densité des défauts, ce qui favorise une croissance épitaxiale et une finition de surface uniformes. Le dopage au fer contrôlé permet d'ajuster les propriétés électriques et optiques essentielles pour les applications de haute précision.

Plaque de saphir dopée au fer Fe : Al2O3 (0001) 10x10x0,5 mm Applications

1.électronique et semi-conducteurs
- Utilisation comme substrat dans le dépôt de couches épitaxiales pour les dispositifs semi-conducteurs afin d'obtenir un alignement précis des cristaux en tirant parti de son orientation uniforme (0001).

2)Instrumentation optoélectronique
- Utilisé comme fenêtre optique dans les systèmes photoniques pour obtenir des propriétés de transmission stables en capitalisant sur son dopage contrôlé et sa faible densité de défauts.

3)Capteurs industriels
- Utilisé comme matériau de base dans la fabrication de capteurs pour maintenir la stabilité dimensionnelle dans des conditions thermiques variables en utilisant sa structure cristalline robuste.

Plaquette de saphir dopée au fer Fe : Al2O3 (0001) 10x10x0,5 mm Emballage

La plaquette est emballée individuellement dans une enceinte antistatique et scellée dans un sac anti-humidité. Elle est stockée à température ambiante dans un environnement peu humide afin d'éviter toute contamination et tout dommage physique. D'autres options d'emballage personnalisées, notamment le scellement sous vide et les compartiments marqués, sont disponibles pour une meilleure protection pendant le transport et le stockage.

Questions fréquemment posées

Q1 : Quel est l'impact du dopage contrôlé au fer sur les performances de la plaquette ?
R1 : L'ajout contrôlé de 0,05-0,1% en poids de Fe ajuste les propriétés optiques et électriques de la plaquette de saphir, assurant un impact cohérent sur la qualité de la couche épitaxiale et la performance du dispositif tout en maintenant un faible taux de défauts.

Q2 : Quelles sont les mesures prises pour confirmer l'orientation cristallographique de la plaquette ?
R2 : La plaquette fait l'objet d'une analyse de surface détaillée, notamment par microscopie électronique et diffraction des rayons X, afin de vérifier son orientation (0001), ce qui est essentiel pour garantir un alignement correct lors des étapes de traitement ultérieures.

Q3 : Les dimensions de la plaquette peuvent-elles être personnalisées pour répondre aux exigences d'un équipement spécifique ?
R3 : Oui, il est possible de personnaliser les dimensions des plaquettes. Les ajustements de taille et d'épaisseur peuvent être gérés sur la base d'exigences de traitement détaillées afin de garantir la compatibilité avec divers systèmes de dépôt et de gravure.

Informations complémentaires

Les plaquettes de saphir composées d'Al2O3 sont appréciées dans les environnements de traitement avancés pour leur excellente stabilité thermique et leur inertie chimique. L'incorporation de fer en tant que dopant peut modifier subtilement les propriétés intrinsèques, ce qui permet d'obtenir des performances adaptées dans les dispositifs électroniques et optiques.

La compréhension des caractéristiques précises des matériaux et des conditions de traitement est cruciale dans des domaines tels que la fabrication de semi-conducteurs et les applications de capteurs avancés. Ces substrats servent de plates-formes critiques pour le développement de dispositifs de haute performance dans la recherche et l'industrie.